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一種防偽材料及其制備方法與流程

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一種防偽材料及其制備方法與流程

本發(fā)明涉及防偽技術(shù),尤其涉及一種防偽材料及其制備方法。



背景技術(shù):

現(xiàn)有技防偽術(shù)中,大多以水印、有色纖維、熒光油墨印刷、微點(diǎn)或微小記號(hào)的形體及隨機(jī)分布等作為防偽手段。

比如,現(xiàn)有技術(shù)1,中國(guó)專利文獻(xiàn)CN102108653A,公開的一種片狀防偽材料,所述片狀防偽材料采用正四邊形以外的異形結(jié)構(gòu);且所述片狀防偽材料由以下層狀結(jié)構(gòu)組成:紙質(zhì)防偽載體層,其中所述紙質(zhì)防偽載體為由至少兩種纖維復(fù)配制造得到的紙張;以及防偽層。還公開了所述片狀防偽材料的制備方法以及含有該片狀防偽材料的防偽紙。本發(fā)明的片狀防偽材料可以獲得同時(shí)具備肉眼識(shí)別、快速機(jī)讀、專家分析等多層次的防偽功能的防偽紙。

再比如,現(xiàn)有技術(shù)2,中國(guó)專利文獻(xiàn)CN104610812A,公開的熒光硅納米顆粒作為防偽標(biāo)記的應(yīng)用,由硅源制備熒光硅納米顆粒,將得到的熒光硅納米顆粒用做防偽墨水來(lái)制備防偽圖案。由于硅納米顆粒具有很好的熒光性質(zhì),量子產(chǎn)率高,儲(chǔ)存穩(wěn)定性好,具有良好的激發(fā)波長(zhǎng)依賴性,制備的防偽圖案在不同激發(fā)波長(zhǎng)的光照下能顯示不同顏色的光,能起到很好的防偽效果。

再比如,現(xiàn)有技術(shù)3,中國(guó)專利文獻(xiàn)CN101673341A,公開的本發(fā)明涉及防偽技術(shù),尤其涉及一種微點(diǎn)防偽方法。該方法包括以下步驟:(1)提供一種微點(diǎn);(2)提供一種膠水,將微點(diǎn)混合于膠水之中;(3)向承載物上點(diǎn)混有微點(diǎn)的膠水;(4)固化膠水;(5)拍照膠滴,形成原始對(duì)比圖片;(6)原始對(duì)比圖片存入后臺(tái)數(shù)據(jù)庫(kù);(7)防偽驗(yàn)證拍照膠滴,形成被比圖片;(8)讀取后臺(tái)數(shù)據(jù)庫(kù)原始對(duì)比圖片,與被比圖片比較,作出真?zhèn)闻袛?;其中,?5)步所述的拍照膠滴,為放大拍照;第(7)步所述的防偽驗(yàn)證拍照膠滴,也是放大拍照。本發(fā)明提供一種不可仿制的微點(diǎn)防偽方法。與此相對(duì)應(yīng),中國(guó)專利文獻(xiàn)CN102267287A公開了一種類似的一種微點(diǎn)防偽印記的制備方法及及實(shí)現(xiàn)該方法的裝置。微點(diǎn)防偽印記的制備方法包括以下步驟:S1,提供一種微點(diǎn)標(biāo)記物,提供一種墨水;S2,混墨,即將微點(diǎn)標(biāo)記物與墨水混合均勻;S3,提供至少二個(gè)噴頭,提供目標(biāo)物;S4,噴射,通過(guò)噴頭將混有微點(diǎn)標(biāo)記物的墨水噴向標(biāo)的物;S5,干燥混有微點(diǎn)標(biāo)記物的墨水;在噴射過(guò)程中,混墨步驟連續(xù)地進(jìn)行,混墨、向噴頭供墨、噴射是在全封閉的液路內(nèi)完成的。本發(fā)明提供一種加工過(guò)程中不易混入雜質(zhì)、實(shí)時(shí)保持微點(diǎn)在墨水內(nèi)分布均勻的微點(diǎn)防偽印記的制備方法及實(shí)現(xiàn)該方法的裝置。

再比如,現(xiàn)有技術(shù)4,中國(guó)專利文獻(xiàn)CN1350274A,公開的一種含有多數(shù)微小記號(hào)或圖案的防偽標(biāo)記及其形成方法,以含有多數(shù)微小圖案記號(hào)的防偽標(biāo)記,達(dá)成鑒定物品真?zhèn)渭胺乐箓卧斓膽?yīng)用。物件鑒定用方法是根據(jù)在物件中所形成的至少一獨(dú)特標(biāo)記,它含有多數(shù)微小圖案或記號(hào),并以隨機(jī)組合的方式合于標(biāo)記內(nèi),以作為對(duì)比、鑒定的方法,而具有防止他人偽造及可以輕易達(dá)成識(shí)別及鑒定和對(duì)比的功效。

再比如,現(xiàn)有技術(shù)5,中國(guó)專利文獻(xiàn)CN105489112A,本發(fā)明涉及防偽技術(shù),尤其涉及一種防偽材料及其制備方法,防偽材料包括片狀的單晶硅模塊,單晶硅模塊具有鏤空區(qū)域,防偽材料還包括金屬模塊,金屬模塊鑲嵌于所述鏤空區(qū)域;防偽材料的制備方法,通過(guò)在玻璃基底上面鍍附著層、鍍犧牲層、鍍單晶硅層,涂布光固膠、曝光、顯影、清洗,刻蝕單晶硅層,二次涂膠、曝光、顯影、清洗,鍍金屬模塊,清洗光固膠,刻蝕犧牲層,清洗過(guò)濾;本發(fā)明提供一種具有多材質(zhì)、立體感的防偽材料及其制備方法。

然而,諸如以上列舉1至4,現(xiàn)有技術(shù)的復(fù)合纖維、熒光硅納米顆粒、微點(diǎn)或微小記號(hào)的形體及隨機(jī)分布等作為防偽手段,并不是向公開文本敘述的那樣可以防止他人偽造的效果,隨著科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步,這些技術(shù)手段均可以廉價(jià)仿制,不能仿制的只有現(xiàn)有技術(shù)3所述的后臺(tái)數(shù)據(jù)庫(kù),但后臺(tái)數(shù)據(jù)也不安全,企業(yè)的數(shù)據(jù)庫(kù)很容易遭受黑客攻擊,且需要通訊安全保障,仍然不理想。上述現(xiàn)有技術(shù)5,雖然克服了現(xiàn)有技術(shù)的缺陷,但金屬和單晶硅材料成本都較高,工藝成本也高,尤其是刻蝕單晶硅層,需要昂貴的ICP設(shè)備,對(duì)于普通用戶,實(shí)施壓力較大。因而,現(xiàn)有技術(shù)的防偽材料與防偽手段均有或多或少的安全隱患,無(wú)安全隱患的成本高,需要不斷推陳出新,不斷進(jìn)步。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的還在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供一種不易仿制的防偽材料。

本發(fā)明的目的還在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供一種成本低的防偽材料。

本發(fā)明的目的還在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供一種不易仿制的防偽材料的制備方法。

本發(fā)明的目的還在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的不足之處而提供一種具工藝成本低的防偽材料的制備方法。

本發(fā)明的目的可以通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)。

一種防偽材料,其特征在于:包括底層,底層上表面連接表層,底層面積大于表層面積。

所述的防偽材料,其特征在于:所述底層是光固膠;所述表層是加有顏料的光固膠。

所述的防偽材料,其特征在于:所述底層的光固可以加淺黃色顏料;所述表層是加有顏料的光固膠;所述表層的顏色深于底層顏色。

所述的防偽材料,其特征在于:所述表層的形狀是圖案或文字的形狀,圖案或文字構(gòu)成防偽信息。

所述的防偽材料,其特征在于:所述表層全部位于底層上表面區(qū)域內(nèi)。

所述的防偽材料,其特征在于:所述子層的形狀是圖案或文字的形狀。

所述的防偽材料,其特征在于: 所述底層的光固可以加淺黃色顏料。因?yàn)楣夤棠z本身是透明的,加淺黃色顏料后,設(shè)置表層時(shí)可以直接用底層套位,不需要在淹模板和半成品上設(shè)置對(duì)位線,工藝簡(jiǎn)單。

所述的防偽材料,其特征在于:所述底層厚度等于所述表層厚度,所述底層厚度加上所述表層厚度介于2至10微米之間。

本發(fā)明的目的還可以通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)。

一種防偽材料的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:S110,提供玻璃基底;S120,在玻璃基底上面鍍附著層;S130,在附著層上面鍍犧牲層;S140,在犧牲層上面涂布光固膠;S150,提供紫外線光源,提供第一次淹模板,將S140步驟涂布的光固膠層曝光;S160,提供顯影液,顯影;S170,提供純凈水,清洗;S180,在S170形成的半成品表面涂布光固膠與顏料的混合物;S190,提供第二次淹模板,將S180步驟制備混合物涂層曝光;S200,顯影;S210,清洗;S230,提供犧牲層蝕刻液,刻蝕犧牲層;S240,提供清洗過(guò)濾裝備及純凈水,清洗,過(guò)濾;其中, S160步驟,所述顯影,用顯影液固化部分光固膠層;S170步驟,清洗,用清純凈水清洗掉S160顯影步驟未固化部分光固膠層。

所述一種防偽材料的制備方法,其特征在于:所述S180步驟涂布光固膠與顏料的混合物,涂布層的厚度與S140步驟的涂布層一致。

所述一種防偽材料的制備方法,其特征在于:所述S140步驟,還包括提供懸涂裝備步驟,用懸涂方法涂布。

所述一種防偽材料的制備方法,其特征在于:所述光固膠可以選擇正光固膠和負(fù)光固膠其中的一種,S160步驟提到的固化部分光固膠層是指,曝光或未曝光的部分光固膠層,具體地,對(duì)于正光固膠曝光的部分光固膠層不固化,未曝光的部分光固膠層固化;對(duì)應(yīng)地,對(duì)于負(fù)光固膠曝光的部分光固膠層固化,未曝光的部分光固膠層不固化。

所述一種防偽材料的制備方法,其特征在于:所述光固膠可以選擇正光固膠和負(fù)光固膠其中的一種,所述S200步驟提到的顯影,是指固化部分混合物涂層,即曝光或未曝光的部分混合物涂層,具體地,對(duì)于正光固膠曝光的部分混合物涂層不固化,未曝光的部分混合物涂層固化;對(duì)應(yīng)地,對(duì)于負(fù)光固膠曝光的部分混合物涂層固化,未曝光的部分混合物涂層不固化。

所述一種防偽材料的制備方法,其特征在于:所述S110提供玻璃基底,還包括把玻璃片切成方形或長(zhǎng)方形,以及倒角、拋光、清洗、干燥步驟,供玻璃基底的厚度介于0.3至0.5毫米之間。

所述一種防偽材料的制備方法,其特征在于:所述S160步驟所述提供顯影液,顯影液是四甲基加水;所述S200步驟顯影,顯影液也是四甲基加水。

本發(fā)明的防偽材料,包括底層,底層上表面連接表層,底層面積大于表層面積;形式上只有底層和表層,表層的形狀構(gòu)成防偽信息,表層的形狀由原始淹模板確定,沒原始淹模板數(shù)據(jù),根本不可能反向測(cè)量或抄數(shù),因?yàn)閱蝹€(gè)防偽材料太小,且空間方向是不確定的;與現(xiàn)有技術(shù)相比,不易仿制,而且成本底。

本發(fā)明的防偽材料的制備方法,在玻璃基底上面鍍附著層,在附著層上面鍍犧牲層,在犧牲層上面涂布光固膠,提供紫外線光源,提供第一次淹模板,曝光,顯影,清洗,涂布光固膠與顏料的混合物,提供第二次淹模板,曝光,顯影,清洗,提供犧牲層蝕刻液,刻蝕犧牲層,提供清洗過(guò)濾裝備及純凈水,清洗,過(guò)濾; 整個(gè)工藝過(guò)程只涂布兩次光固膠,兩次曝光與清洗,刻蝕犧牲層也是必要的,工藝成本很低廉,在沒有第二淹模板原始數(shù)據(jù)的情況下,發(fā)明人自己也不能抄襲仿制別人的防偽材料,與現(xiàn)技術(shù)相比,本發(fā)明提供了不易仿制且成本低的防偽材料的制備方法。

附圖說(shuō)明

圖1是本發(fā)明第一個(gè)實(shí)施例的正面示意圖。

圖2是本發(fā)明第一個(gè)實(shí)施例的剖面示意圖,即圖1的A-A剖面圖。

圖3是本發(fā)明第二個(gè)實(shí)施例S110至S130步驟的示意圖。

圖4是本發(fā)明第二個(gè)實(shí)施例S140至S170步驟的示意圖。

圖5是本發(fā)明第二個(gè)實(shí)施例S180至S210步驟的示意圖。

圖6是本發(fā)明第二個(gè)實(shí)施例S230步驟的示意圖。

圖7是本發(fā)明第二個(gè)實(shí)施例的流程圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳述。

參考圖1、圖2,本發(fā)明第一個(gè)實(shí)施例是一種防偽材料,包括底層002,底層002上表面連接表層001,底層002面積大于表層001面積。所述底層002是光固膠,應(yīng)當(dāng)理解,所述底層002也可以是加有淺黃色顏料的光固膠;所述表層001是加有顏料的光固膠;因?yàn)榈讓?02是透明的,所述表層001的顏色深于底層002的顏色。本實(shí)施例中表層是紅色的。所述表層001的形狀是圖案或文字的形狀,本實(shí)施例中表層001的形狀是紅色的頭狼,紅色的頭狼形狀構(gòu)成防偽信息,應(yīng)當(dāng)理解,表層001的形狀也可以是字母或文字,與本實(shí)施例是等同的。本實(shí)施例中,所述表層001全部位于底層002上表面區(qū)域內(nèi)。所述底層的厚度等于所述表層的厚度,所述底層加上所述表層的厚度介于2至20微米之間。

參考圖3至圖7,本發(fā)明第二個(gè)實(shí)施例是一種防偽材料的制備方法,即本發(fā)明第一個(gè)實(shí)施例所述之防偽材料的制備方法,包括以下步驟:S110,提供玻璃基底211;S120,在玻璃基底上面鍍附著層212;S130,在附著層上面鍍犧牲層213,構(gòu)成第一半成品210;S140,在犧牲層213上面涂布光固膠層301;S150,提供紫外線光源999,提供第一次淹模板302,將S140步驟涂布的光固膠層301曝光; S160,提供顯影液,顯影,顯影液可以用四甲基加水;S170,提供純凈水,清洗,成為帶有底層002的第二半成品310;S180,在S170形成的半成品310表面涂布光固膠與顏料的混合物,形成混合物層402; S190,提供第二次淹模板402,將S180步驟制備混合物層401曝光;S200,顯影;S210,清洗,成為帶有底層002和表層001的第三半成品410;S230,提供犧牲層蝕刻液,將第三半成品410浸入蝕刻液中,刻蝕犧牲層,將只有底層002和表層001的成品分離出來(lái);S240,提供清洗過(guò)濾裝備及純凈水,清洗,過(guò)濾;其中, S160步驟,所述顯影,用顯影液固化部分光固膠層;S170步驟,清洗,用清純凈水清洗掉S160顯影步驟未固化部分光固膠層。

在本實(shí)施例中,所述S140步驟,還包括提供懸涂裝備步驟,用懸涂方法涂布。所述光固膠可以選擇正光固膠和負(fù)光固膠其中的一種,S160步驟提到的固化部分光固膠層是指,曝光或未曝光的部分光固膠層,具體地,對(duì)于正光固膠曝光的部分光固膠層不固化,未曝光的部分光固膠層固化;對(duì)應(yīng)地,對(duì)于負(fù)光固膠曝光的部分光固膠層固化,未曝光的部分光固膠層不固化。所述光固膠可以選擇正光固膠和負(fù)光固膠其中的一種,所述S200步驟提到的顯影,是指固化部分混合物涂層,即曝光或未曝光的部分混合物涂層,具體地,對(duì)于正光固膠曝光的部分混合物涂層不固化,未曝光的部分混合物涂層固化;對(duì)應(yīng)地,對(duì)于負(fù)光固膠曝光的部分混合物涂層固化,未曝光的部分混合物涂層不固化。

在本實(shí)施例中,所述S110提供玻璃基底211,還包括把玻璃片切成方形或長(zhǎng)方形,以及倒角、拋光、清洗、干燥步驟,供玻璃基底的厚度介于0.3至0.5毫米之間。所述S200步驟顯影,顯影液也可以是四甲基加水。所述S230步驟,提供犧牲層蝕刻液,對(duì)于S130步驟所鍍的犧牲層是Al的話,提供蝕刻液是鹽酸、氫氧化鈉中的一種;對(duì)于S130步驟所鍍的犧牲層是Cu的話,提供蝕刻液是雙氧水。

在本實(shí)施例中,所述S140及S180步驟,所提到的光固膠,是單一紫外線光譜固化的光固膠。所述S150步驟及S190步驟,所提到淹模板,根據(jù)正光固膠或負(fù)光固膠的選擇,決定選擇陰淹模板與陽(yáng)淹模板。

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