一種防偽印章的制作方法
【專利說明】
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及防偽領域，具體涉及一種防偽印章。
【【背景技術】】
[0002]目前，在印章的防偽領域，出現了各種不同的分析印章真?zhèn)蔚姆椒?。例如，有些是通過比較標準印章與待驗印章的相似度來判斷待驗印章的真?zhèn)巍?br>【
【發(fā)明內容】
】
[0003]本實用新型提供了一種防偽印章，具有良好的防偽效果。
[0004]一種印章防偽印章，包括章面，所述章面上存在有效章面區(qū)域和凹陷的隨機分布的防偽特征點。
[0005]在一個實施例中，所述防偽特征點為離散分布的點，或者所述防偽特征點之間連成一個區(qū)域。
[0006]在一個實施例中，所述有效章面區(qū)域包括文字和圖案，所述防偽特征點位于所述文字和圖案上。
[0007]在一個實施例中，所述文字上的防偽特征點為離散分布的點，所述圖案上的防偽特征點之間連成一個區(qū)域。
[0008]在一個實施例中，所述圖案位于所述章面的中間，所述文字位于所述圖案的外側。
[0009]在一個實施例中，所述有效章面區(qū)域包括圓環(huán)，所述圖案與文字在所述圓環(huán)之內。
[0010]本實用新型的有益效果是:通過在印章的章面上設置隨機分布的凹陷的防偽特征點，這樣，防偽特征點對應的空白區(qū)域與有效章面區(qū)域對應的隨機空白區(qū)域混合在一起，相互融合，仿造者難于區(qū)分而不能仿制，而通過與數據庫中的標準印章進行比對，則可以判斷印章的真?zhèn)危_到良好的防偽效果。
【【附圖說明】】
[0011]圖1是本實用新型一種實施例的(數據庫存儲的)標準印章示意圖；
[0012]圖2是具有與圖1對應印章的圖像示意圖。
【【具體實施方式】】
[0013]以下對實用新型的較佳實施例作進一步詳細說明。
[0014]如圖1所示，一種實施例的印章1，包括印章章面，印章章面上包括有效章面區(qū)域和凹陷的隨機分布的防偽特征點11、12、13和14，其中，有效章面區(qū)域是指突出于印章章面的、且當印章章面沾上印泥(或印油等)后可以在被蓋章區(qū)域留下章痕的區(qū)域，例如圖1中印章章面上文字16、圖案17和圓環(huán)18，圖案17和文字16在圓環(huán)18之內，而防偽特征點11和13則是分布在圓環(huán)上的凹陷，當印章I蓋在被蓋章區(qū)域時，這些防偽特征點對應的區(qū)域并不會留下相應的章痕，成為空白區(qū)域。而通常在蓋章的時候，即使是有效章面區(qū)域也會因為未與印泥或印油等充分粘合，而導致被蓋章區(qū)域的對應區(qū)域也會留下隨機分布的空白區(qū)域，這樣，防偽特征點對應的空白區(qū)域與這些隨機空白區(qū)域混合在一起，相互融合，仿造者難于區(qū)分而不能仿制。
[0015]當印章I蓋在被蓋章區(qū)域時，與章面對應的部分會產生印泥或印油沒有覆蓋的區(qū)域，即不完全覆蓋特征，這些不完全覆蓋特征中，有一部分是因為有效章面區(qū)域沒有沾上印泥而產生的，有一部分是因為防偽特征點產生的，這些不完全覆蓋特征混合、融合在一起，仿造者難于區(qū)分而不能仿制。
[0016]而這些防偽特征點，可以是離散分布的點，也可以是多個防偽特征點連成一片形成一個區(qū)域，這樣都可以達到防偽效果。
[0017]圖案17上的防偽特征點之間可以連成一個區(qū)域。
[0018]一種實施例的印章防偽方法，包括如下步驟:
[0019]提供印章步驟，提供一個印章1，所述印章I的章面上存在有效章面區(qū)域和凹陷的防偽特征點。
[0020]提供數據庫步驟，提供一個數據庫，所述數據庫存儲有標準印章的數據，所述標準印章的數據包含了所述印章I的有效章面區(qū)域和所述防偽特征點11、12、13、14、15的信息，其中，所述有效章面區(qū)域和防偽特征點分別用第一數值和第二數值表示。
[0021]如圖1所示，是數據庫存儲的標準印章的示意圖，圖中的標準印章的角度為零，數據庫記載了有效章面區(qū)域和防偽特征點的相對位置信息，所述有效章面區(qū)域和防偽特征點分別用第一數值(例如I)和第二數值表示(例如2)。
[0022]在實際應用中，可以先對印章的防偽特征點進行排版，從而得到標準印章存儲在數據庫中，并備案到公安局的數據庫中，然后再通過雕刻等手段制造相應的印章。
[0023]在一個實施例中，可以利用一個不具有防偽特征點的源印章，即源印章上僅僅具有效章面而不具有凹陷的防偽特征點，將源印章沾上印油后在紙面上蓋出多個印章，通過掃描這些印章得到源印章圖像，然后從多個源印章圖像中提取隨機分布的空白點(不完全覆蓋特征)，這些空白點是因為有效章面區(qū)域沒有沾上印泥而產生的，將這些空白點作為防偽特征點，當然，如果蓋上一個印章并形成一個源印章圖像，能夠提取足夠的空白點也可以。
[0024]這樣得到的防偽特征點與有效章面區(qū)域沒有沾上印泥而產生的空白點更加接近，蓋出的印章中兩者混合融合在一起，制作得到的具有這些防偽特征點的印章更加難以被區(qū)分和復制。
[0025]分離待驗印章步驟，將蓋有所述印章的圖像進行二值化，將所述圖像上的章從所述圖像中分離得到待驗印章。
[0026]對于一個蓋印章I的圖像，需要驗證圖像上的印章的真?zhèn)巍?br>[0027]首先將該圖像進行二值化(當然，前提是背景、蓋章區(qū)域的字體和印章的印泥(或印油等)三者的顏色應該不同)，將圖像中的印章的顏色以外的顏色都替換為與不同于印章的顏色，例如，印章的顏色是紅色(第一像素值)時，可以將背景顏色(例如黃色)和字體的顏色(例如是黑色)都替換為白色(第二像素值)，當然也可以替換為其他顏色，只要能與印章的顏色區(qū)別開。然后去除一些二值化圖像上的噪聲，在將二值化后的圖像上的章從所述圖像中分離得到待驗印章。
[0028]旋轉步驟，使所述待驗印章和所述標準印章相對旋轉，直至所述待驗印章與所述標準印章的有效章面區(qū)域重合度最高，所謂重合度即指構成所述待驗印章的點與構成所述標準印章的有效章面區(qū)域的點(用第一數值表示)的重合數量占總的所述標準印章的有效章面區(qū)域的點的比例。
[0029]在一個實施例中，可以通過旋轉所述標準印章并保持所述待驗印章靜止，而使所述待驗印章和所述標準印章相對旋轉。如果旋轉待驗印章會造成較大的誤差，導致得到的重合度有誤差。
[0030]在一個實施例中，可以通過如下方式得到最高的重合度:
[0031]計算當前所述待驗印章與所述標準印章的有效章面區(qū)域重合度，然后旋轉所述標準印章一個設定角度，再計算所述待驗印章與所述標準印章的有效章面區(qū)域重合度…直至所述待驗印章與所述標準印章的有效章面區(qū)域重合度最高，判斷此時待驗印章與標準印章重合。
[0032]判斷步驟，在所述待驗印章與所述標準印章的有效章面區(qū)域重合度最高的情況下，在所述待驗印章中統(tǒng)計與所述標準印章的防偽特征點對應位置的有效的防偽特征點的個數(即統(tǒng)計像素值為第二像素值的點的個數)，并根據所述有效的防偽特征點的個數與所述標準印章的防偽特征點總數的比值來判斷所述印章的真?zhèn)吻闆r。
[0033]在所述判斷步驟中，設定有效比率閾值，若所述有效的防偽特征點的個數與所述標準印章的防偽特征點總數的比值大于所述有效比率閾值，則判斷所述印章為真印章，若所述有效的防偽特征點的個數與所述標準印章的防偽特征點總數的比值小于所述有效比率閾值，則判斷所述印章為可疑印章。
[0034]例如，如圖1所示，當標準印章與待驗印章重合后，標準印章的防偽特征點13的對應位置，待驗印章并不存在對應的防偽特征點，其他位置都存在相應的防偽特征點，例如防偽特征點11、12、14和15，那么這些即為有效的防偽特征點，有效比率=4/5 = 0.8，若有效比率閾值為0.6，那么將圖2所示的待驗印章判斷為真印章。
[0035]由于在實際蓋章中，待驗印章可能是旋轉了一定角度的，如圖1和2所示，待驗印章相比標準印章旋轉了超過90°，如果將此時的待驗印章與標準印章即計算有效比率，那么很大可能會導致計算錯誤，因為此時統(tǒng)計的有效的防偽特征點都是錯誤的。
[0036]以上內容是結合具體的優(yōu)選實施方式對本實用新型所作的進一步詳細說明，不能認定本實用新型的具體實施只局限于這些說明。對于本實用新型所屬技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型構思的前提下，還可以做出若干簡單推演或替換，都應當視為屬于本實用新型由所提交的權利要求書確定的專利保護范圍。
【主權項】
1.一種防偽印章，包括章面，其特征是，所述章面上存在有效章面區(qū)域和凹陷的隨機分布的防偽特征點。2.如權利要求1所述的防偽印章，其特征是，所述防偽特征點為離散分布的點。3.如權利要求1所述的防偽印章，其特征是，所述有效章面區(qū)域包括文字和圖案，所述防偽特征點位于所述文字和圖案上。4.如權利要求3所述的防偽印章，其特征是，所述文字上的防偽特征點為離散分布的點。5.如權利要求3所述的防偽印章，其特征是，所述圖案位于所述章面的中間，所述文字位于所述圖案的外側。6.如權利要求3所述的防偽印章，其特征是，所述有效章面區(qū)域包括圓環(huán)，所述圖案與文字在所述圓環(huán)之內。
【專利摘要】本實用新型公開了一種防偽印章，包括章面，所述章面上存在有效章面區(qū)域和凹陷的隨機分布的防偽特征點。本實用新型可以起到良好的防偽效果。
【IPC分類】B41K1/38
【公開號】CN204641108
【申請?zhí)枴緾N201520128092
【發(fā)明人】陳錦昌
【申請人】深圳市創(chuàng)業(yè)印章實業(yè)有限公司
【公開日】2015年9月16日
【申請日】2015年3月5日