制備含有活性吸氣劑的真空絕緣玻璃(vig)窗單元的方法
【專利說明】制備含有活性吸氣劑的真空絕緣玻璃(VIG)窗單元的方法
[0001]本公開涉及一種真空絕緣玻璃(VIG)窗單元配置以及用于制備VIG窗單元的方法。特別是，該公開涉及一種在制備VIG窗單元的過程中激活吸氣劑的技術(shù)。在示例性實(shí)施例中，至少一個(gè)吸氣劑，在基片之間的腔被排空(例如泵送)的泵出過程期間和/或結(jié)束時(shí)被激活。吸氣劑通常被分成兩種類型:蒸發(fā)性吸氣劑(EGs)和非蒸發(fā)性吸氣劑(NEGs)。雖然，本公開適用于EG和NEG兩種類型，但特別適用于含有NEG類型吸氣材料的吸氣劑，其具有較低的激活溫度。
[0002]背景和示例性實(shí)施例概述
[0003]真空絕緣玻璃(VIG)窗單元通常包括至少兩個(gè)分離的玻璃基片，其中附有排空的低壓空間/腔。上述基片由外邊緣密封互相連接并通常包括隔離片，位于玻璃基片之間，來保持玻璃基片之間的間距，防止由于基片之間的低壓排空的環(huán)境而造成玻璃基片損毀。一些示例性 VIG 配置在類似美國專利 Nos.5，657，607，5，664，395，5，657，607，5，902，652，6，506，472和6，383，580中被公開，在此其公開的內(nèi)容被納入此處作為參照。
[0004]圖1和圖2示出現(xiàn)有的VIG窗單元I和用于形成VIG單元I的元件。例如VIG單元I可包括兩個(gè)分離的玻璃基片2、3，其中附有排空的低壓空間/腔6。玻璃片或基片2、3由外邊緣密封4互相連接，其可由熔融焊料玻璃被制成。玻璃基片2、3之間可包括一組支承柱/隔離片5，鑒于基片2、3之間存在的低壓空間/間隙6，來維持VIG單元I的玻璃基片2、3的間距。
[0005]泵出管8可通過焊料玻璃9被氣密密封至空穴/孔10，從玻璃基片2的內(nèi)表面通向玻璃基片2外表面中的凹槽11底部，或選擇性地至玻璃基片2的外表面。真空被連接至泵出管8，將內(nèi)部腔6排空(例如泵送)至低于大氣壓的低壓。在腔6排空后，管8的部分(例如，頂端)被熔化來密封低壓腔/空間6中的真空。選擇性的凹槽11可用來固定密封的泵出管8。
[0006]如圖1-2中所示出的，吸氣劑12可包括在凹槽13內(nèi)，該凹槽配置在玻璃基片中的一個(gè)地內(nèi)表面中，例如，玻璃基片2。吸氣劑12可用來吸收和/或結(jié)合一些可能遺留在排空或密封的腔6中的殘余雜質(zhì)。該吸氣劑包括金屬混合，可與氣體反應(yīng)，將氣體雜質(zhì)保持在吸氣表面和/或溶解該氣體。
[0007]在此公開的技術(shù)用于在制備VIG窗單元的過程中激活吸氣劑。在示例性實(shí)施例中，至少一個(gè)吸氣劑，在基片之間的腔被排空的泵出過程期間和/或結(jié)束時(shí)被激活。
[0008]在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，提供一種制備真空絕緣玻璃(VIG)窗單元的方法，所述方法包括:配置平行的第一和第二玻璃基片，將多個(gè)隔離片和密封配置在所述第一和第二基片之間，并將位于所述玻璃基片之間的腔排空至低于大氣壓的壓力，并在所述腔中配置至少一個(gè)吸氣劑；以及在所述腔被排空至低于大氣壓的壓力的排空過程期間和/或基本結(jié)束時(shí)，激活所述吸氣劑。
[0009]在本發(fā)明的示例性實(shí)施例中，提供一種制備真空絕緣玻璃(VIG)窗單元的方法，所述方法包括:配置平行的第一和第二玻璃基片，將一組隔離片和密封配置在所述第一和第二基片之間，并將位于所述玻璃基片之間的腔排空至低于大氣壓的壓力，且吸氣劑由所述第一基片支撐；以及引導(dǎo)激光束穿過由所述第二基片支撐的泵出管，從而所述激光束沖擊所述吸氣劑并激活所述吸氣劑。
[0010]以下，有關(guān)示例性實(shí)施例參照附圖對(duì)上述和其他實(shí)施例的優(yōu)點(diǎn)進(jìn)行說明，其中，相同的參照符號(hào)表示相同的元件。
[0011]附圖簡要說明
[0012]圖1是示出現(xiàn)有的VIG單元的橫截面示圖；
[0013]圖2是圖1中現(xiàn)有的VIG單元的俯視圖；
[0014]圖3是示出根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的示例性VIG窗單元和用于激活吸氣劑的技術(shù)的部分橫截面圖；和
[0015]圖4是示出根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)示例性實(shí)施例的示例性VIG窗單元和用于激活吸氣劑的技術(shù)的部分橫截面圖。
_6] 示例性實(shí)施例的具體說明
[0017]在此參照附圖對(duì)示例性實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明，相同的參照符號(hào)表示相同的元件。應(yīng)理解，在此所述的實(shí)施例僅用于說明，并不局限于此，本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在不脫離后附的權(quán)利要求書的精神和范圍下可進(jìn)行各種修改。
[0018]參考圖3，示出示例性VIG窗單元I的橫截面示圖。VIG窗單元I可用于，例如，住宅，辦公樓，公寓樓，門，和/或類似，但不局限于此。VIG窗單元I包括隔開的第一和第二透明及基本平行的玻璃基片2、3，可通過邊緣密封4被互相連接，邊緣密封可以是，例如包括釩基或VBZ型的密封，或是焊接玻璃型的密封，但并不局限于此。示例性釩基或VBZ型的密封組合物在2012年I月20日提交的美國專利申請(qǐng)N0.13/354，963中被公開，其全部內(nèi)容被納入此處作為參考。在示例性實(shí)施例中，基于VBZ(例如，銀，鋇，鋅)的密封組合物在13/354963，并可用于邊緣密封4和/或基于熔塊的管密封9。在示例性實(shí)施例中，常規(guī)的焊料玻璃熔塊材料也可用于氣密邊緣密封4和/或基于熔塊的管密封9。由于與其他可用來在VIG單元中形成密封的常規(guī)玻璃熔塊組合物相比，VBZ組合物具有更低的燃燒溫度(例如，< 2500C )，因此在使用VBZ型的密封組合物時(shí)，低溫密封的熱剖面被用來維持所需的VIG單元的玻璃回火。在此，應(yīng)理解，本發(fā)明公開的實(shí)施例同樣適用于使用任何合適的密封材料的VIG配置。
[0019]在實(shí)施例中，透明的玻璃基片2、3可大致為相同的尺寸。然而，在其他示例性實(shí)施例中，玻璃基片2可大于另一個(gè)玻璃基片3，在VIG單元的邊緣附近形成L形階梯。玻璃基片2、3中的一個(gè)或兩個(gè)還可選擇性地包括至少一種涂層材料(未示出)例如低輻射涂層，但并不局限于此。應(yīng)理解，玻璃基片2、3中至少一個(gè)的內(nèi)表面可存在有多種涂層，且這些涂層向VIG窗單元I提供各種有利的性能特征。在實(shí)施例中，用于阻止紅外輻射的低輻射涂層被配置在基片3的內(nèi)表面3a上(與支撐吸氣劑的基片2相對(duì))。在實(shí)施例中，VIG窗單元的可見光透射率至少約30%，更優(yōu)選是至少約40%，甚至更優(yōu)選是至少約50%，且甚至更優(yōu)選是至少約60 %或70 %。
[0020]一組支柱/隔離片5位于玻璃基片2、3之間，將基片的空間保持在低于大氣壓的壓力下，最終配置成基片2、3之間的低壓排空的腔/空間6。在實(shí)施例中，例如，隔離片的高度可約為0.1-1_，更優(yōu)選是約為0.2-0.4_。該隔離片5的高度可大致定義真空/排空的腔6的高度。如上所述，隔離片5優(yōu)選的尺寸是足夠小從而不引人注目。根據(jù)示例性實(shí)施例，隔離片5可由焊料玻璃，玻璃，陶瓷，金屬，聚合物，或任何其他合適的材料制成。此外，隔離片5可以是，例如，圓柱形，球形，圓形，角形，C形，枕形或任何其他合適的形狀。
[0021]泵出管8，其可利用焊料玻璃9被氣密密封，被配置穿過一個(gè)玻璃基片中的孔22，例如，基片3。泵出管8被用來在工程中排空基片2、3之間的腔6，例如，通過將真空泵連接至泵出管8的末端，并將腔6排至低壓，例如，低于大氣壓的壓力。選擇性地，腔可在低壓室中被排空。在優(yōu)選的實(shí)施例中，