1.一種按摩足浴盆，包括盆體(1)，所述盆體(1)的底部具有向上凸起的按摩臺(tái)(2)，其特征在于，所述按摩臺(tái)(2)包括位于按摩臺(tái)(2)頂部且制為平面的平臺(tái)面(21)、位于平臺(tái)面(21)且向下傾斜設(shè)置的前斜面(22)和位于平臺(tái)面(21)后側(cè)且向下傾斜設(shè)置的后斜面(23)，所述按摩臺(tái)(2)上設(shè)置有若干個(gè)下凹的安裝槽(24)，所述安裝槽(24)內(nèi)設(shè)置有按摩輪(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述安裝槽(24)為由前往后貫穿按摩臺(tái)(2)的通槽。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述前斜面(22)和平臺(tái)面(21)之間平滑過(guò)渡，所述后斜面(23)與平臺(tái)面(21)之間平滑過(guò)渡。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述按摩輪(3)的輪面上設(shè)置有若干個(gè)半球狀凸起的按模塊(31)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述按摩輪(3)由磁石制成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述盆體(1)底部的前端還設(shè)置有藥盒(4)和沿著盆體(1)左右方向橫向貫穿藥盒(4)的流水槽(5)，所述藥盒(4)的頂部設(shè)置有蓋板(6)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述蓋板(6)鉸接在盆體(1)的底部。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述蓋板(6)具有若干個(gè)通孔(61)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述按摩臺(tái)(2)頂部的中心位置上設(shè)置有磨腳石(7)。
10.權(quán)利要求1或2或3所述的按摩足浴盆，其特征在于，所述盆體(1)頂部的前端設(shè)置有擋板(8)。