專利名稱：溝槽屋頂瓦片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型屬于建筑材料，具體涉及一種屋頂瓦片。
背景技術(shù)：
目前廣泛使用的屋頂瓦片是具有雙導(dǎo)流槽的瓦片。這種瓦片施工時需要用油氈做底層，由于油氈的易腐爛，使用壽命短從而影響整個瓦面片的使用壽命。另外這種瓦片使用時，瓦片之間的扣接處易漏水致使整個屋頂漏水。

發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的在于提供一種溝槽屋頂瓦片，以克服上述瓦片使用上的缺陷。
本實(shí)用新型的技術(shù)方案為溝槽屋頂瓦片包括平面或曲面的瓦面，瓦面正面的三個邊緣處設(shè)凸緣，其中一側(cè)凸緣向瓦面外伸出向下開設(shè)連接槽，瓦面的反面的前端邊緣處設(shè)凸緣，該凸緣與上述三個凸緣的位子錯開。
本實(shí)用新型的瓦片結(jié)構(gòu)新穎，瓦片三個邊緣設(shè)凸緣形成瓦面的單向?qū)Я鞑?，使水只能順瓦面?dǎo)流槽流動，瓦片之間不會出現(xiàn)漏水。該瓦片施工時，不需要油氈，增加瓦片的使用壽命，減少屋面的翻修次數(shù)，屋頂無老鼠藏身處，空氣流通。使用該瓦片降低山尖高度，減少紅磚的用量。該瓦片可手工生產(chǎn)也可機(jī)械化生產(chǎn)。


圖1 溝槽屋頂瓦片正面示意圖圖2 溝槽屋頂瓦片反面示意圖具體實(shí)施方式
如圖1所示，本實(shí)施例的瓦面面是平面，瓦面1的左側(cè)邊緣設(shè)一凸緣2，瓦面右側(cè)設(shè)一凸緣3，瓦面后邊緣在兩凸緣2、3至間設(shè)凸緣4。凸緣3向瓦面外伸出向下開設(shè)連接槽5，連接槽5槽底到瓦面正面的垂直高度大于或等于凸緣2頂面與瓦面正面的垂直高度。凸緣4為階梯形狀，階梯的第一級4.1到瓦面1高度與凸緣2頂面到瓦面1高度相同，，階梯的第一級4.2到瓦面1高度與凸緣3頂面到瓦面1高度相同。凸緣3頂面上開設(shè)導(dǎo)水槽6。瓦面1正面設(shè)加強(qiáng)筋7。根據(jù)需要瓦面1正面也可以不要強(qiáng)筋7。
如圖2所示，瓦片反面的前后邊緣分別設(shè)凸緣8、9。
該瓦片施工時瓦片左右之間的連接是一瓦片的凸緣2與另一瓦片的凸緣3的連接槽5連接，瓦片前后之間的連接是后一瓦片的凸緣8扣在前一瓦片的凸緣4的前面。
權(quán)利要求1.溝槽屋頂瓦片，它包括平面或曲面的瓦面，其特征在于瓦面正面的三個邊緣處設(shè)凸緣，其中一側(cè)凸緣向瓦面外伸出向下開設(shè)連接槽，瓦面的反面的前端邊緣處設(shè)凸緣，該凸緣與上述三個凸緣的位子錯開。
2.如權(quán)利要求1所述溝槽屋頂瓦片，其特征在于瓦面反面的后端邊緣也設(shè)凸緣。
3.如權(quán)利要求1所述溝槽屋頂瓦片，其特征在于瓦面正面設(shè)加強(qiáng)筋。
4.如權(quán)利要求1所述溝槽屋頂瓦片，其特征在于連接槽槽底到瓦面正面的垂直高度大于或等于相對的凸緣頂面與瓦面正面的垂直高度。
5.如權(quán)利要求1所述溝槽屋頂瓦片，其特征在于帶連接槽的凸緣的頂面上開設(shè)導(dǎo)水槽。
6.如權(quán)利要求1所述溝槽屋頂瓦片，其特征在于瓦面正面的后端凸緣為階梯狀。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種溝槽屋頂瓦片。它包括平面或曲面的瓦面，瓦面正面的三個邊緣處設(shè)凸緣，其中一側(cè)凸緣向瓦面外伸出向下開設(shè)連接槽，瓦面的反面的前端邊緣處設(shè)凸緣，該凸緣與上述三個凸緣的位子錯開。本實(shí)用新型的瓦片結(jié)構(gòu)新穎，瓦片三個邊緣設(shè)凸緣形成瓦面的單向?qū)Я鞑?，使水只能順瓦面?dǎo)流槽流動，瓦片之間不會出現(xiàn)漏水。該瓦片施工時，不需要油氈，增加瓦片的使用壽命，減少屋面的翻修次數(shù)，屋頂無老鼠藏身處，空氣流通。使用該瓦片降低山尖高度，減少紅磚的用量。該瓦片可手工生產(chǎn)也可機(jī)械化生產(chǎn)。
文檔編號E04D1/02GK2630363SQ0325499
公開日2004年8月4日 申請日期2003年7月29日 優(yōu)先權(quán)日2003年7月29日
發(fā)明者任永明 申請人:任永明