一種導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備，包括鍍膜腔室、壓強(qiáng)控制系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)、離子表面處理裝置以及真空抽氣系統(tǒng)；鍍膜腔室兩端分別設(shè)置有放卷裝置和收卷裝置，放卷裝置和收卷裝置之間設(shè)置有多排磁控濺射靶，相鄰排磁控濺射靶之間形成鍍膜通道，相鄰兩個(gè)鍍膜通道之間設(shè)置有冷卻輥，放卷裝置出來的導(dǎo)電布通過各鍍膜通道以及繞過各冷卻輥后由收卷裝置進(jìn)行收卷，離子表面處理裝置設(shè)置放卷裝置出來的鍍膜通道前端兩側(cè)。通過本實(shí)用新型設(shè)備能夠增加被鍍導(dǎo)電層的附著力，解決現(xiàn)有技術(shù)中導(dǎo)電布基材如玻璃纖維布因非粘著性而在其上沉積金屬導(dǎo)電層難度大的問題，使導(dǎo)電布在鍍膜后中不產(chǎn)生廢氣、廢水和廢物，避免了生產(chǎn)導(dǎo)電布對(duì)環(huán)境污染的影響。
【專利說明】
一種導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及導(dǎo)電布領(lǐng)域，特別涉及一種導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著電子技術(shù)的快速發(fā)展，人們生產(chǎn)和生活中使用的電子產(chǎn)品設(shè)備越來越多，而大多數(shù)的電子產(chǎn)品如微波爐、電冰箱、電熱毯、計(jì)算機(jī)、手機(jī)以及無線電、雷達(dá)發(fā)射裝置都會(huì)不同程度地產(chǎn)生電磁輻射。雖然電磁波傳播的滲透能力強(qiáng)，但是優(yōu)良的導(dǎo)電或?qū)Т挪牧峡梢杂脕砥帘坞姶挪ㄝ椛?，其中具有電磁屏蔽功能的?dǎo)電布就是一種新興的電磁屏蔽材料，目前國(guó)際上最普遍使用的EMI導(dǎo)電布是鍍銅鍍鎳的導(dǎo)電布，其屏蔽效果達(dá)到99.999%。工業(yè)的發(fā)展特別是石油、化工、電子工業(yè)的快速發(fā)展，使靜電的危害逐漸引起人們的重視，與靜電同時(shí)存在的還有隨著科技發(fā)展帶來的電磁波對(duì)人類健康的危險(xiǎn)，因此導(dǎo)電布經(jīng)過長(zhǎng)期的調(diào)研和開發(fā)其技術(shù)趨于成熟，并且在人們的生活、生產(chǎn)、工作、科研、軍事和航空航天等領(lǐng)域也得到廣泛使用。隨著智能手機(jī)、平板電腦等消費(fèi)類電子產(chǎn)品的產(chǎn)品升級(jí)和技術(shù)升級(jí)，導(dǎo)電布用于消耗類電子設(shè)備中防止元件之間的相互電磁干擾，防止外界的電磁干擾已經(jīng)變得必不可缺。隨著人們對(duì)健康、對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量、功能的要求越來越高，導(dǎo)電布的使用場(chǎng)合變的越來越多，巨大的市場(chǎng)空間將使導(dǎo)電布產(chǎn)業(yè)得到飛速發(fā)展。
[0003]現(xiàn)有的導(dǎo)電布的制備工藝中，一般包括真空電鍍、電鍍銅和電鍍鎳幾個(gè)步驟，具體過程為利用真空電鍍使布表面沉積一層金屬，沉積后布面導(dǎo)電化，然后利用電鍍銅加厚，達(dá)到所需要的導(dǎo)電性能，最后完成電鍍一層鎳進(jìn)行保護(hù)。也有采用化學(xué)鍍方法先在基材上鍍一層較薄的導(dǎo)電金屬再進(jìn)行水電鍍加厚鍍銅、鍍鎳，從而達(dá)到產(chǎn)品技術(shù)要求。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)中導(dǎo)電布制作時(shí)，普遍采用滌綸布作為導(dǎo)電布的基材，即在滌綸布表明進(jìn)行真空電鍍、電鍍銅和電鍍鎳處理，從而得到導(dǎo)電布。滌綸布具有強(qiáng)度高、彈性好、耐熱性好、耐磨性好等優(yōu)點(diǎn)，但是滌綸布并不具有耐高溫性。采用滌綸布制作的導(dǎo)電布并不具有阻燃、防火以及隔熱的作用。
[0005]玻璃纖維(英文原名為:glass fiber或fiberglass)是一種性能優(yōu)異的無機(jī)非金屬材料，具有絕緣性好、耐熱性強(qiáng)、抗腐蝕性好、機(jī)械強(qiáng)度高等優(yōu)點(diǎn)，玻璃纖維通常用作復(fù)合材料中的增強(qiáng)材料、電絕緣材料和絕熱保溫材料，電路基板等國(guó)民經(jīng)濟(jì)各個(gè)領(lǐng)域。玻璃纖維布是以玻璃球或廢舊玻璃為原料經(jīng)高溫熔制、拉絲、絡(luò)紗、織布等工藝制造成的，其單絲的直徑為幾個(gè)微米到二十幾個(gè)微米，相當(dāng)于一根頭發(fā)絲的1/20?1/5，每束纖維原絲都由數(shù)百根甚至上千根單絲組成。玻璃纖維布具有以下特點(diǎn):1、用于低溫_196°C，高溫300°C之間，具有耐氣候性。2、非粘著性，不易粘附任何物質(zhì)。2、耐化學(xué)腐蝕，能耐強(qiáng)酸、強(qiáng)堿、王水及各種有機(jī)溶劑的腐蝕。4、摩擦系數(shù)低，是無油自潤(rùn)滑的最佳選擇。5、透光率達(dá)6?13%。6、具有高絕緣性能、防紫外線、防靜電。7、強(qiáng)度高，具有良好的機(jī)械特性。8、耐藥劑性。玻璃纖維布在工業(yè)上主要用于:隔熱、防火、阻燃。該材料在遭到火焰燃燒時(shí)吸收大量熱量并能阻止火焰穿過、隔絕空氣。因此若能夠?qū)⒉ＡЮw維布應(yīng)用到導(dǎo)電布中，將使得導(dǎo)電布不僅僅有電磁干擾屏蔽功能，還具有不燃的特點(diǎn)，使得這種類型的導(dǎo)電布使用更加安全，但是由于玻璃纖維布具有非粘著性的特點(diǎn)，即在玻璃纖維布上沉積金屬導(dǎo)電層難度較大，這將阻礙以玻璃纖維布作為導(dǎo)電布基材技術(shù)的發(fā)展。而且現(xiàn)有的這種電鍍方法中，會(huì)產(chǎn)生廢氣廢水等污染環(huán)境。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0006]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)與不足，提供一種導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備，該生產(chǎn)設(shè)備具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，能夠?qū)崿F(xiàn)導(dǎo)電布基材連續(xù)鍍膜的優(yōu)點(diǎn)，通過該生產(chǎn)設(shè)備對(duì)導(dǎo)電布基材進(jìn)行鍍膜時(shí)，能夠增加被鍍導(dǎo)電層的附著力，提高鍍膜效果。解決了現(xiàn)有技術(shù)中導(dǎo)電布基材如玻璃纖維布因非粘著性而在其上沉積金屬導(dǎo)電層難度大的問題，能夠生產(chǎn)出更好的以玻璃纖維布為基材的不燃導(dǎo)電布，促進(jìn)以玻璃纖維布作為導(dǎo)電布基材技術(shù)的發(fā)展。
[0007]本實(shí)用新型的目的通過下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):一種導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備，包括鍍膜腔室、用于向鍍膜腔室內(nèi)充入氣體的氣體壓強(qiáng)控制系統(tǒng)、用于控制鍍膜腔室內(nèi)溫度的溫控系統(tǒng)、用于為鍍膜腔室提供陽極層型離子源的離子表面處理裝置以及控制鍍膜腔室內(nèi)真空度的真空抽氣系統(tǒng);鍍膜腔室的其中兩端分別設(shè)置有放卷裝置和收卷裝置，其中放卷裝置和收卷裝置之間設(shè)置有多排磁控濺射靶，相鄰排磁控濺射靶之間形成鍍膜通道，相鄰兩個(gè)鍍膜通道之間設(shè)置有冷卻輥，放卷裝置出來的導(dǎo)電布基材通過各鍍膜通道以及繞過各冷卻輥后由收卷裝置進(jìn)行收卷，離子表面處理裝置設(shè)置在放卷裝置出來的鍍膜通道前端的兩偵U，向經(jīng)過鍍膜通道的導(dǎo)電布基材提供陽極層型離子源。
[0008]優(yōu)選的，所述每排磁控濺射靶中包括3個(gè)以上磁控濺射靶。
[0009]優(yōu)選的，離子表面處理裝置包括外陰極、內(nèi)陰極、磁鐵、陽極和氣體通道;其中外陰極為頂部開有口的方形結(jié)構(gòu)，外陰極頂部開口處設(shè)置有內(nèi)部陰極，在外陰極內(nèi)底部與內(nèi)陰極底部之間設(shè)置有磁鐵，陽極設(shè)置于外陰極、內(nèi)陰極和磁鐵圍成的空間中，氣體通道設(shè)置在外陰極底部，氣體通過外陰極底部進(jìn)入到外陰極、內(nèi)陰極和磁鐵圍成的空間中。
[0010]優(yōu)選的，所述放卷裝置包括放卷筒和第一引導(dǎo)輥，放卷裝置出來的導(dǎo)電布基材通過第一引導(dǎo)輥后傳入到鍍膜通道中；所述第一引導(dǎo)輥的個(gè)數(shù)為一個(gè)或多個(gè)。
[0011]優(yōu)選的，所述收卷裝置包括收卷筒和第二引導(dǎo)輥，導(dǎo)電布基材穿過鍍膜通道后通過第二引導(dǎo)輥收卷入收卷筒中，所述第二引導(dǎo)輥的個(gè)數(shù)為一個(gè)或多個(gè)。
[0012]優(yōu)選的，所述氣體壓強(qiáng)控制系統(tǒng)為氬氣、氮?dú)饣蜓鯕鈿怏w壓強(qiáng)控制系統(tǒng)，即氣體壓強(qiáng)控制系統(tǒng)充入到鍍膜腔室的氣體為氬氣、氮?dú)饣蜓鯕狻?br>[0013]優(yōu)選的，放卷裝置出來的鍍膜通道以及進(jìn)入收卷裝置的鍍膜通道兩側(cè)的磁控濺射靶均為平面磁控濺射靶。
[0014]優(yōu)選的，放卷裝置出來的鍍膜通道和進(jìn)入收卷裝置的鍍膜通道之間的鍍膜通道兩側(cè)的磁控濺射靶為圓柱磁控濺射靶。
[0015]優(yōu)選的，導(dǎo)電布基材為玻璃纖維布。
[0016]本實(shí)用新型導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備的工作原理如下:導(dǎo)電布基材通過放卷裝置投入到鍍膜腔室中，放卷裝置出來的導(dǎo)電布基材首先穿過鍍膜通道，并且從鍍膜通道之間的冷卻繞過后進(jìn)入到相鄰鍍膜通道，在穿過最后一個(gè)鍍膜通道后收入到收卷裝置。在需要鍍膜時(shí)，控制鍍膜腔室磁控濺射靶通電；離子表面處理裝置采用陽極層型離子源對(duì)放卷裝置出來的導(dǎo)電布基材表面進(jìn)行處理，氣體壓強(qiáng)控制系統(tǒng)充入的氣體離子在電場(chǎng)作用下轟擊各鍍膜通道兩側(cè)的磁控濺射靶射出靶材原子，在導(dǎo)電布基材經(jīng)過各鍍膜通道時(shí)通過各鍍膜通道兩側(cè)的磁控濺射靶射出的靶材原子進(jìn)行濺射鍍膜。經(jīng)過鍍膜后的各導(dǎo)電布基材回收入收卷裝置，實(shí)現(xiàn)連續(xù)的鍍膜。
[0017]本實(shí)用新型相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)具有如下的優(yōu)點(diǎn)及效果:
[0018](I)本實(shí)用新型導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備由放卷裝置將導(dǎo)電布基材置入鍍膜腔室，通過收卷裝置收入鍍膜完成的導(dǎo)電布基材，導(dǎo)電布基材從放卷裝置到收卷裝置的過程中，經(jīng)過通過各鍍膜通道以及繞過各冷卻輥，在經(jīng)過各鍍膜通道的時(shí)候由各鍍膜通道兩側(cè)的磁控濺射靶實(shí)現(xiàn)濺射鍍膜，因此本實(shí)用新型專用生產(chǎn)設(shè)備能夠?qū)崿F(xiàn)導(dǎo)電布基材的連續(xù)鍍膜，另外在本實(shí)用新型導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備中設(shè)置有離子表面處理裝置，該離子表面處理裝置采用陽極層型離子源對(duì)導(dǎo)電布基材表面進(jìn)行處理，增加導(dǎo)電布基材被鍍導(dǎo)電層的附著力，從而保證成膜質(zhì)量，使得導(dǎo)電布在鍍膜后中不產(chǎn)生廢氣、廢水和廢物，避免了生產(chǎn)導(dǎo)電布對(duì)環(huán)境污染的影響。解決了現(xiàn)有技術(shù)中導(dǎo)電布基材如玻璃纖維布因非粘著性而在其上沉積金屬導(dǎo)電層難度大的問題，能夠生產(chǎn)出更好的以玻璃纖維布為基材的不燃導(dǎo)電布，促進(jìn)以玻璃纖維布作為導(dǎo)電布基材技術(shù)的發(fā)展。
[0019](2)本實(shí)用新型導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備由于由多個(gè)靶組成，每個(gè)靶能鍍一定厚道的膜，多個(gè)靶沉積的膜厚度累計(jì)起來，能一次性沉積足夠厚度的膜，無需再用其它方法加厚，效率高，能效高。本實(shí)用新型導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備中通過氣體壓強(qiáng)控制系統(tǒng)充入到鍍膜腔室內(nèi)的氣體改變鍍膜腔室內(nèi)的壓強(qiáng)；同時(shí)當(dāng)磁控濺射靶通電時(shí)，氣體壓強(qiáng)控制系統(tǒng)充入的氣體在電場(chǎng)作用下轟擊磁控濺射靶射出靶材原子，實(shí)現(xiàn)鍍膜腔室中導(dǎo)電布基材的鍍膜。
[0020](3)本實(shí)用新型專用生產(chǎn)設(shè)備中相鄰排磁控濺射靶之間形成鍍膜通道，鍍膜通道之間設(shè)置有冷卻輥，即相鄰鍍膜通道之間通過冷卻輥進(jìn)行銜接，導(dǎo)電布基材經(jīng)過當(dāng)前鍍膜通道后通過冷卻輥繞到相鄰的鍍膜通道，通過冷卻輥不僅起到導(dǎo)電布基材的傳動(dòng)作用，而且還能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)導(dǎo)電布基材進(jìn)行冷卻處理，避免了導(dǎo)電布基材因受溫過高而導(dǎo)致基材性能變化的情況。
[0021](4)本實(shí)用新型當(dāng)導(dǎo)電布基材為玻璃纖維布時(shí)，通過本實(shí)用新型導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備能夠生產(chǎn)出不燃導(dǎo)電布，并且采用本實(shí)用新型導(dǎo)電布的專業(yè)生產(chǎn)設(shè)備能夠大大提高玻璃纖維布被鍍導(dǎo)電層的附著力，使得生產(chǎn)的導(dǎo)電布具有阻燃性的同時(shí)保證了其電磁干擾屏蔽效果，并且通過本發(fā)明導(dǎo)電布專用生產(chǎn)設(shè)備使得玻璃纖維布基材的不燃導(dǎo)電布在生產(chǎn)過程中不產(chǎn)生廢氣、廢水和廢物，避免了生產(chǎn)不燃導(dǎo)電布對(duì)環(huán)境污染的影響。
【附圖說明】
[0022]圖1是本實(shí)用新型導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖。
[0023]圖2是本實(shí)用新型離子表面處理裝置結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0024]下面結(jié)合實(shí)施例及附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的描述，但本實(shí)用新型的實(shí)施方式不限于此。
[0025]實(shí)施例
[0026]如圖1所示，本實(shí)施例公開了一種導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備，包括鍍膜腔室1、用于向鍍膜腔室內(nèi)充入氣體的氣體壓強(qiáng)控制系統(tǒng)、用于控制鍍膜腔室內(nèi)溫度的溫控系統(tǒng)、為鍍膜腔室提供離子源的離子表面處理裝置3以及控制鍍膜腔室內(nèi)真空度的真空抽氣系統(tǒng);鍍膜腔室的其中兩端分別設(shè)置有放卷裝置2和收卷裝置7，其中放卷裝置2和收卷裝置7之間設(shè)置有多排磁控濺射靶，相鄰排磁控濺射靶之間形成鍍膜通道，相鄰兩個(gè)鍍膜通道之間設(shè)置有冷卻輥6，相鄰鍍膜通道通過冷卻輥6進(jìn)行銜接，放卷裝置2出來的導(dǎo)電布基材通過各鍍膜通道以及繞過各冷卻輥6后由收卷裝置7進(jìn)行收卷，離子表面處理裝置3設(shè)置放卷裝置2出來的鍍膜通道前端的兩側(cè)，向經(jīng)過鍍膜通道的導(dǎo)電布基材表面發(fā)射陽極層型離子源。
[0027]本實(shí)施例中離子表面處理裝置3采用陽極層型離子源對(duì)導(dǎo)電布基材表面進(jìn)行處理，增加導(dǎo)電布基材被鍍膜的附著力。如圖2所示，本實(shí)施中離子表面處理裝置3包括外陰極31、內(nèi)陰極32、磁鐵33、磁路(離子源殼體)、陽極34和氣體通道35。其中外陰極為頂部開有口的方形結(jié)構(gòu)，外陰極31頂部開口處設(shè)置有內(nèi)部陰極32，在外陰極31內(nèi)底部與內(nèi)陰極底部之間設(shè)置有磁鐵33，磁鐵的N極朝上，S極朝下；陽極34設(shè)置于外陰極31、內(nèi)陰極32和磁鐵33圍成的空間中，氣體通道35設(shè)置在外陰極31底部，氣體通過外陰極31底部進(jìn)入到外陰極31、內(nèi)陰極32和磁鐵33圍成的空間中。等離子體36從外陰極31與內(nèi)陰極32之間噴出。依據(jù)陽極層線性封閉漂移理論，氣體在離子中的陰陽極之間通過，其陽極的正電壓與加在內(nèi)外陰極端部間的強(qiáng)磁場(chǎng)相互作用，產(chǎn)生等離子體，來自于等離子體中的離子受陽極電場(chǎng)的驅(qū)動(dòng)，由離子源中產(chǎn)生噴出的離子束流。其中離子發(fā)射溝道和陽極被磁路所包圍。放電溝道內(nèi)具有很強(qiáng)的磁場(chǎng)，將電子約束在其中，在正交的電場(chǎng)和磁場(chǎng)的作用下，電子在溝道內(nèi)進(jìn)行閉環(huán)迀移并形成電子流。閉環(huán)迀移的電子與氣體發(fā)生碰撞時(shí)，氣體電離為離子和電子。當(dāng)直流正電位施加在陽極上時(shí)，陽極表面形成電場(chǎng)，在此電場(chǎng)作用下，離子被加速發(fā)射出放電溝道形成離子束，離子束對(duì)基材進(jìn)行轟擊或蝕刻。
[0028]本實(shí)施例中每排磁控濺射靶中包括3個(gè)以上磁控濺射靶，使得本實(shí)施例中導(dǎo)電布基材經(jīng)過鍍膜通道時(shí)能夠被充分的濺射鍍膜，磁控濺射靶更換不同材質(zhì)的靶材可以對(duì)導(dǎo)電布基材鍍不同材質(zhì)的導(dǎo)電層。本實(shí)施例中左側(cè)兩排和右側(cè)兩排的磁控濺射靶均為平面磁控濺射靶4，中間各排磁控濺射靶為圓柱磁控濺射靶5。即放卷裝置出來的鍍膜通道以及進(jìn)入收卷裝置的鍍膜通道兩側(cè)的磁控濺射靶均為平面磁控濺射靶;放卷裝置出來的鍍膜通道和進(jìn)入收卷裝置的鍍膜通道之間的鍍膜通道兩側(cè)的磁控濺射靶為圓柱磁控濺射靶。
[0029]本實(shí)施例放卷裝置2包括放卷筒和第一引導(dǎo)輥21，放卷裝置2出來的導(dǎo)電布基材通過第一引導(dǎo)輥21后傳入到鍍膜通道中，第一引導(dǎo)輥21的個(gè)數(shù)為一個(gè)或多個(gè);收卷裝置7包括收卷筒和第二引導(dǎo)輥71，導(dǎo)電布基材穿過鍍膜通道后通過第二引導(dǎo)輥71收卷入收卷筒中，第二引導(dǎo)輥71的個(gè)數(shù)為一個(gè)或多個(gè)。
[0030]本實(shí)施例中的氣體壓強(qiáng)控制系統(tǒng)為氬氣、氮?dú)饣蜓鯕鈿怏w壓強(qiáng)控制系統(tǒng)，即氣體壓強(qiáng)控制系統(tǒng)充入到鍍膜腔室的氣體為氬氣、氮?dú)饣蜓鯕?，具體根據(jù)不同的工藝要求選用相應(yīng)的氣體，通過氣體壓強(qiáng)控制系統(tǒng)將充入到鍍膜腔室的氣體改變鍍膜腔室內(nèi)部壓強(qiáng)。同時(shí)磁控濺射靶通電時(shí)，氣體壓強(qiáng)控制系統(tǒng)充入的氣體在電場(chǎng)作用下轟擊磁控濺射靶射出靶材原子，實(shí)現(xiàn)鍍膜腔室中玻璃纖維布的鍍膜。
[0031]本實(shí)施例中冷卻輥6對(duì)導(dǎo)電布基材在鍍膜時(shí)產(chǎn)生的高溫進(jìn)行冷卻，避免了導(dǎo)電布基材因受溫過高而導(dǎo)致基材性能變化的情況。
[0032]本實(shí)施例中導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備的工作原理如下:導(dǎo)電布基材通過放卷裝置2投入到鍍膜腔室中，放卷裝置2出來的導(dǎo)電布基材首先穿過鍍膜通道，并且從鍍膜通道之間的冷卻輥6繞過后進(jìn)入到相鄰鍍膜通道，在穿過最后一個(gè)鍍膜通道后收入到收卷裝置7中。在需要鍍膜時(shí)，控制鍍膜腔室磁控濺射靶通電；離子表面處理裝置3采用陽極層型離子源對(duì)放卷裝置2出來的導(dǎo)電布基材表面進(jìn)行處理，氣體壓強(qiáng)控制系統(tǒng)充入的氣體離子在電場(chǎng)作用下轟擊各鍍膜通道兩側(cè)的磁控濺射靶射出靶材原子，在導(dǎo)電布基材經(jīng)過各鍍膜通道時(shí)通過各鍍膜通道兩側(cè)的磁控濺射靶射出的靶材原子進(jìn)行濺射鍍膜。經(jīng)過鍍膜后的各導(dǎo)電布基材回收入收卷裝置，實(shí)現(xiàn)連續(xù)的鍍膜。
[0033]本實(shí)施例導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備由于由多個(gè)靶組成，每個(gè)靶能鍍一定厚道的膜，多個(gè)靶沉積的膜厚度累計(jì)起來，能一次性沉積足夠厚度的膜，無需再用其它方法加厚，效率1?，會(huì)ο
[0034]本實(shí)施例導(dǎo)電布基材可以為玻璃纖維布，通過本實(shí)用新型導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備能夠提高玻璃纖維布被鍍導(dǎo)電層的附著力，使得導(dǎo)電布具有阻燃性的同時(shí)保證了其電磁干擾屏蔽效果。本實(shí)施例導(dǎo)電布基材可以選用玻璃纖維布，此時(shí)通過本實(shí)施例導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備生產(chǎn)的導(dǎo)電布為不燃導(dǎo)電布，通過本實(shí)施例專業(yè)生產(chǎn)設(shè)備能夠大大提高玻璃纖維布被鍍導(dǎo)電層的附著力，使得生產(chǎn)的導(dǎo)電布具有阻燃性的同時(shí)保證了其電磁干擾屏蔽效果，并且通過本實(shí)施例導(dǎo)電布專用生產(chǎn)設(shè)備使得玻璃纖維布基材的不燃導(dǎo)電布在生產(chǎn)過程中不產(chǎn)生廢氣、廢水和廢物，避免了生產(chǎn)不燃導(dǎo)電布對(duì)環(huán)境污染的影響。
[0035]上述實(shí)施例為本實(shí)用新型較佳的實(shí)施方式，但本實(shí)用新型的實(shí)施方式并不受上述實(shí)施例的限制，其他的任何未背離本實(shí)用新型的精神實(shí)質(zhì)與原理下所作的改變、修飾、替代、組合、簡(jiǎn)化，均應(yīng)為等效的置換方式，都包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備，包括鍍膜腔室，其特征在于，還包括用于向鍍膜腔室內(nèi)充入氣體的氣體壓強(qiáng)控制系統(tǒng)、用于控制鍍膜腔室內(nèi)溫度的溫控系統(tǒng)、用于為鍍膜腔室提供陽極層型離子源的離子表面處理裝置以及控制鍍膜腔室內(nèi)真空度的真空抽氣系統(tǒng);鍍膜腔室的其中兩端分別設(shè)置有放卷裝置和收卷裝置，其中放卷裝置和收卷裝置之間設(shè)置有多排磁控濺射靶，相鄰排磁控濺射靶之間形成鍍膜通道，相鄰兩個(gè)鍍膜通道之間設(shè)置有冷卻輥，放卷裝置出來的導(dǎo)電布基材通過各鍍膜通道以及繞過各冷卻輥后由收卷裝置進(jìn)行收卷，離子表面處理裝置設(shè)置在放卷裝置出來的鍍膜通道前端的兩側(cè)，向經(jīng)過鍍膜通道的導(dǎo)電布基材提供陽極層型離子源。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于，所述每排磁控濺射靶中包括3個(gè)以上磁控濺射靶。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于，離子表面處理裝置包括外陰極、內(nèi)陰極、磁鐵、陽極和氣體通道;其中外陰極為頂部開有口的方形結(jié)構(gòu)，外陰極頂部開口處設(shè)置有內(nèi)部陰極，在外陰極內(nèi)底部與內(nèi)陰極底部之間設(shè)置有磁鐵，陽極設(shè)置于外陰極、內(nèi)陰極和磁鐵圍成的空間中，氣體通道設(shè)置在外陰極底部，氣體通過外陰極底部進(jìn)入到外陰極、內(nèi)陰極和磁鐵圍成的空間中。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于，所述放卷裝置包括放卷筒和第一引導(dǎo)輥，放卷裝置出來的導(dǎo)電布基材通過第一引導(dǎo)輥后傳入到鍍膜通道中；所述第一引導(dǎo)輥的個(gè)數(shù)為一個(gè)或多個(gè)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于，所述收卷裝置包括收卷筒和第二引導(dǎo)輥，導(dǎo)電布基材穿過鍍膜通道后通過第二引導(dǎo)輥收卷入收卷筒中，所述第二引導(dǎo)輥的個(gè)數(shù)為一個(gè)或多個(gè)。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于，所述氣體壓強(qiáng)控制系統(tǒng)為氬氣、氮?dú)饣蜓鯕鈿怏w壓強(qiáng)控制系統(tǒng)，即氣體壓強(qiáng)控制系統(tǒng)充入到鍍膜腔室的氣體為氬氣、氮?dú)饣蜓鯕狻?.根據(jù)權(quán)利要求1所述的導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于，放卷裝置出來的鍍膜通道以及進(jìn)入收卷裝置的鍍膜通道兩側(cè)的磁控濺射靶均為平面磁控濺射靶。8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于，放卷裝置出來的鍍膜通道和進(jìn)入收卷裝置的鍍膜通道之間的鍍膜通道兩側(cè)的磁控濺射靶為圓柱磁控濺射靶。9.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的導(dǎo)電布的專用生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于，導(dǎo)電布基材為玻璃纖維布。
【文檔編號(hào)】D06M11/83GK205443738SQ201521131294
【公開日】2016年8月10日
【申請(qǐng)日】2015年12月29日
【發(fā)明人】李家樑
【申請(qǐng)人】廣州市新景機(jī)電股份有限公司