本實(shí)用新型涉及紡織設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,尤其是一種布面清洗裝置。
背景技術(shù):
目前的織布機(jī)在紡紗過程中會存在不同程度的污染情況,導(dǎo)致加工生產(chǎn)出來的坯布上存在污物,在后期的染整工序中需要花費(fèi)大量精力清洗這些污物,清洗過程會消耗大量的水資源,同時(shí)加入的清洗劑對環(huán)境造成嚴(yán)重污染,清洗后的整理工序比較繁瑣。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
為了克服目前紡織設(shè)備的技術(shù)不足,本實(shí)用新型提供一種布面清洗裝置,在織造過程中完成清洗工序,能夠減少資源浪費(fèi),降低環(huán)境污染,節(jié)約生產(chǎn)成本。
本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種布面清洗裝置,包括織機(jī)、清洗裝置和卷布輥;清洗裝置設(shè)置在織機(jī)和卷布輥之間;清洗裝置包括真空倉、出氣裝置、進(jìn)氣裝置、氣泵、進(jìn)布口、出布口、高頻電源、控制單元和高壓電極;真空倉兩端設(shè)有進(jìn)布口和出布口,真空倉內(nèi)部設(shè)有高壓電極;進(jìn)氣裝置和出氣裝置設(shè)在真空倉頂部,氣泵設(shè)在真空倉底部;控制單元和高頻電源安裝在真空倉外部,高頻電源連接高壓電極。
本實(shí)用新型利用的是等離子清洗原理,等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)三種狀態(tài)存在,但在一些特殊情況下有第四種狀態(tài)存在,對氣體施加足夠的能量使之離化成為等離子狀態(tài),等離子體的“活性”組分包括離子、電子、原子、活性基因、激發(fā)態(tài)的核素和光子等,這些活性組分能夠處理樣品表面污物,實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。
本實(shí)用新型的有益效果是,一種布面清洗裝置,實(shí)現(xiàn)在織造過程中完成清洗工序,縮短后續(xù)染整工序;能夠減少資源浪費(fèi),降低環(huán)境污染;有利于提高織物的粘附性、上染率和潤濕度。
附圖說明
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。
圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是本實(shí)用新型清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中1. 織機(jī),2.清洗裝置,3.卷布輥,4.坯布,5.真空倉,6.出氣裝置,7.進(jìn)氣裝置,8.氣泵,9.進(jìn)布口,10.出布口,11.高頻電源,12.控制單元,13.高壓電極。
具體實(shí)施方式
參照附圖,一種布面清洗裝置,包括織機(jī)1、清洗裝置2和卷布輥3;清洗裝置2設(shè)置在織機(jī)1和卷布輥3之間;清洗裝置2包括真空倉5、出氣裝置6、進(jìn)氣裝置7、氣泵8、進(jìn)布口9、出布口10、高頻電源11、控制單元12和高壓電極13;真空倉5兩端設(shè)有進(jìn)布口9和出布口10,真空倉5內(nèi)部設(shè)有高壓電極13;進(jìn)氣裝置7和出氣裝置6設(shè)在真空倉5頂部,氣泵8設(shè)在真空倉5底部;控制單元12和高頻電源11安裝在真空倉5外部,高頻電源11連接高壓電極13。