本實(shí)用新型涉及紡織設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種布面清洗裝置。

背景技術(shù)：

目前的織布機(jī)在紡紗過程中會存在不同程度的污染情況，導(dǎo)致加工生產(chǎn)出來的坯布上存在污物，在后期的染整工序中需要花費(fèi)大量精力清洗這些污物，清洗過程會消耗大量的水資源，同時(shí)加入的清洗劑對環(huán)境造成嚴(yán)重污染，清洗后的整理工序比較繁瑣。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了克服目前紡織設(shè)備的技術(shù)不足，本實(shí)用新型提供一種布面清洗裝置，在織造過程中完成清洗工序，能夠減少資源浪費(fèi)，降低環(huán)境污染，節(jié)約生產(chǎn)成本。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：一種布面清洗裝置，包括織機(jī)、清洗裝置和卷布輥；清洗裝置設(shè)置在織機(jī)和卷布輥之間；清洗裝置包括真空倉、出氣裝置、進(jìn)氣裝置、氣泵、進(jìn)布口、出布口、高頻電源、控制單元和高壓電極；真空倉兩端設(shè)有進(jìn)布口和出布口，真空倉內(nèi)部設(shè)有高壓電極；進(jìn)氣裝置和出氣裝置設(shè)在真空倉頂部，氣泵設(shè)在真空倉底部；控制單元和高頻電源安裝在真空倉外部，高頻電源連接高壓電極。

本實(shí)用新型利用的是等離子清洗原理，等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊情況下有第四種狀態(tài)存在，對氣體施加足夠的能量使之離化成為等離子狀態(tài)，等離子體的“活性”組分包括離子、電子、原子、活性基因、激發(fā)態(tài)的核素和光子等，這些活性組分能夠處理樣品表面污物，實(shí)現(xiàn)清潔、涂覆等目的。

本實(shí)用新型的有益效果是，一種布面清洗裝置，實(shí)現(xiàn)在織造過程中完成清洗工序，縮短后續(xù)染整工序；能夠減少資源浪費(fèi)，降低環(huán)境污染；有利于提高織物的粘附性、上染率和潤濕度。

附圖說明

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)一步說明。

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是本實(shí)用新型清洗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中1. 織機(jī)，2.清洗裝置，3.卷布輥，4.坯布，5.真空倉，6.出氣裝置，7.進(jìn)氣裝置，8.氣泵，9.進(jìn)布口，10.出布口，11.高頻電源，12.控制單元，13.高壓電極。

具體實(shí)施方式

參照附圖，一種布面清洗裝置，包括織機(jī)1、清洗裝置2和卷布輥3；清洗裝置2設(shè)置在織機(jī)1和卷布輥3之間；清洗裝置2包括真空倉5、出氣裝置6、進(jìn)氣裝置7、氣泵8、進(jìn)布口9、出布口10、高頻電源11、控制單元12和高壓電極13；真空倉5兩端設(shè)有進(jìn)布口9和出布口10，真空倉5內(nèi)部設(shè)有高壓電極13；進(jìn)氣裝置7和出氣裝置6設(shè)在真空倉5頂部，氣泵8設(shè)在真空倉5底部；控制單元12和高頻電源11安裝在真空倉5外部，高頻電源11連接高壓電極13。