專利名稱：凸紋面料的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種面料，屬于紡織面料領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
傳統(tǒng)的面料結(jié)構(gòu)單一，表面平平的，沒有層次感。 發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的在于克服上述不足，提供一種富有層次感的凸紋面料。本實用新型的目的是這樣實現(xiàn)的一種凸紋面料，包括面料本體，所述面料本體上表面設(shè)有若干條紋、大方塊和小方塊，所述條紋平行、等距排列，并以45度角傾斜，所述條紋每三行為一組，所述大方塊占前兩行條紋，并以45度角傾斜，所述小方塊占后一行條紋， 所述大方塊和小方塊交錯、等距排列，所述大方塊和小方塊上設(shè)有若干凸點和凸條，所述凸條的高度高于凸點的高度，所述大方塊包括四個與小方塊等大的方塊。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是條紋與方塊的組合、凸點與凸條的搭配，增強了凸紋面料的層次感。

圖1為本實用新型凸紋面料的結(jié)構(gòu)示意圖。其中面料本體1、條紋2、大方塊3、小方塊4、凸點5、凸條6。
具體實施方式
參見圖1，本實用新型涉及一種凸紋面料，它包括面料本體1，所述面料本體1上表面設(shè)有若干條紋2、大方塊3和小方塊4，所述條紋2平行、等距排列，并以45度角傾斜，所述條紋2每三行為一組，所述大方塊3占前兩行條紋2，并以45度角傾斜，所述小方塊4占后一行條紋2，所述大方塊3和小方塊4交錯、等距排列，所述大方塊3和小方塊4上設(shè)有若干凸點5和凸條6，所述凸條6的高度高于凸點5的高度，所述大方塊3包括四個與小方塊 4等大的方塊。
權(quán)利要求1. 一種凸紋面料，包括面料本體(1)，其特征在于所述面料本體(1)上表面設(shè)有若干條紋(2)、大方塊(3)和小方塊(4)，所述條紋(2)平行、等距排列，并以45度角傾斜，所述條紋(2)每三行為一組，所述大方塊(3)占前兩行條紋(2)，并以45度角傾斜，所述小方塊(4) 占后一行條紋(2)，所述大方塊(3)和小方塊(4)交錯、等距排列，所述大方塊(3)和小方塊 (4)上設(shè)有若干凸點(5)和凸條(6)，所述凸條(6)的高度高于凸點(5)的高度，所述大方塊 (3)包括四個與小方塊(4)等大的方塊。
專利摘要本實用新型涉及一種凸紋面料，屬于紡織面料領(lǐng)域。它包括面料本體(1)，其特征在于所述面料本體(1)上表面設(shè)有若干條紋(2)、大方塊(3)和小方塊(4)，所述條紋(2)平行、等距排列，并以45度角傾斜，所述條紋(2)每三行為一組，所述大方塊(3)占前兩行條紋(2)，并以45度角傾斜，所述小方塊(4)占后一行條紋(2)，所述大方塊(3)和小方塊(4)交錯、等距排列，所述大方塊(3)和小方塊(4)上設(shè)有若干凸點(5)和凸條(6)，所述凸條(6)的高度高于凸點(5)的高度，所述大方塊(3)包括四個與小方塊(4)等大的方塊。條紋與方塊的組合、凸點與凸條的搭配，增強了凸紋面料的層次感。
文檔編號D06Q1/00GK202099632SQ20112013047
公開日2012年1月4日 申請日期2011年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月28日
發(fā)明者李文標 申請人:李文標