專利名稱:濕式清洗設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明是有關(guān)于一種濕式清洗設(shè)備,特別是有關(guān)于一種能使基板各部 位得到良好清潔效果的濕式清洗設(shè)備。
背景技術(shù):
由于平面顯示技術(shù)的突飛猛進(jìn),其應(yīng)用逐漸從電腦用屏幕延伸至家用
電視等電子產(chǎn)品。就薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)制程而言,清洗步 驟經(jīng)常連接于鍍膜、微影及刻蝕等步驟之前、中、后等時(shí)機(jī),用以維持顯 示器基板在生產(chǎn)過程中的表面潔凈度。
已知的濕式清洗設(shè)備是在基板搬運(yùn)裝置上方設(shè)置清洗液供應(yīng)裝置?;?板搬運(yùn)裝置以一行進(jìn)方向搬運(yùn)待清洗的基板。當(dāng)進(jìn)行清潔程序時(shí),基板是 置于基板搬運(yùn)裝置上傳輸,而清洗液供應(yīng)裝置則是噴灑清洗液至基板上以 進(jìn)行清潔程序。
然而,隨著基板的尺寸逐漸加大,為了提高對大面積的基板的清潔效 果,有一種使用傾斜清洗的方式進(jìn)行基板的清潔程序已被提出。然而,此 種傾斜清洗方式在對應(yīng)于基板的較高部位與基板的較低部位處受到清洗液 的液壓或流量會(huì)有分布不均的情形,因而使得基板整體的清潔效果不均勻, 導(dǎo)致產(chǎn)品質(zhì)量受到影響。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明的目的在于提供一種濕式清洗設(shè)備,能使基板上的各部位得到良好清潔效果。
本發(fā)明提出的一種濕式清洗設(shè)備,包括基板搬運(yùn)裝置以及清洗液供應(yīng) 裝置。基板搬運(yùn)裝置具有承載面,其中基板搬運(yùn)裝置的承載面具有傾斜角 度,因而承載面具有較高部位以及較低部位。清洗液供應(yīng)裝置設(shè)置于基板 搬運(yùn)裝置的上方,其中清洗液供應(yīng)裝置包括至少一清洗液供應(yīng)管路以及多 個(gè)噴嘴。清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與基板搬運(yùn)裝置的承載面實(shí)質(zhì)平行。 多個(gè)噴嘴裝設(shè)于清洗液供應(yīng)管路上,其中對應(yīng)設(shè)置在承載面的較高部位的 噴嘴的清洗液噴出量總合大于對應(yīng)設(shè)置于承載面的較低部位的噴嘴的清洗 液噴出量總合。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的傾斜角度為2 8度。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述對應(yīng)設(shè)置在承載面的較高部位的噴嘴的 分布密度大于對應(yīng)設(shè)置于承載面的較低部位的噴嘴的分布密度。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述對應(yīng)設(shè)置在承載面的較高部位與較低部 位之間的噴嘴的分布密度,介于對應(yīng)設(shè)置在承載面的較高部位的噴嘴的分 布密度以及對應(yīng)設(shè)置于承載面的較低部位的噴嘴的分布密度之間。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述噴嘴的分布密度是自對應(yīng)設(shè)置于承載面 的較高部位逐漸往對應(yīng)設(shè)置于承載面的較低部位降低。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述對應(yīng)設(shè)置在承載面的較高部位的噴嘴的 清洗液噴出流速大于對應(yīng)設(shè)置于承載面的較低部位的噴嘴的清洗液噴出流 速。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述對應(yīng)設(shè)置在承載面的較高部位與較低部 位之間的噴嘴的清洗液噴出流速介于對應(yīng)設(shè)置在承載面的較高部位的噴嘴 的清洗液噴出流速以及對應(yīng)設(shè)置于承載面的較低部位的噴嘴的清洗液噴出 流速之間。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述的噴嘴的清洗液噴出流速是自對應(yīng)設(shè)置 于承載面的較高部位逐漸往對應(yīng)設(shè)置于承載面的較低部位降低。
6在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述對應(yīng)設(shè)置在承載面的較高部位的噴嘴的 出口面積大于對應(yīng)設(shè)置于承載面的較低部位的噴嘴的出口面積。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述對應(yīng)設(shè)置在承載面的較高部位與較低部 位之間的噴嘴的出口面積,介于對應(yīng)設(shè)置在承載面的較高部位的噴嘴的出 口面積以及對應(yīng)設(shè)置于承載面的較低部位的噴嘴的出口面積之間。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述噴嘴的出口面積是自對應(yīng)設(shè)置于承載面 的較高部位逐漸往對應(yīng)設(shè)置于承載面之較低部位降低。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述對應(yīng)設(shè)置在承載面的較高部位的噴嘴的 流量大于對應(yīng)設(shè)置于承載面的較低部位的噴嘴的流量。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述對應(yīng)設(shè)置在承載面的較高部位與較低部 位之間的噴嘴的流量介于對應(yīng)設(shè)置在承載面的較高部位的噴嘴的流量以及 對應(yīng)設(shè)置于該承載面的較低部位的噴嘴的流量之間。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述噴嘴的流量是自對應(yīng)設(shè)置于承載面的較 高部位逐漸往對應(yīng)設(shè)置于承載面的較低部位降低。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與基板搬運(yùn) 裝置的行進(jìn)方向?qū)嵸|(zhì)垂直。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中,上述位于清洗液供應(yīng)管路兩端的噴嘴分別與 承載面的較高部位以及較低部位對應(yīng)。
基于上述,本發(fā)明所提出的濕式清洗設(shè)備,可由調(diào)整清洗液供應(yīng)管路 上噴嘴設(shè)置的密度、噴嘴面積、清洗液的流速或流量,使清洗液在承載面 較高部份有較多的噴出量,因此可使基板上的各部位得到良好清潔效果。
圖l:為本發(fā)明實(shí)施例1的一種濕式清洗設(shè)備示意圖。 圖2:為本發(fā)明實(shí)施例1的另一種噴嘴設(shè)置示意圖。 圖3:為本發(fā)明實(shí)施例2的一種濕式清洗設(shè)備示意圖。圖4:為本發(fā)明實(shí)施例2的另一種噴嘴設(shè)置示意圖。 圖5:為本發(fā)明實(shí)施例3的一種濕式清洗設(shè)備示意圖。 附圖標(biāo)號-
200、 300、 400:濕式清洗設(shè)備
210:基板搬運(yùn)裝置 210a:承載面 220:清洗液供應(yīng)裝置 222:清洗液供應(yīng)管路 224a、 224b:噴嘴
C:清洗液 D:延伸方向 H:較高部位 L:較低部位 M:行進(jìn)方向 S:基板
e:傾斜角度
具體實(shí)施例方式
為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂,下文特舉實(shí)施例,并配 合附圖詳細(xì)說明如下。 實(shí)施例1
圖1為本發(fā)明實(shí)施例1的一種濕式清洗設(shè)備示意圖。請參照圖1,在本 實(shí)施例中,濕式清洗設(shè)備200包括基板搬運(yùn)裝置210以及清洗液供應(yīng)裝置
220?;灏徇\(yùn)裝置210具有承載面210a,其中基板搬運(yùn)裝置210的承載面 210a具有傾斜角度e,因此承載面210a具有較高部位H以及較低部位L。 清洗液供應(yīng)裝置220設(shè)置于基板搬運(yùn)裝置210的上方,其中清洗液供應(yīng)裝置220包括至少一清洗液供應(yīng)管路222以及多個(gè)噴嘴224a。清洗液供應(yīng)管 路222的延伸方向D與基板搬運(yùn)裝置210的承載面210a實(shí)質(zhì)平行。多個(gè)噴 嘴224a裝設(shè)于清洗液供應(yīng)管路222上,其中對應(yīng)設(shè)置在承載面210a的較 高部位H的噴嘴224a的清洗液C噴出量總合,大于對應(yīng)設(shè)置于承載面210a 的較低部位L的噴嘴224a的清洗液C噴出量總合,以達(dá)到良好的洗凈效果。
針對上述的濕式清洗設(shè)備200,所要說明的是,其中承載面210a所具 有的傾斜角度e,其范圍可以在2 8度之間,在此范圍內(nèi)可使清洗液C有 效帶走基板S上的懸浮粒子(未繪示)或其它臟污以避免殘留,且基板S也 不致于在承載面210a上滑動(dòng)。此外,上述清洗液供應(yīng)管路222的延伸方向 D與基板搬運(yùn)裝置210的行進(jìn)方向M實(shí)質(zhì)上是可彼此垂直的。而位于清洗液 供應(yīng)管路222兩端的噴嘴224a,則可分別與承載面210a的較高部位H以及 較低部位L對應(yīng),其可以與承載面210a的較高部位H以及較低部位L對齊 設(shè)置或是略超出承載面210a的較高部位H以及較低部位L的位置,以確保 基板S容置于洗凈范圍內(nèi)。另外,本發(fā)明不限制清洗液供應(yīng)管路222的數(shù) 量,本實(shí)施例的圖式所繪示的清洗液供應(yīng)管路222僅是用以說明本發(fā)明。
請繼續(xù)參照圖1,在本實(shí)施例中特別要注意的是,上述對應(yīng)設(shè)置在承載 面210a的較高部位H的噴嘴224a,其分布密度可大于對應(yīng)設(shè)置于承載面 210a的較低部位L的噴嘴224a分布密度。而對應(yīng)設(shè)置在承載面210a的較 高部位H與較低部位L之間的噴嘴224a的分布密度,則可介于對應(yīng)設(shè)置在 承載面210a的較高部位H的噴嘴224a的分布密度,以及對應(yīng)設(shè)置于承載 面210a的較低部位L的噴嘴224a的分布密度之間。然而,本發(fā)明并不以 此為限,對應(yīng)設(shè)置在承載面210a的較高部位H與較低部位L之間的噴嘴224a 的分布密度,可視承載面210a的傾斜角度e、承載面210a所搬運(yùn)的基板S 尺寸及擺放位置、或是其它考慮而作調(diào)整。換言之,本實(shí)施例的噴嘴224a 的分布密度是以三種密度分布于對應(yīng)在承載面210a的較高部位H、較低部 位L以及位于較高部位與較低部位L之間的中間部位。然而,在其它的實(shí)
9施例中,也可以僅設(shè)計(jì)兩種噴嘴密度,或是設(shè)計(jì)四種或以上的噴嘴密度, 但不限于此,可依實(shí)際需求調(diào)整。
圖2為本發(fā)明實(shí)施例1的另一種噴嘴設(shè)置示意圖。請參照圖2,除了上
述可在對應(yīng)承載面210a的不同部作分段式的噴嘴分布密度外,在本發(fā)明的 另一實(shí)施例中,噴嘴224a的分布密度還可以自對應(yīng)設(shè)置于承載面210a的 較高部位H逐漸往對應(yīng)設(shè)置于承載面210a的較低部位L降低。
在上述實(shí)施例中,由于清洗液C由噴嘴224a噴灑至承載面210a上的 基板S,而此時(shí)較高部位H的噴嘴224a分布密度較大,其意味著在較高部 位H中會(huì)有較多的清洗液C被噴灑至基板S上,因此可以改善基板S在對 應(yīng)較高部位H所被噴灑的清洗液C與于較低部位L所被噴灑的清潔液C不 均所導(dǎo)致基板整體清潔不均勻的問題,而使基板S的整體清洗效果得到提 高。
實(shí)施例2
圖3為本發(fā)明實(shí)施例2的一種濕式清洗設(shè)備示意圖。請參照圖3,本發(fā) 明實(shí)施例2的濕式清洗設(shè)備300,其設(shè)置大致和實(shí)施例1相同,其主要的差 異在于,本實(shí)施例是通過調(diào)整噴嘴224b的出口面積,而達(dá)到使對應(yīng)設(shè)置在 承載面210a的較高部位H的噴嘴224b的清洗液C噴出量總合大于對應(yīng)設(shè) 置于承載面210a的較低部位L的噴嘴224b的清洗液C噴出量總合的效果。 如圖3所示,在對應(yīng)設(shè)置在承載面S的較高部位H的噴嘴224b,可各具有 相同大小的出口面積,且此出口面積大于對應(yīng)設(shè)置在承載面210a的較低部 位L的噴嘴224b的出口面積。至于對應(yīng)設(shè)置在較高與較低部位H、 L之間 的噴嘴224b,其出口面積的大小則可介于高低兩部位H、 L的噴嘴224b出 口面積之間。類似地,此處僅為舉例說明,上述對應(yīng)設(shè)置在較高與較低部 位H、 L之間噴嘴224b的出口面積還可以根據(jù)實(shí)際情況加以設(shè)計(jì),只要能 使較高部位H的清洗液C噴出量總和大于較低部位L,皆在本發(fā)明所涵蓋的
10范圍。換言之,本實(shí)施例的噴嘴224b的出口面積是以三種出口面積于對應(yīng)在承載面210a的較高部位H、較低部位L以及位于較高部位H與較低部位L之間的中間部位。然而,在其它的實(shí)施例中,也可以僅設(shè)計(jì)兩種出口面積,或是設(shè)計(jì)四種或以上的出口面積,但不限于此,可依實(shí)際需求調(diào)整。
圖4為本發(fā)明實(shí)施例2的另一種噴嘴設(shè)置示意圖。請參照圖4,承上述,噴嘴224b除了可以在不同部位有不同的出口面積外,在另一實(shí)施例中,噴嘴224b的出口面積還可以自對應(yīng)設(shè)置于承載面210a的較高部位H逐漸往承載面210a的較低部位L降低。
實(shí)施例3
圖5為本發(fā)明實(shí)施例3的一種濕式清洗設(shè)備示意圖。請參照圖5,本發(fā)明實(shí)施例3的濕式清洗設(shè)備400,其設(shè)置大致和實(shí)施例1相同,其主要的差異在于,本實(shí)施例的濕式清洗設(shè)備400是通過調(diào)整噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量,而達(dá)到使對應(yīng)設(shè)置在承載面210a的較高部位H的噴嘴224a的清洗液C噴出量總合大于對應(yīng)設(shè)置于承載面210a的較低部位L的噴嘴224b的清洗液C噴出量總合的效果。對應(yīng)設(shè)置在承載面210a的較高部位H的噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量,可大于對應(yīng)設(shè)置于承載面210a的較低部位L的噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量。而對應(yīng)設(shè)置在承載面210a的較高部位H與較低部位L之間的噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量,則可介于對應(yīng)設(shè)置在承載面210a的較高部位H的噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量、以及對應(yīng)設(shè)置于承載面210a的較低部位L的噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量之間。同樣地,本發(fā)明也可使噴嘴224a在不同部分可具有不同流速或流量。更詳細(xì)而言,本實(shí)施例的噴嘴224a的流速或流量是以三種流速或流量于對應(yīng)在承載面210a的較高部位H、較低部位L以及位于較高部位與較低部位L之間的中間部位。然而,在其它的實(shí)施例中,也可以僅設(shè)計(jì)兩種流速或流量,或是設(shè)計(jì)四種或以上的流速或流
ii量,但不限于此,可依實(shí)際需求調(diào)整。
此外,還可根據(jù)承載面210a的傾斜角度e,或其它的考慮,使噴嘴224a在不同部位具有不同的清洗液C噴出流速或流量。舉例來說,在本發(fā)明的另一實(shí)施例中,上述噴嘴224a的清洗液C噴出流速或流量,也可以自對應(yīng)設(shè)置于承載面210a的較高部位H逐漸往承載面210a的較低部位L降低。
實(shí)際使用時(shí),例如可加裝流速控制器420,使對應(yīng)設(shè)置在承載面210a的較高部位H的噴嘴224a可具有較大流速或流量。當(dāng)然,其它還有許多可以控制噴嘴224a流速或流量的方法,此處的流速控制器420僅為舉例說明,
并非用以限定本發(fā)明。
基本上,只要能夠使對應(yīng)于承載面210a較高部分H的清洗液C噴出量總和,大于對應(yīng)較低部分L的清洗液C噴出量總和,皆符合本發(fā)明的精神。
綜上所述,本發(fā)明的濕式清洗設(shè)備至少具有下列優(yōu)點(diǎn)
通過調(diào)整噴嘴設(shè)置的密度、出口面積、清洗液的流速或流量,可使清洗液在承載面較高的位置有較多的噴出量,因而改善了較高部位清潔效果不佳的問題,使基板整體有較佳的潔凈度。
雖然本發(fā)明已以具體實(shí)施例揭示,但其并非用以限定本發(fā)明,任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員,在不脫離本發(fā)明的構(gòu)思和范圍的前提下所作出的等同組件的置換,或依本發(fā)明專利保護(hù)范圍所作的等同變化與修飾,皆應(yīng)仍屬本專利涵蓋之范疇。
權(quán)利要求
1. 一種濕式清洗設(shè)備,其特征在于該濕式清洗設(shè)備包括一基板搬運(yùn)裝置,其具有一承載面,其中該基板搬運(yùn)裝置的該承載面具有一傾斜角度,因而該承載面具有一較高部位以及一較低部位;一清洗液供應(yīng)裝置,設(shè)置于基板搬運(yùn)裝置的上方,其中該清洗液供應(yīng)裝置包括至少一清洗液供應(yīng)管路,該清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與該基板搬運(yùn)裝置的該承載面實(shí)質(zhì)平行;多個(gè)噴嘴,裝設(shè)于該清洗液供應(yīng)管路上,其中對應(yīng)設(shè)置在該承載面的該較高部位的該些噴嘴的清洗液噴出量總合大于對應(yīng)設(shè)置于該承載面的該較低部位的該些噴嘴的清洗液噴出量總合。
2. 如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備,其特征在于該傾斜角度為2 8度。
3. 如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備,其特征在于對應(yīng)設(shè)置在該承 載面的該較高部位的該些噴嘴的分布密度大于對應(yīng)設(shè)置于該承載面的該較 低部位的該些噴嘴的分布密度。
4. 如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備,其特征在于對應(yīng)設(shè)置在該承 載面的該較高部位與較低部位之間的該些噴嘴的分布密度介于對應(yīng)設(shè)置在 該承載面的該較高部位的該些噴嘴的分布密度以及對應(yīng)設(shè)置于該承載面的 該較低部位的該些噴嘴的分布密度之間。
5. 如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備,其特征在于該些噴嘴的分布 密度是自對應(yīng)設(shè)置于該承載面的該較高部位逐漸往對應(yīng)設(shè)置于該承載面的 該較低部位降低。
6. 如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備,其特征在于對應(yīng)設(shè)置在該承 載面的該較高部位的該些噴嘴的清洗液噴出流速大于對應(yīng)設(shè)置于該承載面的該較低部位的該些噴嘴的清洗液噴出流速。
7. 如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備,其特征在于對應(yīng)設(shè)置在該承 載面的該較高部位與該較低部位之間的該些噴嘴的清洗液噴出流速介于對 應(yīng)設(shè)置在該承載面的該較高部位的該些噴嘴的清洗液噴出流速以及對應(yīng)設(shè) 置于該承載面的該較低部位的該些噴嘴的清洗液噴出流速之間。
8. 如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備,其特征在于該些噴嘴的清洗 液噴出流速是自對應(yīng)設(shè)置于該承載面的該較高部位逐漸往對應(yīng)設(shè)置于該承 載面的該較低部位降低。
9. 如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備,其特征在于對應(yīng)設(shè)置在該承 載面的該較高部位的該些噴嘴的出口面積大于對應(yīng)設(shè)置于該承載面的該較 低部位的該些噴嘴的出口面積。
10. 如權(quán)利要求l所述的濕式清洗設(shè)備,其特征在于對應(yīng)設(shè)置在該承 載面的較高部位與較低部位之間的該些噴嘴的出口面積介于對應(yīng)設(shè)置在該 承載面的該較高部位的該些噴嘴的出口面積以及對應(yīng)設(shè)置于該承載面的該 較低部位的該些噴嘴的出口面積之間。
11. 如權(quán)利要求l所述的濕式清洗設(shè)備,其特征在于該些噴嘴的出口 面積是自對應(yīng)設(shè)置于該承載面的該較高部位逐漸往對應(yīng)設(shè)置于該承載面的 該較低部位降低。
12. 如權(quán)利要求l所述的濕式清洗設(shè)備,其特征在于對應(yīng)設(shè)置在該承 載面的該較高部位的該些噴嘴的流量大于對應(yīng)設(shè)置于該承載面的該較低部 位的該些噴嘴的流量。
13. 如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備,其特征在于對應(yīng)設(shè)置在該承載面的較高部位與較低部位之間的該些噴嘴的流量介于對應(yīng)設(shè)置在該承載 面的該較高部位的該些噴嘴的流量以及對應(yīng)設(shè)置于該承載面的該較低部位 的該些噴嘴的流量之間。
14. 如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備,其特征在于該些噴嘴的流量是自對應(yīng)設(shè)置于該承載面的該較高部位逐漸往對應(yīng)設(shè)置于該承載面的該較 低部位降低。
15. 如權(quán)利要求l所述的濕式清洗設(shè)備,其特征在于該清洗液供應(yīng)管 路的延伸方向與該基板搬運(yùn)裝置的行進(jìn)方向?qū)嵸|(zhì)垂直。
16. 如權(quán)利要求1所述的濕式清洗設(shè)備,其特征在于位于該清洗液供 應(yīng)管路兩端的噴嘴分別與該承載面的該較高部位以及該較低部位對應(yīng)。
全文摘要
本發(fā)明為一種濕式清洗設(shè)備,包括基板搬運(yùn)裝置以及清洗液供應(yīng)裝置?;灏徇\(yùn)裝置具有承載面,且承載面具有傾斜角度,因而承載面具有較高部位以及較低部位。清洗液供應(yīng)裝置設(shè)置于基板搬運(yùn)裝置的上方,其中清洗液供應(yīng)裝置包括至少一清洗液供應(yīng)管路以及多個(gè)噴嘴。清洗液供應(yīng)管路的延伸方向與基板搬運(yùn)裝置的承載面實(shí)質(zhì)平行。多個(gè)噴嘴裝設(shè)于清洗液供應(yīng)管路上,其中對應(yīng)設(shè)置在承載面的較高部位的噴嘴的清洗液噴出量總合,大于對應(yīng)設(shè)置于承載面的較低部位的噴嘴的清洗液噴出量總合。
文檔編號B08B3/00GK101474622SQ200910004319
公開日2009年7月8日 申請日期2009年2月6日 優(yōu)先權(quán)日2009年2月6日
發(fā)明者林宗融, 蘇德修 申請人:友達(dá)光電股份有限公司