專利名稱:2,4-表油菜素內(nèi)酯提高甜瓜幼苗耐熱性的栽培方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及提高甜瓜幼苗耐熱性的栽培技術(shù),具體是一種通過根施外源物質(zhì)EBR 改善甜瓜幼苗耐熱性的栽培技術(shù)。
背景技術(shù):
甜瓜具有喜溫、喜光等特性。在氣候溫暖、光照充足、陰雨天少的氣候條件下生長良好,容易獲得高產(chǎn);全生育期最適溫度為25°C -35°C,低于14°C,生長發(fā)育受到抑制,10°C 以下停止生長;40°C以上同化作用顯著降低,升高至45°C以上時,生殖生長受到干擾與破壞,即使短時間的高溫,也會產(chǎn)生生理干擾,導(dǎo)致落花落果或果實(shí)不發(fā)育。甜瓜是近年來發(fā)展較快,效益較好的一種經(jīng)濟(jì)作物,我國甜瓜栽培面積和產(chǎn)量均居世界第一,已形成了山東、河北、上海、陜西等著名甜瓜設(shè)施栽培區(qū)。在上海等南方地區(qū)夏秋季栽培苗期正值8月份的高溫,高溫脅迫對甜瓜生長的影響越來越突出,解決高溫脅迫根本措施是培育耐高溫品種,但目前耐高溫優(yōu)質(zhì)的甜瓜新品種極少,現(xiàn)階段還主要集中在通過栽培管理及利用外源物質(zhì)提高甜瓜的耐高溫能力。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提出一種通過根施外源物質(zhì)EBR的方法來提高設(shè)施甜瓜幼苗耐熱性的方法。其特征在于所述的甜瓜耐熱性增強(qiáng)是經(jīng)過根施外源EBR實(shí)現(xiàn)的,將配制好的不同濃度的外源EBR對基質(zhì)培養(yǎng)條件高溫脅迫下的甜瓜幼苗進(jìn)行處理,通過測定相關(guān)指標(biāo),篩選出最佳濃度為1. Omg · L—1。所用的栽培形式為基質(zhì)栽培,通過根施外源物質(zhì)EBR手段有效的解決了設(shè)施甜瓜幼苗耐熱性問題。本發(fā)明的有益效果是用外源EBR根施甜瓜幼苗,除了可以大大提高其耐熱性外, 由于外源EBR對高溫脅迫下甜瓜幼苗的影響報道較少,故不但提高了甜瓜耐熱性,以期為甜瓜的優(yōu)質(zhì)高效栽培和可持續(xù)發(fā)展提供理論支持,而且通過研究EBR對高溫脅迫下植物各種調(diào)節(jié)機(jī)制,揭示EBR在植物中的功能及作用機(jī)制,更進(jìn)一步深入研究EBR在植物非生物脅迫中的作用。
具體實(shí)施例方式該提高設(shè)施甜瓜耐熱性的栽培方法是通過根施外源EBR技術(shù)實(shí)現(xiàn)。應(yīng)充分考慮外源EBR的配制方法、配制時間、處理的方法、時間間隔等條件。本專利在配制外源EBR濃度時,應(yīng)用力分之一的天平稱量,先用蒸餾水配制 SOmg-L-1的母液,4°C保存,用時按實(shí)驗所需的濃度進(jìn)行稀釋;為了保證處理濃度的穩(wěn)定性, 處理期間每天施一次外源EBR。通過對高溫鹽脅迫下的甜瓜根施不同外源EBR濃度,我們發(fā)現(xiàn)1. Omg -L-1EBR提高甜瓜耐熱性最強(qiáng)。通過研究EBR對高溫脅迫下甜瓜各種調(diào)節(jié)機(jī)制,進(jìn)一步揭示EBR在植物中的功能及作用機(jī)制;而且通過根施外源EBR提高甜瓜耐熱性,方法簡單易行、成本低。
圖1. A和B為EBR對高溫脅迫下甜瓜幼苗葉片和Fv/Fm的影響圖2. A和B為EBR對高溫脅迫下甜瓜幼苗葉片F(xiàn)v,/Fm,和OPSII的影響實(shí)施例2,4_表油菜素內(nèi)酯對高溫脅迫下甜瓜幼苗的影響1材料與方法1.1 材料供試的甜瓜品種為‘紅綠早脆’,由上海市農(nóng)業(yè)科學(xué)院提供。1.2 方法1.2. 1試材培育和試驗處理試驗在上海市農(nóng)業(yè)科學(xué)院園藝所進(jìn)行。2010年7月15日種子浸種催芽,出芽后分別播于直徑10cm、高IOcm的塑料營養(yǎng)缽中,蛭石作基質(zhì)。真葉展開后每2d澆1/8濃度日本園試營養(yǎng)液(EC值為0. 56dS/m) 一次,每株澆50mL,3片真葉后每株澆80mL。幼苗培養(yǎng)過程中放置于光照培養(yǎng)箱中,溫度設(shè)置晝(30 士 ΓΟ/夜(20 士 1°C)。8月1日,當(dāng)幼苗具有3 4片真葉時,選取生長一致的幼苗作如下處理(1)未受高溫脅迫對照(CKI) ; (2)濃度分別為0. 05,0. 1,0. 5,1. 0,1. 5mg/L的EBR溶液噴施甜瓜幼苗,連續(xù)噴施4d,以便甜瓜幼苗充分吸收EBR;(3)高溫脅迫對照(CKII),噴施自來水,將CKII和EBR處理幼苗進(jìn)行高溫脅迫,溫度為晝(42 士 1°C)/夜(30 士 1°C),相対濕度為80%左右(用培養(yǎng)箱匹配的加濕器控制),高溫脅迫2d后,將甜瓜幼苗置干與CKI環(huán)境條件一致的條件下恢復(fù)4d (在此過程中,每個處理繼續(xù)噴施相對應(yīng)濃度的EBR)。每處理10株,3次重復(fù),取第2片真葉測定各項指標(biāo)。測定時期噴施EBR4d未高溫脅迫(Si);高溫脅迫后2d (SII);高溫脅迫恢復(fù)4d后 (SIII)1.2.2 ^R 溶液配制先用蒸餾水配制50mg ·じ1的母液,4°C保存,用時按實(shí)驗所需的濃度進(jìn)行稀釋。1.2. 3指標(biāo)測定熱害指數(shù)、相對葉綠素含量、葉綠素?zé)晒鈪?shù)主要包括初始熒光(Fo)、ΦΡΞΙΙ最大光化學(xué)效率(Fv/Fm)、光系統(tǒng)II光能捕獲效率(Fv’ /Fm’ )和實(shí)際光化學(xué)效率(OPSII)2.結(jié)果2. 1 EBR對高溫脅迫下甜瓜幼苗熱害指數(shù)和相對葉綠素含量的影響從表1可以看出,高溫脅迫2d吋,不同濃度的EBR處理甜瓜幼苗熱害指數(shù)和相對葉綠素含量明顯不同。隨著EBR濃度的升高,熱害指數(shù)降低,濃度為1.0mg/L時,熱害指數(shù)最小,高溫脅迫使甜瓜幼苗相對葉綠素含量明顯降低,EBR處理抑制了葉綠素含量的降低, 濃度0. 05和0. 10mg/L對高溫脅迫后葉綠素含量緩解作用不明顯,但濃度達(dá)到1. Omg/L吋, 葉綠素含量明顯提高。表1 EBR對高溫脅迫下甜瓜幼苗熱害指數(shù)和相對葉綠素含量的影響CN 102523852 AEBR 濃度熱害指數(shù)丨 ndex of hot injuiy 相對葉綠索 fiflRe 丨 ative cWorophyll coment(mg/m2) Concentration
SII SitISISIISIlI
(mg/L)
0.00 (CK)0.775a0.650a33.20b29.73d30.03b
0.050.650b0.475b34. IOab30.4cd30.77b
0.100.550d0.325d35.50ab30.63cd30.97b
0.500.550d0.300d36.03ab33.23bc33.60ab
1.000.425e0.]75e37.77a37.13a37.30a
1.500.575c0.350c35.77ab34.57ab35.20a2. 2 EBR對高溫脅迫下甜瓜幼苗和Fv/Fm的影響在SI時期,不同濃度的EBR對甜瓜幼苗和Fv/Fm影響不大。在SII和SIII時期,高溫脅迫使甜瓜幼苗的你升高和Fv/Fm的降低,1. Omg/LEBR對葉片的升高和Fv/ Fm的降低有顯著的緩解作用(圖1. A,B)。2. 3 EBR對高溫脅迫下甜瓜幼苗Fv,/Fm'和OPSII的影響由圖2. A和B可以看出,高溫脅迫使甜瓜幼苗的Fv’ /Fm’和OPSII明顯降低,脅迫2d時,不同濃度的EBR處理顯著提高了高溫脅迫甜瓜幼苗的Fv,/Fm,和ΦPSII,在Si、 SII和SIII時期,不同濃度的EBR處理,F(xiàn)v’ /Fm,和OPSII變化趨勢基本一致,每個時期 EBR為1.0mg/L時的值最大。
權(quán)利要求
1.ー種利用根施外源物質(zhì)提高甜瓜幼苗耐熱性的栽培方法,其特征在于所述的提高甜瓜耐熱性是通過根施外源物質(zhì)EBR的方法實(shí)現(xiàn)的,基質(zhì)培養(yǎng)條件高溫脅迫下施用不同濃度(0. 01,0. 05,0. 1,0. 5,1. 0和1. 5mg ·じ1)的外源EBR,其中1. Omg ·じ1對高溫脅迫下的甜瓜幼苗效果最好。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的耐熱性甜瓜的栽培方法,其特征在于篩選EBR最佳濃度所測定的指標(biāo)操作簡單、成本低,主要包括熱害指數(shù)、相對葉綠素含量和葉綠素?zé)晒鈪?shù),通過以上指標(biāo)測定,篩選出1. Omg ·じ1EBR對基質(zhì)培養(yǎng)條件高溫脅迫下的甜瓜幼苗效果最好。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的提高甜瓜耐熱性的栽培方法,其特征在于所用的栽培形式為基質(zhì)栽培,所選用的最佳EBR濃度只在甜瓜苗期中使用。
全文摘要
本發(fā)明為一種提高設(shè)施甜瓜幼苗耐熱性的栽培方法,其特征在于所述的提高甜瓜幼苗耐熱性是經(jīng)過基質(zhì)培養(yǎng)條件下通過根施2,4-表油菜素內(nèi)酯(EBR,一類重要的植物生長調(diào)節(jié)劑)方法實(shí)現(xiàn)的。根施不同濃度外源物質(zhì)EBR的基礎(chǔ)上,通過測定相關(guān)指標(biāo),篩選最佳的EBR濃度的方法得到高溫脅迫下幼苗期生長勢強(qiáng)的壯苗,篩選出的EBR最佳濃度為1.0mg·L-1;所用的栽培形式為基質(zhì)栽培,通過根施外源物質(zhì)EBR手段有效的解決了夏季高溫脅迫導(dǎo)致甜瓜苗期生長勢弱的問題。
文檔編號A01P21/00GK102523852SQ20101056081
公開日2012年7月4日 申請日期2010年11月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月26日
發(fā)明者張永平, 楊少軍, 陳幼源, 陳緋翔 申請人:上海市農(nóng)業(yè)科學(xué)院, 上??茍@種子有限公司