技術(shù)編號：9809606
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于半導(dǎo)體器件的制造領(lǐng)域，涉及一種。背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件制造技術(shù)中，通常利用光刻工藝將掩膜版上的掩膜圖形轉(zhuǎn)移到晶圓表面的光刻膠層中。通常光刻的基本工藝包括涂膠、曝光和顯影等步驟。涂膠的目的是在晶圓表面建立薄而均勻且沒有缺陷的光掩膜層；曝光的目的是利用曝光光源將掩膜圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠層中；顯影是圖形化光刻膠層，將光刻膠層進(jìn)行曝光或者未曝光的區(qū)域去除，從而在晶圓表面形成圖形化的光刻膠層。之后在圖形化的光刻膠層的掩蔽下對晶圓進(jìn)行刻蝕，就將掩膜圖形轉(zhuǎn)移到晶圓中...
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