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低散射體次強散射源定位方法、低散射體賦形設(shè)計方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:9809192

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在進行目標電磁特性研究時,由于環(huán)境中必然存在被測目標之外的其他物體,例如用于承載被測目標的支架、載體等,這些物體必然存在電磁散射,為了盡量減小這些物體的電磁散射對被測目標電磁特性研究的影響,在設(shè)計時應(yīng)盡量降低其電磁散射強度,即將這些被測目標之外的物體設(shè)計成電磁散射盡量小的低散射體。在實際的設(shè)計中,根據(jù)測試需求設(shè)計的具有一定幾何形狀的這類低散射體,很多時候會在某個姿態(tài)范圍存在次強散射源,從而造成整體散射強度偏高,因此需要調(diào)整幾何形狀或優(yōu)化幾何參數(shù)以將次強散射...
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