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控制紫外光的焦點(diǎn)的方法、控制器及其形成集成電路的裝置的制造方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):9563888

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焦點(diǎn)控制為光刻技術(shù)的重要考量,以確保在半導(dǎo)體元件形成正確的圖案。焦點(diǎn)控制大體涉及焦點(diǎn)監(jiān)視以提供反饋供調(diào)整來(lái)自光刻成像系統(tǒng)的紫外光在半導(dǎo)體元件上的焦點(diǎn)。該光刻成像系統(tǒng)大體包括光源、集光器(collector,也習(xí)稱聚光透鏡系統(tǒng))、光刻掩膜(lithography mask,也習(xí)稱標(biāo)線片,reticle)、及物鏡(也習(xí)稱成像或縮影透鏡)。在涉及有極小刻度的受照?qǐng)D案的光刻技術(shù)中,例如極紫外線(EUV)光刻術(shù),焦點(diǎn)控制通常具有挑戰(zhàn)性。焦點(diǎn)控制主要受制于圖案的關(guān)鍵尺...
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