技術(shù)編號(hào):9400892
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 本發(fā)明涉及氧化物半導(dǎo)體靶材、氧化物半導(dǎo)體膜及其制造方法、以及薄膜晶體管。背景技術(shù) 作為以薄膜晶體管驅(qū)動(dòng)的方式的液晶顯示器,薄膜晶體管的溝道層采用了非晶硅 的液晶顯示器成為主流。但是,對(duì)于采用了非晶硅的溝道層而言,實(shí)現(xiàn)液晶顯示器的高要求 規(guī)格變得越來越困難。因此,近年來,作為代替非晶硅的溝道層用的材料,氧化物半導(dǎo)體備 受注目。 與用化學(xué)氣相沉積法(CVD)成膜的非晶硅不同,氧化物半導(dǎo)體能夠用濺射法進(jìn)行 成膜,所以膜的均質(zhì)性優(yōu)異,具有能夠應(yīng)對(duì)液晶顯示器的大型...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。