技術(shù)編號(hào)：8930369
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。在半導(dǎo)體芯片EUV光刻、同步輻射軟X射線等短波光學(xué)系統(tǒng)中，工作環(huán)境下殘存的碳?xì)浠衔镌诠獾妮椪障聲?huì)產(chǎn)生游離碳，在光學(xué)元件表面形成碳沉積污染，導(dǎo)致光學(xué)反射率降低，工作效率受到影響。為延長(zhǎng)光學(xué)元件的使用壽命，應(yīng)及時(shí)清理光學(xué)元件表面的碳沉積污染，恢復(fù)光學(xué)元件的光學(xué)反射率。美國(guó)Sandia國(guó)家實(shí)驗(yàn)室對(duì)目前現(xiàn)有的各種清洗方法做了深入研宄(Studies ofEUV Contaminat1n Mitigat1n)，研宄結(jié)果表明各種方法都有其性能上的缺點(diǎn)，如造成光學(xué)元件...
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