技術編號：847529
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型屬于口腔醫(yī)學領域，涉及口腔印模制取裝置，具體涉及一種新生兒雙側(cè)腭裂口腔印模托盤。背景技術我國每年約出生先天性腭裂新生兒2萬例，他們從出生后第2天即需要進行腭裂序列治療，而首要環(huán)節(jié)就是制取患兒口內(nèi)腭裂缺損模型，用于分析病情、制定治療方案。目前國內(nèi)外現(xiàn)有方法是利用1歲齡以上正常兒童口腔托盤制取腭裂印模，該托盤呈正常人頌弓的“η”形狀，尚未見有專門針對新生兒雙側(cè)腭裂設計的口腔印模托盤研究報道。新生兒雙側(cè)腭裂由于上頌頌弓尚未發(fā)育完全、形態(tài)遠小于正常兒童，...
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