技術(shù)編號(hào)：8255050
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。隨著高能量、高功率激光系統(tǒng)和高分辨、高對(duì)比度空間光學(xué)成像系統(tǒng)的不斷發(fā)展，光學(xué)元件的制造正朝著超精密、超光滑加工方向發(fā)展，既要提高光學(xué)元件的面型精度，降低光學(xué)元件的表面粗糙度，又要消除或減少光學(xué)元件亞表面缺陷。目前，檢測(cè)光學(xué)元件亞表面損傷的方法主要分有損檢測(cè)和無(wú)損檢測(cè)。常用的有損檢測(cè)技術(shù)包括截面顯微法、角度拋光法、逐層拋光刻蝕法、球锪孔法、錐體锪孔法、磁流變拋光斑點(diǎn)技術(shù)、恒定化學(xué)刻蝕速率法等。這些方法的實(shí)質(zhì)是通過(guò)物理或化學(xué)方法暴露不同深度損傷的橫切面或橫截面...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。