技術(shù)編號(hào)：8159782
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。技術(shù)領(lǐng)域本發(fā)明涉及一種器件及其制造方法、有源矩陣基板的制造方法及電光學(xué)裝置和電子儀器。本申請(qǐng)對(duì)2003年5月30日申請(qǐng)的日本專利申請(qǐng)第2003-155863號(hào)和2004年4月9日申請(qǐng)的日本專利申請(qǐng)第2004-115372號(hào)主張優(yōu)先權(quán)，這里援引其內(nèi)容。背景技術(shù) 以前，作為半導(dǎo)體集成電路等細(xì)微配線圖案的制造方法，多使用光刻法。另一方面，例如特開平11-274671號(hào)公報(bào)或特開2000-216330號(hào)公報(bào)等中公開了使用液滴噴出方式的方法。在這些公報(bào)中公開的技術(shù)通過從液滴噴頭向基板上噴出包含圖案形成用材料的功能液，在圖案形...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。