技術(shù)編號(hào)：7222912
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及多孔質(zhì)二氧化硅的制造方法。更詳細(xì)地說(shuō)，涉及可用于光機(jī)能 材料、電子機(jī)能材料等的介電常數(shù)低、機(jī)械強(qiáng)度高的多孔質(zhì)二氧化硅薄膜，以 及使用多孔質(zhì)二氧化硅薄膜而構(gòu)成的層間絕纟彖膜、半導(dǎo)體用材料、半導(dǎo)體裝置 的制造方法和用于制造它們的制造裝置。技術(shù)背景細(xì)孔的多孔質(zhì)無(wú)才兒氧化物，與沸石等以往的多孔質(zhì)無(wú)才幾氧化物相比，具有較大 的細(xì)孔容積、表面積等，正在研究用于催化劑載體、分離吸附劑、燃料電池、 傳感器等。將作為這種具有均勻中尺度細(xì)孔的氧化物之一的多孔質(zhì)二氧化...
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