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一種消除硅片表面水霧的低溫?zé)崽幚砉に嚨闹谱鞣椒夹g(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):7210923

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本發(fā)明涉及一種集成電路用硅拋光片的低溫?zé)崽幚砉に?,以消除硅片表?水霧"而避免硅片被重新清洗、甚至再次拋光。背景技術(shù)隨著微電子技術(shù)的發(fā)展,光刻的特征線寬越來(lái)越小,人們對(duì)硅片表面小直徑的顆粒的控制也越來(lái)越嚴(yán)格。表面顆粒是已經(jīng)硅片制造過(guò)程中一項(xiàng)重要的控制參數(shù),為保證硅片表面顆粒,硅片在經(jīng)過(guò)拋光后要在超凈環(huán)境下清洗、檢測(cè),然后密封包裝。但是在硅片的儲(chǔ)存、運(yùn)輸過(guò)程中,外包裝的泄露或者封裝前由于環(huán)境濕度過(guò)大,導(dǎo)致硅片表面吸附空氣中的水汽,而在硅片表面凝結(jié),在激光顆粒...
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