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高溫蝕刻工藝槽的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):7126883

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本實(shí)用新型涉及一種半導(dǎo)體LED芯片制作裝置。具體涉及一種高溫蝕刻工藝槽,該工藝槽主要用于半導(dǎo)體LED芯片行業(yè)中圖形化藍(lán)寶石襯底與外延片之間的工藝段,通過(guò)高溫蝕刻工藝在藍(lán)寶石襯底上生長(zhǎng)垂直化結(jié)構(gòu),是提高LED芯片亮度提升的必要工藝設(shè)備。背景技術(shù)本實(shí)用新型做出以前,由于所述工藝槽用于高溫藥液蝕刻,在工藝溫度下會(huì)產(chǎn)生大量腐蝕性揮發(fā)氣體,工藝槽內(nèi)的溶液為強(qiáng)腐蝕性液體,不僅會(huì)增加廢氣處理難度及成本,還會(huì)導(dǎo)致工藝溫度失衡、藥液損耗嚴(yán)重等相關(guān)的由于揮發(fā)而導(dǎo)致的不利于生產(chǎn)...
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