技術(shù)編號：6947400
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及具有對流路中流通的氣體進(jìn)行加熱的加熱器的供氣裝置。 背景技術(shù)以往，在半導(dǎo)體制造工序中，使用供氣裝置向薄膜生成裝置、干式蝕刻裝置等處理 設(shè)備供給處理氣體(例如，參考專利文獻(xiàn)1)。專利文獻(xiàn)1中記載的供氣裝置包括多列相互 平行設(shè)置的供氣部。在各供氣部中，內(nèi)部形成有氣體流路的多個流路塊配置在直線上，且在 流路塊上設(shè)有分別開閉各流路塊的氣體流路的開閉閥。專利文獻(xiàn)1 日本國專利申請公開公報“特開2003-91322號”專利文獻(xiàn)2 日本國專利申請公開公報“特開...
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