技術編號：6026205
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及光學領域，特別涉及一種包含參考光束的垂直入射光譜儀及光學測量系統(tǒng)。背景技術隨著半導體行業(yè)的快速發(fā)展，利用光學測量技術來快速精確地檢測半導體薄膜的厚度、材料特性及周期性結構的三維形貌是控制生產過程，提高生產率的關鍵環(huán)節(jié)，主要應用于集成電路、平板顯示器、硬盤、太陽能電池等包含薄膜結構的工業(yè)中。利用不同材料、不同結構的薄膜在不同波長對不同偏振態(tài)的入射光具有不同的反射率，其反射光譜具有獨特性。當今先進的薄膜及三維結構測量設備，如橢圓偏振儀和光學臨界尺度測...
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