技術(shù)編號(hào):582979
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體元件的制造方法,尤其涉及一種高介電常數(shù)介電層和/或 金屬柵極元件的制造方法。背景技術(shù)半導(dǎo)體集成電路(IC)工業(yè)已經(jīng)歷快速成長(zhǎng)。IC材料和設(shè)計(jì)的技術(shù)進(jìn)步已造成數(shù) 世代的IC演進(jìn),相較于前一世代,各世代的IC都具有較小及更復(fù)雜的電路。然而,上述的 進(jìn)步已增加制造IC和工藝的復(fù)雜性,并且為了使這些先進(jìn)技術(shù)得以實(shí)現(xiàn),類(lèi)似的IC工藝和 制造的開(kāi)發(fā)是必要的。在IC演進(jìn)的進(jìn)程中,功能的密度(也即每芯片面積互連的裝置的數(shù)目)已逐漸地 增加,當(dāng)幾何尺寸(...
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該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。