技術(shù)編號(hào)：3427735
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及薄膜領(lǐng)域，特別是涉及薄膜沉積、表面清洗、表面改性裝置和技術(shù)。技術(shù)背景氣體中的游離帶電粒子在電場的加速作用下獲得動(dòng)能，在不斷的碰撞及加速過程中)l每中性氣體分子離解，產(chǎn)生大量的活性基團(tuán)、電子、離子、uv輻射，形成等離子體。等離子體中的粒子能量高，化學(xué)反應(yīng)活性大，能夠使常規(guī)條件下無法發(fā)生或速度很慢的化學(xué)反 應(yīng)迅速進(jìn)行。其中離子溫度遠(yuǎn)小于電子溫度時(shí)稱為低溫等離子體，即非平衡等離子體，離 子和電子溫度相接近時(shí)為局部熱平衡等離子體，兩者溫度相等時(shí)為熱平衡等...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。