技術(shù)編號：2934078
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明是涉及一種具有離子生成源的離子注入機，生成源發(fā)射離子以 形成用于工件射束處理的離子束。背景技術(shù)離子注入機可以通過利用離子束轟擊晶片而用于處理硅晶片。這種射 束處理的一種用途是對晶片選擇性地摻入被控制濃度的雜質(zhì)，以在制造集 成電路期間產(chǎn)生半導體材料。典型的離子注入機包括離子源、離子提取裝置、質(zhì)量分析裝置、射束 傳送裝置、和晶片處理裝置。離子源生成期望的原子或分子摻雜劑種類的 離子。這些離子通過提取是統(tǒng)從源提取，提取是統(tǒng)通常為一組電極，這組 電極通電并引...
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