技術(shù)編號：2934072
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明所公開的實(shí)施例大體上涉及實(shí)現(xiàn)離子阱裝置的技術(shù)，更具體地 涉及一種在離子阱裝置中實(shí)現(xiàn)平衡射頻(RF)場的系統(tǒng)與方法。背景技術(shù)當(dāng)代電子分析裝置設(shè)計(jì)者和制造商的一個(gè)重要問題，是開發(fā)實(shí)現(xiàn)分析 儀器的有效方法。然而，對系統(tǒng)設(shè)計(jì)者來說，利用電子裝置有效地進(jìn)行分 析程序可能面臨重大的挑戰(zhàn)。例如，對增強(qiáng)的裝置功能與性能愈來愈多的 需求，可能需要更多的系統(tǒng)功能并需要更多資源。由于生產(chǎn)成本的增加和 操作的無效率，功能或者其它需求的增加還可能導(dǎo)致相應(yīng)的經(jīng)濟(jì)上的不利 影響。...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。