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在氧化鋅薄膜上繪制亞微米級紫外發(fā)光圖案的方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:2926146

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本發(fā)明涉及繪制發(fā)光文字圖案的方法,尤其是。背景技術(shù) 氧化鋅(ZnO)是一種非常重要的II-VI族具有直接的寬帶隙半導(dǎo)體材料,被廣泛應(yīng)用于電子、光電子學(xué)等領(lǐng)域。由于氧化鋅在室溫下具有很寬的帶隙(3.3eV)和很高的激子束縛能(60eV),氧化鋅在室溫下具有很高的紫外發(fā)光效率,特別適用于制備紫外發(fā)光二極管和紫外激光器等發(fā)光器件。另外,由于氧化鋅在可見波段的發(fā)光覆蓋500-700nm,并且可調(diào),氧化鋅還被廣泛應(yīng)用于熒光技術(shù)和高分辨場發(fā)射顯示技術(shù)等領(lǐng)域。在納米,在...
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