技術(shù)編號：2905379
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及對半導體基板等被處理基板進行等離子體處理的等離子體處理裝置、 等離子體處理方法和計算機可讀取的存儲介質(zhì)。背景技術(shù)例如，在半導體器件的制造過程中，為了在作為被處理基板的半導體晶片上形成的規(guī)定層上形成規(guī)定圖案，大多采用以抗蝕劑作為掩模、利用等離子體進行蝕刻的等離子體蝕刻處理。作為用于進行這樣的等離子體蝕刻的等離子體蝕刻裝置，使用各種裝置，其中，主流為電容耦合型平行平板等離子體處理裝置。在電容耦合型平行平板等離子體蝕刻裝置中，在腔室內(nèi)配置一對平行平板電...
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