技術(shù)編號(hào)：2894276
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及電子透鏡，并且尤其涉及一種多極電子透鏡，該多極電子透鏡用于最 小化由電子透鏡(該電子透鏡控制電子柱(諸如，微柱)中的電子束)的電子光學(xué)視點(diǎn)中 的像差所導(dǎo)致的電子束畸變。背景技術(shù)電子柱包括電子發(fā)射源和電子透鏡，創(chuàng)建并掃描電子束，并用于電子顯微鏡、半導(dǎo) 體光刻、或使用電子束的檢驗(yàn)設(shè)備，諸如用于檢驗(yàn)半導(dǎo)體設(shè)備的通路孔/接觸孔的設(shè)備、用 于檢驗(yàn)和分析樣本表面的設(shè)備、或用于檢驗(yàn)TFT-LCD設(shè)備的薄膜晶體管(TFT)的設(shè)備。此類電子柱的代表例為微柱。基于電...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。