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測(cè)量光刻套刻精度的標(biāo)尺及方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):2782714

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本發(fā)明涉及一種半導(dǎo)體技術(shù)中的芯片制造領(lǐng)域,尤其是一種。背景技術(shù) 在芯片制造過程中,通常要通過多層光刻工藝才能完成整個(gè)制造過程。光刻后的測(cè)量工藝,即套刻精度測(cè)量工藝,是檢驗(yàn)下層與上層光刻圖形位置的對(duì)準(zhǔn)是否符合要求的至關(guān)重要的一步。目前使用的傳統(tǒng)測(cè)量圖形稱為套刻盒記號(hào)(Boxmark)。該套刻盒記號(hào)由內(nèi)框和外框兩個(gè)正方形組成,兩個(gè)正方形的中心相同,并且正方形的邊相互平行。其中內(nèi)框正方形邊長(zhǎng)為10μm,外框正方形的邊長(zhǎng)為20μm。外框由需要被對(duì)準(zhǔn)的下層光刻工程制...
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