技術(shù)編號：2780282
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本公開內(nèi)容涉及用于涂覆光刻膠(photoresist)圖案的組合物及使用該組合物來形成精細(xì)光刻膠圖案的方法。更具體地，本公開內(nèi)容涉及包括水及水溶性聚合物的組合物，其用于涂覆光刻膠圖案以形成精細(xì)接觸孔，以及使用該組合物形成精細(xì)圖案的方法。背景技術(shù) 在半導(dǎo)體精細(xì)圖案中形成接觸孔的期間，通常引入抗蝕劑流動工藝(resist flow process，RFP)或通過化學(xué)物質(zhì)收縮輔助的抗蝕劑增強微影術(shù)(resist enhancement lithography a...
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