技術(shù)編號(hào)：2736838
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及聚合物、包含該聚合物的化學(xué)增幅負(fù)抗蝕劑組合物和使用該組合物的圖案形成方法。背景技術(shù)為了滿足近來在集成電路中對(duì)于更高集成化的更求，對(duì)于圖案形成需要更精細(xì)的特征尺寸。在形成具有0. 2 μ m或更低的特征尺寸的抗蝕劑圖案中，由于高感度和分辨率， 該領(lǐng)域中典型地使用利用光致生成的酸作為催化劑的化學(xué)增幅抗蝕劑組合物。通常，使用高能量射線例如UV、深UV、EUV或電子束(EB)作為這些抗蝕劑組合物曝光的光源。其中， 所述EB或EUV光刻被認(rèn)為最具吸引力的，...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。