技術(shù)編號：2715680
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種提高了極紫外光譜純度及抗氧化性的多層膜，屬于極紫外光刻領(lǐng)域。該多層膜在保證13.5nm處的反射率損失不大的前提下，使帶外波段的反射率、多層膜氧化及表層碳污染沉積得到有效的抑制。該多層膜依次包括基底、多個層周期的Si層/Mo層、光譜純化層、Mo層、光譜純化層及保護(hù)層。本發(fā)明在不改變膜系的外形，不增加光學(xué)元件，也不增加額外的加工步驟的基礎(chǔ)上，制作光譜純化層及保護(hù)層，在反射率損耗可以忽略的情況下，通過抑制帶外波段、抑制反射層的氧化和碳污染層的沉積，...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。