技術(shù)編號：2678622
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請涉及在表面用聚焦電子束誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)蝕刻材料的方法。一般來說，本發(fā)明涉及聚焦電子束誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)和它們在材料處理的應(yīng)用。具體地，本發(fā)明涉及使用電子束誘導(dǎo)蝕刻高空間分辨率地除去材料。本申請還涉及在納米級別上修復(fù)光掩模和改變集成電路和其它器件。背景技術(shù) 現(xiàn)已開發(fā)出能在納米級別上改變材料的多種直接寫入技術(shù)，大部分技術(shù)基于聚焦的粒子或光子束。應(yīng)用在半導(dǎo)體工業(yè)中的這些技術(shù)的例子包括修復(fù)光掩模和改變集成電路。在大多數(shù)這些應(yīng)用中，要求該技術(shù)能以亞微米精確度除去和填加材...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。