技術(shù)編號(hào)：12430836
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及真空鍍膜技術(shù)，具體涉及一種多功能單雙面連續(xù)式卷繞磁控濺射鍍膜設(shè)備。背景技術(shù)磁控濺射鍍膜是利用帶電荷的粒子在電場中加速后具有一定動(dòng)能的特點(diǎn)，將離子引向欲被濺射的物質(zhì)制成的靶電極(陰極)，并將靶材原子濺射出來使其沿著一定的方向運(yùn)動(dòng)到襯底并最終在襯底上沉積成膜的方法。采用磁控濺射技術(shù)鍍膜厚度及均勻性可控，且制備的薄膜致密性好、粘結(jié)力強(qiáng)及純凈度高，因此，磁控濺射技術(shù)已經(jīng)成為制備各種功能薄膜的重要手段，主要應(yīng)用于光電材料、包裝材料、反光材料、保溫隔熱材料、表面裝潢材料、電氣材料等。隨著現(xiàn)代工...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。