技術(shù)編號：11146508
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種離子注入機(jī)的磁聚焦透鏡，離子注入機(jī)是半導(dǎo)體制造離子注入工藝中的關(guān)鍵設(shè)備，因此本發(fā)明屬于半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域。背景技術(shù)隨著集成電路產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展，對半導(dǎo)體器件的性能也提出了更高的要求。離子注入機(jī)是半導(dǎo)體離子注入工藝中的關(guān)鍵設(shè)備，對半導(dǎo)體材料的性能有著重要的影響。離子源是離子注入機(jī)的離子產(chǎn)生裝置，受其離子產(chǎn)生方法的影響，它所產(chǎn)生的離子往往含有許多其他雜質(zhì)，且平行度和均勻性也比較差。為了篩選出所需離子、調(diào)整束流的平行度和均勻性、使束流能以一定角度注入到半導(dǎo)體材料中，離子束必須要經(jīng)過一定距離...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。