技術編號：11131986
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種暗室散射測試方法，特別是一種平面近場暗室散射的測試與補償方法，屬于天線測量技術領域。背景技術暗室散射是平面近場測量最主要的誤差源之一，對暗室散射進行全面和精確的測試，是提高天線測試精度的重要手段。該方法是在通信、導航衛(wèi)星天線平面近場測量校準方法研究過程中，在對誤差源——暗室散射進行測試評估時進行方法設計與驗證的。暗室散射是平面近場測試18項誤差源中最重要、評估難度最大的誤差源之一，對天線增益、旁瓣等參數的測試結果會產生重要的影響。目前最常用的暗室散射測試方法有兩種，一種是通過測試天...
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