技術(shù)編號(hào)：10536820
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。物理氣相沉積設(shè)備用于在對位于其內(nèi)的襯底上沉積薄膜，其工藝環(huán)境一般為真空。圖1a為典型的物理氣相沉積設(shè)備的反應(yīng)腔室的結(jié)構(gòu)示意圖，請參閱圖la，該反應(yīng)腔室10內(nèi)設(shè)置有基座11、托盤12和壓環(huán)13。其中，基座11設(shè)置在反應(yīng)腔室10的底部，且具有加熱功能，用以通過托盤12間接對位于托盤12上的襯底加熱和溫控，以使襯底達(dá)到工藝所需的溫度；托盤12上設(shè)置有多個(gè)用于承載襯底的凹槽，以提高單次工藝的產(chǎn)率；壓環(huán)13用于疊壓托盤12的邊緣區(qū)域，以將托盤12固定基座11上。另外...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。