技術(shù)編號：10487770
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 隨著集成電路的復(fù)雜度越來越高，特征尺寸也變的越來越小。當(dāng)集成電路的特征 尺寸接近光刻機(jī)曝光的系統(tǒng)極限，即特征尺寸接近或小于光刻光源時，硅片上制造出的版 圖會出現(xiàn)明顯的畸變，該現(xiàn)象稱為光學(xué)鄰近效應(yīng)。為了應(yīng)對光學(xué)鄰近效應(yīng)，提出了分辨率增 強(qiáng)技術(shù)。其中，光學(xué)鄰近修正（即0PC)已成為最重要的技術(shù)。 OPC不是一個一次就能得到精確結(jié)果的過程，它是一個不斷迭代的過程，需要多次 驗(yàn)證修改。于是post-OPC修復(fù)（即對已經(jīng)做過OPC的版圖進(jìn)行驗(yàn)證后的修復(fù)）成為提高O...
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