技術(shù)編號(hào)：10483413
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。 研磨液廣泛用于CMP工藝，以對(duì)晶圓進(jìn)行化學(xué)機(jī)械研磨、改善晶圓表面的平整度。 但目前的研磨液大多是多分散性研磨液，含有非磁性的固體顆粒如Si02S A1 203等。這些 多分散性研磨液是不穩(wěn)定的，固體顆粒容易隨著時(shí)間或溫度的變化而凝聚、沉淀，特別是如 果在研磨液的存儲(chǔ)或運(yùn)輸過(guò)程中不慎將其放入到不合適的冷藏庫(kù)，由于現(xiàn)有的分散性研磨 液非常不穩(wěn)定，適用的溫度窗口比較窄，將會(huì)導(dǎo)致嚴(yán)重的凝聚和沉淀，如圖1中的研磨液沉 淀實(shí)驗(yàn)結(jié)果所示。一旦研磨液中的固體顆粒發(fā)生凝聚...
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