技術(shù)編號：10470512
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。當(dāng)前的光刻工藝技術(shù)已經(jīng)達(dá)到了可實現(xiàn)最小尺寸的物理極限。要想設(shè)計和制造更小尺寸的器件，必須使用額外的分辨率增強技術(shù)。在這些技術(shù)中，多重曝光技術(shù)是比較成熟和可選的方案。多重曝光工藝技術(shù)可以有效提升設(shè)備分辨率指標(biāo)，極大地加強設(shè)備平臺的工藝適應(yīng)性。多重曝光技術(shù)提升了設(shè)備分辨率，同時也對工藝控制提出了更高的要求，尤其是套刻性能和線寬均勻性，對于22nm節(jié)點的多重曝光技術(shù)，各組工藝圖形間的套刻偏差將控制在1.7nm以內(nèi)，線寬(Line和Space)的均勻性<2n...
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