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一種低真空模式電子顯微鏡的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號:10266597

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采用常規(guī)掃描電鏡觀察不導(dǎo)電材料樣品表面形貌特征時,樣品室的真空度必須優(yōu)于10—1Pa,由于入射電子的作用,電子會在樣品表面上不斷聚集,引起放電現(xiàn)象,所以需要預(yù)先對樣品進行鍍導(dǎo)電膜處理、將樣品上多余的電子引走,在消除樣品表面上的堆積電子后才能在常規(guī)掃描電鏡的高真空條件下進行觀察。一般情況下樣品鍍的導(dǎo)電膜很薄,對樣品表面的形貌細(xì)節(jié)無大損傷,但對于有些含水、多孔或者不耐電子束燒傷的樣品在進行常規(guī)電鏡掃描時,不可避免地會產(chǎn)生如樣品的收縮變形、結(jié)構(gòu)假象等人為因素影響...
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