一種壓力燒結(jié)高密度ito旋轉(zhuǎn)靶材的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及磁控濺射鍍膜靶材、觸摸屏靶材領(lǐng)域，尤其是一種壓力燒結(jié)高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材。
【背景技術(shù)】
[0002]ITO靶材就是氧化銦和氧化錫粉末按一定比例混合后經(jīng)過一系列的生產(chǎn)工藝加工成型，再高溫氣氛燒結(jié)(1600度，通氧氣燒結(jié))形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體。
[0003]ITO靶材主要是在平板顯示器中得到廣泛的運(yùn)用，靶材主用是在半導(dǎo)體中運(yùn)用廣泛，科技發(fā)展的迅速，讓電子行業(yè)在市場中占據(jù)很大的份額，直接影響到了人們的工作和生活，ITO靶材有極高的性能優(yōu)勢，而且有比較高的耐熱沖擊性，在使用中不會對設(shè)備造成損壞，同時(shí)它的純度特別的高，目前，市場中很多電子產(chǎn)品都用到了平面顯示器，液晶電腦、液晶電視進(jìn)入到了千家萬戶，液晶的產(chǎn)品不管是在外觀上還是在質(zhì)地上都是比較高的，而且能夠降低耗能，ITO靶材被廣泛運(yùn)用到了電子領(lǐng)域，因?yàn)殡娮宇I(lǐng)域?qū)τ诓牧系囊笃毡楸容^高，它為電子行業(yè)的發(fā)展起到一定的推進(jìn)作用，同時(shí)靶材能夠延長電子產(chǎn)品的使用壽命，而且質(zhì)量也比較符合檢測標(biāo)準(zhǔn)，一般很少會出現(xiàn)產(chǎn)量不合格的現(xiàn)象，同時(shí)在外觀上也能符合人們的要求。
[0004]ITO靶材在目前的市場中使用廣泛，而生產(chǎn)它的方法有多種，在以前，它的生產(chǎn)技術(shù)并不是很好，為了滿足人們的需求才有了常壓燒結(jié)法，最初的生產(chǎn)方法就是真空熱壓法，使用這種方法生產(chǎn)靶材不僅花費(fèi)的成本比較高，而且不能夠提高工作的效率，對于企業(yè)來說不僅提高了投資的成本，而且并沒有讓產(chǎn)品的質(zhì)量得到改善;最近這些年，發(fā)明了一種常壓燒結(jié)法來生產(chǎn)ITO靶材，主要通過預(yù)壓的工作來實(shí)現(xiàn)對靶材的生產(chǎn)，而這種方法不僅能夠讓生產(chǎn)出的靶材密度比較均勻，而且降低了生產(chǎn)中的成本，用這種方法生產(chǎn)出來的靶材能夠用于高端顯示器中，但現(xiàn)有的ITO靶材采用常壓或微正壓燒結(jié)，造成ITO靶材密度較低，其性能還存在很大提升空間。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種壓力燒結(jié)高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材，包括高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材，所述高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材整體呈圓筒形，高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材內(nèi)部設(shè)有內(nèi)襯管，該內(nèi)襯管與高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材之間設(shè)有邦定層。
[0006]作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步方案:所述內(nèi)襯管的材料為鈦。
[0007]作為本實(shí)用新型的進(jìn)一步方案:所述邦定層的材料為銦。
[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:該壓力燒結(jié)高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材為高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材，采用壓力燒結(jié)的方式制造而成，密度高達(dá)99%以上，性能優(yōu)良，靶材密度比較均勻，值得大力推廣。
【附圖說明】
[0009]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖2為本實(shí)用新型的邦定示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例，基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0012]請參閱圖1-2，本實(shí)用新型實(shí)施例中，一種壓力燒結(jié)高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材，包括高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材I，所述高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材I整體呈圓筒狀，高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材I內(nèi)部設(shè)有內(nèi)襯管2，該內(nèi)襯管2的材料為鈦，內(nèi)襯管2與高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材I之間設(shè)有邦定層3，該邦定層3的材料為銦。
[0013]高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材I的制造方法:本方法采用共沉淀的ITO納米粉(In203:SnO比例從80:20?99:1)，加膠0.1?1.5%，進(jìn)行攪拌，干燥，然后用剛性芯桿和軟膠材料包扎進(jìn)行壓制，壓制壓力為50-300MPa，從而獲得圓管形的已成形生坯;將生坯外圓表面、端面進(jìn)行加工后放入壓力氣氛燒結(jié)爐中進(jìn)行燒結(jié)，通入0.3-301/min的純氧，并隨著溫度的提高逐步提高壓力，燒結(jié)溫度為1500-1650C;由此獲得密度高達(dá)99%以上的ITO旋轉(zhuǎn)靶材。
[0014]本實(shí)用新型的具體加工流程:一、采用共沉淀的ITO納米粉(In203: SnO比例從80:20?99:1)，按ITO粉的重量加水1-3倍、加粘接劑0.2?1.5%，進(jìn)行攪拌混合，噴霧干燥。
[0015]二、用剛性芯桿和軟膠材料包扎進(jìn)行壓制，壓制壓力為50_300MPa，從而獲得圓管形的已成形生坯:1、將壓制工具的上堵頭打開;2、裝入已經(jīng)噴霧干燥的ITO粉;3、均勻壓實(shí)裝緊后蓋上堵頭，扎緊兩端;4、放入冷等靜壓機(jī)壓制;壓制壓力100-300MPa，時(shí)間3-15分鐘；
5、壓制完成后取出壓成的生坯，進(jìn)行外形機(jī)加工;6、加工完成即可進(jìn)行燒結(jié)。
[0016]三、將生坯外圓表面、端面進(jìn)行加工后，放入壓力氣氛燒結(jié)爐中進(jìn)行燒結(jié):1、將ITO生坯放入圖示的壓力爐座上;2、開啟液壓裝置，將下爐座頂起，與爐體結(jié)合，密封，鎖緊;3、開始緩慢加熱，同時(shí)打開控制閥，由氧氣瓶輸入氧氣，送氣量0.3-30升/分，開啟排氣閥，氣體循環(huán)排出；4、當(dāng)溫度達(dá)到800°C，關(guān)閉排氣閥；5、通入0.3-301/min的純氧，并隨著溫度的提高逐步提高壓力；壓力范圍為-0.Ι-lMpa。繼續(xù)加溫并加氧氣，直到溫度達(dá)到1500-1650°C，用控制閥控制流量，觀察壓力表，使壓力逐漸升到0.3-1.0MPa;6、保溫1-5小時(shí)，同時(shí)緩慢降壓到大氣；7、隨爐冷卻到200°C以下，逐漸打開下爐座；由此獲得密度高達(dá)99%以上的ITO旋轉(zhuǎn)靶材;8、將燒結(jié)完成的ITO旋轉(zhuǎn)靶熟坯取出，進(jìn)行機(jī)加工，然后進(jìn)行邦定，將靶材粘接到靶筒上。
[0017]對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本實(shí)用新型不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié)，而且在不背離本實(shí)用新型的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型，因此，無論從哪一點(diǎn)來看，均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本實(shí)用新型內(nèi)，不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。
[0018]此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說明書按照實(shí)施方式加以描述，但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說明書作為一個(gè)整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種壓力燒結(jié)高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材，包括高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材(I)，其特征在于，所述高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材(I)整體呈圓筒形，高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材(I)內(nèi)部設(shè)有內(nèi)襯管(2)，該內(nèi)襯管(2)與高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材(I)之間設(shè)有邦定層(3)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓力燒結(jié)高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材，其特征在于，所述內(nèi)襯管(2)的材料為鈦。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的壓力燒結(jié)高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材，其特征在于，所述邦定層(3)的材料為銦。
【專利摘要】一種壓力燒結(jié)高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材，包括高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材，所述高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材整體呈圓筒狀，高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材內(nèi)部設(shè)有內(nèi)襯管，該內(nèi)襯管的材料為鈦，內(nèi)襯管與高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材之間設(shè)有邦定層，該邦定層的材料為銦；該壓力燒結(jié)高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材為高密度ITO旋轉(zhuǎn)靶材，采用壓力燒結(jié)的方式制造而成，密度高達(dá)99%以上，性能優(yōu)良，靶材密度比較均勻，值得大力推廣。
【IPC分類】C23C14/08, C23C14/34
【公開號】CN205295447
【申請?zhí)枴?br>【發(fā)明人】胡茂橫
【申請人】深圳恒泰克科技有限公司
【公開日】2016年6月8日
【申請日】2015年11月16日