低線密度光柵曝光系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光學(xué)系統(tǒng)技術(shù)，特別是涉及一種低線密度光柵曝光系統(tǒng)的技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0002]凹面光柵是光譜儀器中的一種重要色散元件，兼有色散和成像功能，可構(gòu)成只有一個(gè)光學(xué)作用面的光譜儀器，目前主要應(yīng)用于攝譜儀、掃描單色儀、直讀光譜儀、同位素光譜分析儀等儀器。
[0003]利用全息記錄技術(shù)獲得的變間距曲線槽凹面光柵，具有校正像差的能力，與機(jī)刻光柵相比，在像差、信噪比和成本方面更具優(yōu)勢(shì)。傳統(tǒng)的全息凹面光柵都采用雙光束曝光系統(tǒng)進(jìn)行制作，其制作原理是利用雙光束的曝光，在涂有光刻膠的基片上形成干涉條紋，通過顯影形成刻槽。全息凹面光柵要求兩個(gè)點(diǎn)光源曝光時(shí)具有一定的夾角，并且距離基片有一定的距離。在相對(duì)位置處放上透鏡小孔系統(tǒng)，形成兩個(gè)衍射受限球面波進(jìn)行干涉。但是由于透鏡小孔系統(tǒng)的體積所限，兩個(gè)點(diǎn)光源之間的最小距離是有限的，因此傳統(tǒng)的雙光束曝光系統(tǒng)無法實(shí)現(xiàn)小角度近距離的曝光，也無法實(shí)現(xiàn)需要小角度近距離曝光的低線密度光柵的制作。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種能實(shí)現(xiàn)小角度近距離曝光的低線密度光柵曝光系統(tǒng)。
[0005]為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明所提供的一種低線密度光柵曝光系統(tǒng)，其特征在于:包括激光發(fā)射器、分束鏡、第一反光鏡、第二反光鏡、鍍膜板；
所述鍍膜板是一透明平板玻璃，鍍膜板的正面貼附有增透膜，鍍膜板的反面貼附有半透半反膜，并且半透半反膜的反射面朝外；
該系統(tǒng)具有一個(gè)曝光工位，該系統(tǒng)的光路結(jié)構(gòu)為:從激光發(fā)射器出發(fā)后進(jìn)入分束鏡，再由分束鏡分成兩條光路，其中的第一條光路從分束鏡出發(fā)，再穿過鍍膜板后到達(dá)曝光工位；第二條光路則依次經(jīng)第一反光鏡、第二反光鏡射入鍍膜板的反面，再由鍍膜板反射后到達(dá)曝光工位。
[0006]本發(fā)明提供的低線密度光柵曝光系統(tǒng)，利用點(diǎn)光源的虛像來實(shí)現(xiàn)與相干光束的小角度曝光，能實(shí)現(xiàn)小角度近距離曝光，可用于曝光制作低線密度凹面光柵或平面光柵。
【附圖說明】
[0007]圖1是本發(fā)明實(shí)施例的低線密度光柵曝光系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0008]以下結(jié)合【附圖說明】對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例作進(jìn)一步詳細(xì)描述，但本實(shí)施例并不用于限制本發(fā)明，凡是采用本發(fā)明的相似結(jié)構(gòu)及其相似變化，均應(yīng)列入本發(fā)明的保護(hù)范圍，本發(fā)明中的頓號(hào)均表示和的關(guān)系。
[0009]如圖1所示，本發(fā)明實(shí)施例所提供的一種低線密度光柵曝光系統(tǒng)，其特征在于:包括激光發(fā)射器1、分束鏡2、第一反光鏡4、第二反光鏡5、鍍膜板3;
所述鍍膜板3是一透明平板玻璃，鍍膜板3的正面貼附有增透膜，鍍膜板3的反面貼附有半透半反膜，并且半透半反膜的反射面朝外；
該系統(tǒng)具有一個(gè)曝光工位，該系統(tǒng)的光路結(jié)構(gòu)為:從激光發(fā)射器I出發(fā)后進(jìn)入分束鏡2，再由分束鏡2分成兩條光路，其中的第一條光路SI從分束鏡2出發(fā)，再穿過鍍膜板3后到達(dá)曝光工位;第二條光路S2則依次經(jīng)第一反光鏡4、第二反光鏡5射入鍍膜板3的反面，再由鍍膜板3反射后到達(dá)曝光工位。
[0010]本發(fā)明實(shí)施例可用于曝光制作低線密度凹面光柵或平面光柵，制作時(shí)將工件6(涂有光刻膠的光柵基材)放置在曝光工位，分束鏡分出的兩束分光束即聚在工件6上進(jìn)行干涉，即可利用分束鏡分出的兩束分光束對(duì)工件6進(jìn)行小角度近距離曝光，調(diào)整第二反光鏡5的傾斜角度，即可調(diào)整兩束分光束之間的夾角，可實(shí)現(xiàn)不同的曝光角度需求。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種低線密度光柵曝光系統(tǒng)，其特征在于:包括激光發(fā)射器、分束鏡、第一反光鏡、第二反光鏡、鍍膜板； 所述鍍膜板是一透明平板玻璃，鍍膜板的正面貼附有增透膜，鍍膜板的反面貼附有半透半反膜，并且半透半反膜的反射面朝外； 該系統(tǒng)具有一個(gè)曝光工位，該系統(tǒng)的光路結(jié)構(gòu)為:從激光發(fā)射器出發(fā)后進(jìn)入分束鏡，再由分束鏡分成兩條光路，其中的第一條光路從分束鏡出發(fā)，再穿過鍍膜板后到達(dá)曝光工位；第二條光路則依次經(jīng)第一反光鏡、第二反光鏡射入鍍膜板的反面，再由鍍膜板反射后到達(dá)曝光工位。
【專利摘要】一種低線密度光柵曝光系統(tǒng)，涉及光學(xué)系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域，所解決的是全息光柵小角度近距離曝光的技術(shù)問題。該系統(tǒng)包括激光發(fā)射器、分束鏡、第一反光鏡、第二反光鏡、鍍膜板；所述鍍膜板是一透明平板玻璃，鍍膜板的正面貼附有增透膜，鍍膜板的反面貼附有半透半反膜，并且半透半反膜的反射面朝外；該系統(tǒng)具有一個(gè)曝光工位，該系統(tǒng)的光路結(jié)構(gòu)為：從激光發(fā)射器出發(fā)后進(jìn)入分束鏡，再由分束鏡分成兩條光路，其中的第一條光路從分束鏡出發(fā)，再穿過鍍膜板后到達(dá)曝光工位；第二條光路則依次經(jīng)第一反光鏡、第二反光鏡射入鍍膜板的反面，再由鍍膜板反射后到達(dá)曝光工位。本發(fā)明提供的系統(tǒng)，可用于曝光制作低線密度凹面光柵或平面光柵。
【IPC分類】G03F7/20, G02B5/18
【公開號(hào)】CN105607432
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201610014216
【發(fā)明人】周紅艷, 盛斌, 黃元申, 倪爭(zhēng)技, 陳鵬
【申請(qǐng)人】上海理工大學(xué)
【公開日】2016年5月25日
【申請(qǐng)日】2016年1月11日