專利名稱:露天礦二次穿孔區(qū)裝藥裝置的制作方法
露天礦二次穿孔區(qū)裝藥裝置技術(shù)領(lǐng)域:
本實(shí)用新型屬于礦山開(kāi)采施工技術(shù),主要提出一種露天礦二次穿孔區(qū)裝藥 裝置。
技術(shù)背景現(xiàn)在許多露天礦山都是由原來(lái)的地下開(kāi)采轉(zhuǎn)而進(jìn)行露天開(kāi)采的,但是由于 原來(lái)地采的不規(guī)范性,導(dǎo)致現(xiàn)在各臺(tái)階下部的采空區(qū)多而且復(fù)雜?,F(xiàn)在常采用 崩落的方法進(jìn)行處理,讓臺(tái)階塌落±真實(shí)下部采空區(qū),我們稱這部分處理空區(qū)塌 落后被填實(shí)的區(qū)域?yàn)槎未┛讌^(qū)域。由于被充填的區(qū)域不能完全填實(shí),所以二次穿孔區(qū)域的孔一般瞎況下都是劍門所說(shuō)得亂石渣 L。這種 L有兩種, 一種是孔中部有大的縫隙或者小的未塌實(shí)區(qū);另一種是孔底部有大的縫隙或者小的未塌實(shí)區(qū)。舌L孔裝藥一直是一個(gè)令人頭疼的問(wèn)題,因?yàn)楝F(xiàn)在露天礦山的炸藥主要 有銨油炸藥和乳化炸藥,亂孔的縫隙和小的未塌實(shí)區(qū)會(huì)讓大量的炸藥流失,嚴(yán) 重影響了爆破的質(zhì)量。
發(fā)明內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的即是提出一種露天礦二次穿孔區(qū)裝藥裝置,以解決亂孔 裝藥過(guò)程中存在的炸藥流失、影響爆破質(zhì)量的問(wèn)題。本實(shí)用新型完成其發(fā)明任務(wù)所采取的技術(shù)結(jié)構(gòu)為采用柔型袋狀容器,在 袋狀容器的下端裝填有±央狀重物,并將袋狀容器的下端與上部空間封閉,在袋 狀容器內(nèi)充填兩層炸藥,并在上下兩層炸藥之間放置起爆體,炸藥的上部為充 填物。本實(shí)用新型裝藥裝置的具體操作過(guò)程為本實(shí)用新型裝置主要用于深孔,如所需裝藥部位為710米深的舌L渣孔,其 中部有一個(gè)小的未塌實(shí)區(qū),下部具有部分亂石的二次穿孔區(qū)域的裝藥,設(shè)計(jì)的 柔性袋狀容器長(zhǎng)度〉15米,在袋狀容器的底端置入i央狀重物,扎住此端,將袋 狀容器沿 L放下,并使袋不能扭轉(zhuǎn),在袋放至底部后,向袋內(nèi)倒入炸藥,裝好 底藥,向袋中置入起爆體,然后倒入上部炸藥,裝藥完畢后進(jìn)行充填。本實(shí)用新型的裝置可使裝藥過(guò)程中炸藥不會(huì)流失,同時(shí)可節(jié)省裝藥的時(shí)間 并使爆破的質(zhì)量也得到了保證。
圖1為本實(shí)用新型使用狀態(tài)示意圖。圖中,1、袋狀容器,2、充±真物,3、小未塌實(shí)區(qū),4、起爆體,5、舌L石, 6、 ±央狀重物,7、底部炸藥,8、上部炸藥。
具體實(shí)施方式
結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例加以說(shuō)明-如圖1所示,本實(shí)用新型裝置的主體為長(zhǎng)度大于10米的柔性袋狀容器1, 其容器的下端具有塊狀重物6并將置入重物的下端與上部之間封閉,其袋狀容 器內(nèi)具有兩層炸藥7、 8并在兩層炸藥之間設(shè)置起爆體4, ^i:層為充i真物2, 起爆體的起爆弓戰(zhàn)引至容器上端用以控制起爆。
權(quán)利要求
1、一種露天礦二次穿孔區(qū)裝藥裝置,其特征是采用柔性袋狀容器(1),在袋狀容器(1)的下端裝填有塊狀重物(6),并將袋狀容器的下端與上部空間封閉,在袋狀容器(1)內(nèi)充填兩層炸藥(7)(8),并在上下兩層炸藥之間放置起爆體(4),炸藥的上部為充填物(2)。
專利摘要
本實(shí)用新型屬于礦山開(kāi)采施工技術(shù)。提出的露天礦二次穿孔區(qū)裝藥裝置采用柔性袋狀容器(1),在袋狀容器(1)的下端裝填有塊狀重物(6),并將袋狀容器的下端與上部空間封閉,在袋狀容器(1)內(nèi)充填兩層炸藥(7)(8),并在上下兩層炸藥之間放置起爆體(4),炸藥的上部為充填物(2)。本實(shí)用新型的裝置可使裝藥過(guò)程中炸藥不會(huì)流失,同時(shí)可節(jié)省裝藥的時(shí)間并使爆破的質(zhì)量也得到了保證。
文檔編號(hào)F42D1/00GKCN201289352SQ200820135652
公開(kāi)日2009年8月12日 申請(qǐng)日期2008年10月6日
發(fā)明者馮少?gòu)? 濤 楊 申請(qǐng)人:洛陽(yáng)欒川鉬業(yè)集團(tuán)股份有限公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan