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一種z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺的制作方法

文檔序號:8099821閱讀:303來源:國知局
一種z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺,包括Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)、用于保護(hù)Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)的基座、位于Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)上方的運(yùn)動平臺,所述Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)包括若干柔性臂、固定在柔性臂兩側(cè)的平行板、連接柔性臂與運(yùn)動平臺的輸出件、壓電陶瓷安裝件以及與基座連接固定的底盤,所述平行板通過柔性鉸鏈與柔性臂柔性連接,位于所述平行板之間、所述Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)下方、所述底盤上方的空間內(nèi)設(shè)置有壓電陶瓷,所述壓電陶瓷通過設(shè)置在兩側(cè)的平行板上的壓電陶瓷安裝件固定。本發(fā)明相較于傳統(tǒng)的放大定位平臺具有行程范圍大、精度高、結(jié)構(gòu)簡單、體積小、剛度大、靈敏度高、分辨率高、納米級、適宜作微動平臺等優(yōu)點(diǎn)。
【專利說明】一種z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于微驅(qū)動應(yīng)用領(lǐng)域,具體涉及為利用新型放大原理在Z軸實現(xiàn)負(fù)向放大一維精密定位的微驅(qū)動平臺。

【背景技術(shù)】
[0002]近年來,隨著微電子技術(shù),宇航,生物工程等學(xué)科的迅速發(fā)展,正式進(jìn)入了 “亞微米-納米”時代。在電子,光學(xué),機(jī)械制造等眾多【技術(shù)領(lǐng)域】中,迫切需要高精度,高分辨率,高可靠性的微定位系統(tǒng),用于實現(xiàn)高精度的研宄,微定位技術(shù)在微機(jī)電系統(tǒng)、納米制造技術(shù)、微電子及納米電子技術(shù)、納米生物工程等眾多高科技領(lǐng)域?qū)l(fā)揮越來越重要的作用。用以直接工作或配合其他儀器設(shè)備完成高精度的研宄和使用。
[0003]隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展,對微定位的界定也從以前的mm級到現(xiàn)在的亞um—nm級進(jìn)化,以后的發(fā)展方向?qū)⑹莵唍m級(<10-9m)。對高精密系統(tǒng)的研宄,以美國、德國和日本走在世界的前列,比如在基于壓電陶瓷納米定位方面,能夠達(dá)到lnm的分辨率、10nm左右的定位精度、10_以上的形程。目前我國在微定位【技術(shù)領(lǐng)域】的研宄還相對落后,因此,開展微定位平臺的相關(guān)研宄,對于縮小同國內(nèi)外同行的差距,促進(jìn)我國的國防軍工以及國民經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展有著重大而深遠(yuǎn)的意義。
[0004]一維精密定位平臺,主要功能是實現(xiàn)被操作樣件或被觀測樣件的一維精密運(yùn)動和定位,以及微探針的一維操作等。其微動工作原理在于利用壓電陶瓷的逆壓電效應(yīng),驅(qū)動彈性鉸鏈機(jī)構(gòu)實現(xiàn)微位移傳動,以達(dá)到一精密定位的要求。它相對于其他驅(qū)動方式的一維維精密定位技術(shù),如電機(jī)驅(qū)動、音圈電機(jī)驅(qū)動、記憶合金驅(qū)動及磁滯伸縮驅(qū)動方式等,其基本原理實現(xiàn)方便、控制簡單,并具有分辨率高、傳動無間隙、易微小化、運(yùn)動精度高和重復(fù)定位精度高等優(yōu)點(diǎn)。微位移驅(qū)動器是微定位平臺的關(guān)鍵部分,驅(qū)動器的特性和精度對定位平臺系統(tǒng)的性能有著重要影響。微位移驅(qū)動器是微定位平臺的關(guān)鍵部分,驅(qū)動器的特性和精度對定位平臺系統(tǒng)的性能有著重要影響。
[0005]微動工作臺由微位移驅(qū)動器和導(dǎo)軌兩部分組成。根據(jù)導(dǎo)軌形式和驅(qū)動方式可分為五類:柔性支撐、壓電或電致伸縮微位器驅(qū)動;滾動導(dǎo)軌,壓電陶瓷或電致伸縮微位移器驅(qū)動:滑動導(dǎo)軌,機(jī)械式驅(qū)動;平行彈性導(dǎo)軌,機(jī)械式或電磁、壓電、電致伸縮微位移器驅(qū)動器驅(qū)動;氣浮導(dǎo)軌,伺服電機(jī)或直線電機(jī)驅(qū)動。通常的壓電陶瓷驅(qū)動的微位移工作臺以柔性鉸鏈作支承導(dǎo)軌,以壓電陶瓷驅(qū)動器作驅(qū)動元件。
[0006]柔性鉸鏈包括正圓型、直角型、橢圓型、雙曲線型。正圓型:準(zhǔn)確性較低,應(yīng)力集中小,靈活性最好,加工方便;直角型:具有最大的集中應(yīng)力,靈活性較好,強(qiáng)度不足;橢圓型:應(yīng)力集中最小,精確性較低;雙曲線型:精度較高,應(yīng)力集中較低,加工困難。柔性機(jī)構(gòu)包括位移Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)、位移導(dǎo)向機(jī)構(gòu)、柔性鉸鏈。柔性機(jī)構(gòu)的優(yōu)點(diǎn):1、無機(jī)械摩擦、無間隙2、免于磨損、提高壽命3、高精度運(yùn)動4、免于潤滑、避免污染;缺點(diǎn):1、運(yùn)動范圍有限2、很難實現(xiàn)大行程3、剛性低。(如專利號為CN201420081663.6的專利)。
[0007]精密定位平臺位移Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)包括杠桿機(jī)構(gòu)、四邊形機(jī)構(gòu)、八桿機(jī)構(gòu)、Scott機(jī)構(gòu)、橋式機(jī)構(gòu)。杠桿機(jī)構(gòu):優(yōu)點(diǎn):剛度大、結(jié)構(gòu)簡單、易制造,缺點(diǎn):位移放大倍數(shù)小、存在位移耦合;四邊形機(jī)構(gòu):優(yōu)點(diǎn):結(jié)構(gòu)對稱、消除了位移耦合,缺點(diǎn):位移放大倍數(shù)小;八桿機(jī)構(gòu):優(yōu)點(diǎn):結(jié)構(gòu)緊湊、消除了位移耦合,缺點(diǎn):結(jié)構(gòu)復(fù)雜、不易制造;Scott機(jī)構(gòu):優(yōu)點(diǎn):結(jié)構(gòu)簡單緊湊、位移放大倍數(shù)大,缺點(diǎn):放大比非線性;橋式機(jī)構(gòu):優(yōu)點(diǎn):結(jié)構(gòu)簡單、位移放大倍數(shù)大,缺點(diǎn):剛度太低。
[0008]上述一維精密定位平臺在一維實現(xiàn)結(jié)構(gòu)和位移放大方式上有所不同,在實現(xiàn)一維大行程精密定位的過程中都會因為機(jī)構(gòu)類型的原因在一維大行程精密定位中引起誤差,最終影響運(yùn)動精度,而且為一維大行程精密定位平臺帶來累積誤差和角度誤差、耦合位移等技術(shù)難題。(如專利號為 CN201310603633.7、CN201310068434.0 的專利)。
[0009]因此,有必要找到一種能夠有效提高運(yùn)動范圍放大倍數(shù),同時能夠減小精密定位平臺體積,而且避免角度誤差的精密定位平臺。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]有鑒于此,本發(fā)明提供了一種利用新型Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)的Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺,該種新型Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)在加工過程中容易保證其加工精度,使工件的對稱性有很大提高,這樣就避免了新型Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)的耦合位移。
[0011]—種Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺,其特征在于:包括Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)、用于保護(hù)Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)的基座、位于Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)上方的運(yùn)動平臺,所述Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)包括若干柔性臂、固定在柔性臂兩側(cè)的平行板、連接柔性臂與運(yùn)動平臺的輸出件、壓電陶瓷安裝件以及與基座連接固定的底盤,所述平行板通過柔性鉸鏈與柔性臂柔性連接,位于所述平行板之間、所述Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)下方、所述底盤上方的空間內(nèi)設(shè)置有壓電陶瓷,所述壓電陶瓷通過設(shè)置在兩側(cè)的平行板上的壓電陶瓷安裝件固定。
[0012]優(yōu)選地,所述壓電陶瓷安裝件包括預(yù)緊螺母以及鋼珠,與壓電陶瓷柔性連接。
[0013]優(yōu)選地,所述預(yù)緊螺母采用細(xì)牙螺紋。
[0014]優(yōu)選地,所述Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)的放大倍數(shù)為4倍。
[0015]優(yōu)選地,位于所述壓電陶瓷下方的底盤上設(shè)置有容納屏蔽線的保護(hù)套。
[0016]優(yōu)選地,所述Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)與基座螺釘連接。
[0017]優(yōu)選地,所述運(yùn)動平臺上表面設(shè)置有用于安裝運(yùn)動件的連接螺紋。
[0018]優(yōu)選地,所述運(yùn)動平臺外圍設(shè)置有上蓋板,所述上蓋板架設(shè)于所述基座上。
[0019]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0020](1)本發(fā)明中采用基座保護(hù)Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu),使Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)不受外界干擾,以保證精密定位工作臺正常工作,同時在橫向方向上擁有更大的空間,結(jié)構(gòu)更加緊湊,可以實現(xiàn)更大范圍的運(yùn)動。
[0021](2)本發(fā)明中采用壓電陶瓷驅(qū)動器,體積小、位移分辨率高、響應(yīng)速度快、輸出力大、換能效率高、靜態(tài)不發(fā)熱,有效提高定位平臺運(yùn)作的穩(wěn)定性。
[0022](3)本發(fā)明中對于壓電陶瓷驅(qū)動器的預(yù)緊裝置也有了很大程度上的改進(jìn),與以往的預(yù)緊裝置相比,本發(fā)明的預(yù)緊裝置的預(yù)緊螺母采用細(xì)牙螺紋,采用細(xì)牙螺紋防松防振效果好、可以精確微調(diào)預(yù)緊力,避免壓電陶瓷在安裝過程中的間隙所造成的運(yùn)動誤差和壓電陶瓷的損壞。
[0023](4)在本發(fā)明一種Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺中,Z軸負(fù)向的運(yùn)動由壓電陶瓷驅(qū)動,通過新型Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu),將壓電陶瓷運(yùn)動范圍放大,其中平行板柔性鉸鏈結(jié)構(gòu)起到導(dǎo)向和輔助回復(fù)的作用,并且在柔性鉸鏈的保護(hù)下,平臺保持運(yùn)動方向的一致性,而避免了垂直于運(yùn)動方向的任何運(yùn)動,以及外力的破壞。
[0024](5)本發(fā)明所設(shè)計的Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)具有行程范圍大、精度高、結(jié)構(gòu)簡單、體積小、剛度大、靈敏度高、分辨率極高、納米級、適宜作微動平臺等優(yōu)點(diǎn),在微機(jī)電系統(tǒng)、光學(xué)調(diào)整、超精密加工、STM(Scanning Tunneling Microscope,掃描隧道顯微鏡)和 AFM(AtomicForce Microscope,原子力顯微鏡)掃描平臺、微納操作、微小型機(jī)器人以及生物微操作等領(lǐng)域因其結(jié)構(gòu)緊湊和易大范圍精確定位而擁有廣泛的應(yīng)用前景。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0025]為了更清晰地說明本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案,下面將對實施例中所需要使用的附圖簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明中記載的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0026]圖1為本發(fā)明一種Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺結(jié)構(gòu)示意圖;
[0027]圖2為本發(fā)明一種Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺俯視圖;
[0028]圖3為本發(fā)明一種Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺中Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0029]其中:
[0030]1、基座; 2、Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu);
[0031]21、輸出件; 22、柔性臂; 23、壓電陶瓷安裝件; 24、底盤; 25、平行板;
[0032]3、運(yùn)動平臺; 31、連接螺紋;
[0033]4、上蓋板; 5、柔性鉸鏈; 6、壓電陶瓷;
[0034]71?72、預(yù)緊螺母; 8、鋼珠; 9、保護(hù)套。

【具體實施方式】
[0035]為了改善Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺的輸出性能,本發(fā)明公開了一種Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺,在一個平面內(nèi)采用Z軸負(fù)向一維的精密定位,并采用Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu),有效得提高運(yùn)動范圍放大倍數(shù),減小精密定位平臺體積,使其更加緊湊,而且避免其他Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)所帶來的角度誤差。
[0036]下面通過實施例,并結(jié)合附圖,對本發(fā)明的技術(shù)方案作進(jìn)一步具體的說明。
[0037]一種Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺,包括Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2、用于保護(hù)Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2的基座1、位于Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)1上方的運(yùn)動平臺3,以及設(shè)置在運(yùn)動平臺3外圍的上蓋板4。其中,Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2通過螺紋孔與Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺中基座1連接;z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺中Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2是由線切割而成并且優(yōu)選地具有八個鉸鏈點(diǎn),Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺中運(yùn)動平臺3處有用于安裝運(yùn)動件的連接螺紋31。
[0038]如圖1?圖3所示,上述Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2包括若干柔性臂22、固定在柔性臂22兩側(cè)的平行板25、連接柔性臂22與運(yùn)動平臺3的輸出件21、壓電陶瓷安裝件23以及與基座1連接固定的底盤24。其中,所述平行板25通過柔性鉸鏈5與柔性臂22實現(xiàn)柔性連接,位于所述平行板25之間、所述Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2下方、所述底盤24上方的空間內(nèi)設(shè)置有壓電陶瓷6,所述壓電陶瓷6通過設(shè)置在兩側(cè)的平行板25上的壓電陶瓷安裝件23固定。Z軸負(fù)向的運(yùn)動由壓電陶瓷6驅(qū)動,通過Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2,將壓電陶瓷6運(yùn)動范圍放大。其中,平行板25與柔性鉸鏈5的連接結(jié)構(gòu)起到導(dǎo)向和輔助回復(fù)的作用,并且在柔性鉸鏈5的保護(hù)下,平臺保持運(yùn)動方向的一致性,而避免了垂直于運(yùn)動方向的任何運(yùn)動,以及外力的破壞。
[0039]優(yōu)選地,如圖3所示,本發(fā)明Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺中壓電陶瓷6通過Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺中預(yù)緊螺母71?72、鋼珠8調(diào)整預(yù)緊力安裝于Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺的Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)4之中,使得壓電陶瓷6在Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2中準(zhǔn)確定位。與以往的預(yù)緊裝置相比,本發(fā)明中的預(yù)緊螺母71?72采用細(xì)牙螺紋,采用細(xì)牙螺紋防松防振效果好、可以精確微調(diào)預(yù)緊力,避免壓電陶瓷6在安裝過程中的間隙所造成的運(yùn)動誤差和壓電陶瓷6自身的損壞。
[0040]如圖1?圖3所示,位于所述壓電陶瓷6下方的底盤24上設(shè)置有容納屏蔽線的保護(hù)套9,與上述壓電陶瓷6連接的屏蔽線通過該保護(hù)套9穿出,該Z軸負(fù)向一維精密定位平臺中壓電陶瓷6的形變通過Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2放大,由柔性鉸鏈5傳遞給運(yùn)動平臺3輸出放大位移。
[0041]如圖3所示,本發(fā)明優(yōu)選實施方式中,Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺中Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2,通過Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2的底盤24與Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺中基座1連接。通過Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2的柔性臂22,將壓電陶瓷6的位移放大輸出到Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2的輸出件21,輸出件21與運(yùn)動平臺3連接,并將位移放大輸出運(yùn)動平臺3。而本Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺中Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2中的壓電陶瓷安裝件23又包括預(yù)緊螺母71?72和鋼珠8,壓電陶瓷安裝件23通過該預(yù)緊螺母71?72和鋼珠8為壓電陶瓷6提供足夠的預(yù)緊力,避免壓電陶瓷6在安裝過程中的間隙所造成的運(yùn)動誤差。
[0042]優(yōu)選地,本Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺中新型Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2的放大倍數(shù)約為4倍,大大提高了原有杠桿Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)的位移放大倍數(shù)。
[0043]本發(fā)明中Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)中之所以采用柔性臂22、柔性鉸鏈5這樣的柔性設(shè)計,一方面是因為柔性機(jī)構(gòu)會有一定的彈性反力產(chǎn)生,使得Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2的輸出位移相應(yīng)的減少;另一方面柔性鉸鏈5是由于材料的彈性形變產(chǎn)生的位移,所以在形變過程中有一部分能量被材料本身吸收,同時會使壓電陶瓷6受較大的載荷,使其提供的驅(qū)動位移亦有減小。當(dāng)外形尺寸受限,壓電陶瓷確定的情況下,此結(jié)構(gòu)能夠獲得更大的位移輸出比。
[0044]本發(fā)明優(yōu)選實施方式中,Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺中基座1、柔性鉸鏈2、Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)4優(yōu)選輕密度金屬材料(如鋁合金、鈦合金等),預(yù)緊螺母71?72優(yōu)選重密度金屬材料(如不銹鋼、銅等),壓電陶瓷6 —般為PZT5類似硬壓電陶瓷材料等組成。
[0045]作為本發(fā)明的優(yōu)選實施方式,為了結(jié)構(gòu)的合理性,加工的可行性、成本等綜合因素的考慮,本發(fā)明中的基座1和Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2是分開的,即由同種材質(zhì)不同加工工藝加工而成。這樣結(jié)構(gòu)緊湊,且當(dāng)外形尺寸受限且壓電陶瓷確定的情況下,此結(jié)構(gòu)能夠獲得更大的位移輸出比。使用本精密定位工作臺時,當(dāng)給壓電陶瓷6加上一個電壓激勵時壓電陶瓷6即會發(fā)生形變,同時頂住鋼珠8帶動Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2向軸向運(yùn)動,Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)2帶動安裝在其運(yùn)動平臺3上部的系統(tǒng)運(yùn)動。
[0046]與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn):
[0047](1)本發(fā)明中采用基座保護(hù)Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu),使Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)不受外界干擾,以保證精密定位工作臺正常工作,同時在橫向方向上擁有更大的空間,結(jié)構(gòu)更加緊湊,可以實現(xiàn)更大范圍的運(yùn)動。
[0048](2)本發(fā)明中采用壓電陶瓷驅(qū)動器,體積小、位移分辨率高、響應(yīng)速度快、輸出力大、換能效率高、靜態(tài)不發(fā)熱,有效提高定位平臺運(yùn)作的穩(wěn)定性。
[0049](3)本發(fā)明中對于壓電陶瓷驅(qū)動器的預(yù)緊裝置也有了很大程度上的改進(jìn),與以往的預(yù)緊裝置相比,本發(fā)明的預(yù)緊裝置的預(yù)緊螺母采用細(xì)牙螺紋,采用細(xì)牙螺紋防松防振效果好、可以精確微調(diào)預(yù)緊力,避免壓電陶瓷在安裝過程中的間隙所造成的運(yùn)動誤差和壓電陶瓷的損壞。
[0050](4)在本發(fā)明一種Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺中,Z軸負(fù)向的運(yùn)動由壓電陶瓷驅(qū)動,通過新型z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu),將壓電陶瓷運(yùn)動范圍放大,其中平行板柔性鉸鏈結(jié)構(gòu)起到導(dǎo)向和輔助回復(fù)的作用,并且在柔性鉸鏈的保護(hù)下,平臺保持運(yùn)動方向的一致性,而避免了垂直于運(yùn)動方向的任何運(yùn)動,以及外力的破壞。
[0051](5)本發(fā)明所設(shè)計的Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)具有行程范圍大、精度高、結(jié)構(gòu)簡單、體積小、剛度大、靈敏度高、分辨率極高、納米級、適宜作微動平臺等優(yōu)點(diǎn),在微機(jī)電系統(tǒng)、光學(xué)調(diào)整、超精密加工、STM(Scanning Tunneling Microscope,掃描隧道顯微鏡)和 AFM(AtomicForce Microscope,原子力顯微鏡)掃描平臺、微納操作、微小型機(jī)器人以及生物微操作等領(lǐng)域因其結(jié)構(gòu)緊湊和易大范圍精確定位而擁有廣泛的應(yīng)用前景。
[0052]對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言,顯然本發(fā)明不限于上述示范性實施例的細(xì)節(jié),而且在不背離本發(fā)明的精神或基本特征的情況下,能夠以其他的具體形式實現(xiàn)本發(fā)明。因此,無論從哪一點(diǎn)來看,均應(yīng)將實施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說明限定,因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本發(fā)明內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。
[0053]此外,應(yīng)當(dāng)理解,雖然本說明書按照實施方式加以描述,但并非每個實施方式僅包含一個獨(dú)立的技術(shù)方案,說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說明書作為一個整體,各實施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合,形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實施方式。
【權(quán)利要求】
1.一種Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺,其特征在于:包括Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)、用于保護(hù)Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)的基座、位于Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)上方的運(yùn)動平臺,所述Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)包括若干柔性臂、固定在柔性臂兩側(cè)的平行板、連接柔性臂與運(yùn)動平臺的輸出件、壓電陶瓷安裝件以及與基座連接固定的底盤,所述平行板通過柔性鉸鏈與柔性臂柔性連接,位于所述平行板之間、所述Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)下方、所述底盤上方的空間內(nèi)設(shè)置有壓電陶瓷,所述壓電陶瓷通過設(shè)置在兩側(cè)的平行板上的壓電陶瓷安裝件固定。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺,其特征在于:所述壓電陶瓷安裝件包括預(yù)緊螺母以及鋼珠,與壓電陶瓷柔性連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺,其特征在于:所述預(yù)緊螺母采用細(xì)牙螺紋。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺,其特征在于:所述Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)的放大倍數(shù)為4倍。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺,其特征在于:位于所述壓電陶瓷下方的底盤上設(shè)置有容納屏蔽線的保護(hù)套。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺,其特征在于:所述Z軸負(fù)向放大機(jī)構(gòu)與基座螺釘連接。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺,其特征在于:所述運(yùn)動平臺上表面設(shè)置有用于安裝運(yùn)動件的連接螺紋。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Z軸負(fù)向放大一維精密定位平臺,其特征在于:所述運(yùn)動平臺外圍設(shè)置有上蓋板,所述上蓋板架設(shè)于所述基座上。
【文檔編號】G12B5/00GK104464838SQ201410784590
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年12月16日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月16日
【發(fā)明者】鐘博文, 王振華, 金子祺, 陳林森, 錢哲, 李宗偉, 孫立寧 申請人:蘇州大學(xué)
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