提高蔭罩式等離子體顯示屏邦定區(qū)域清潔程度的方法
【專利摘要】一種提高蔭罩式等離子體顯示屏邦定區(qū)域清潔程度的方法,通過(guò)加入的有效清潔手段,并對(duì)各清潔手段進(jìn)行了合理的排序,實(shí)現(xiàn)了對(duì)屏邦定區(qū)域的有效清潔,使邦定區(qū)域內(nèi)存在的各種類型污染得到有效清除。提高了蔭罩式等離子顯示屏SMPDP的成品率和邦定效率,使蔭罩式等離子顯示屏的封接成品率達(dá)到99%以上,使得蔭罩式等離子顯示屏進(jìn)入大規(guī)模生產(chǎn)成為可能。本發(fā)明提高了邦定工藝的可靠性和穩(wěn)定性,大大降低了出現(xiàn)短路、斷路后因反復(fù)修補(bǔ)給屏帶來(lái)的安全隱患,具有提高邦定工藝安全性,提高了蔭罩式等離子顯示屏的成品率和工作效率的優(yōu)點(diǎn)。
【專利說(shuō)明】提高蔭罩式等離子體顯示屏邦定區(qū)域清潔程度的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種蔭罩式等離子體顯示屏提高綁定質(zhì)量的方法,尤其是蔭罩式等離子顯示屏制造過(guò)程中邦定區(qū)域的清潔方法,具體地說(shuō)是一種提高蔭罩式等離子體顯示屏邦定區(qū)域清潔程度的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]20世紀(jì)90年代初興起的等離子體平板顯示屏以其數(shù)字化,大屏幕,高分辨率,高清晰度,寬視角以及厚度薄,重量輕等優(yōu)點(diǎn)受到廣泛關(guān)注。
[0003]目前現(xiàn)有的等離子體平板顯示屏PDP采用三電極交流等離子體平板顯示屏AC-PDP,三個(gè)電極呈正交狀分布于前后基板上,放電則在兩個(gè)基板之間進(jìn)行,前基板上水平分布著維持電極即X電極和掃描電極即Y電極,兩者一起被稱為顯示電極,在后基板上豎直分布著尋址電極即A電極,X電極和Y電極相互平行并與A電極正交。在AC-PDP顯示中,在維持期,X電極和Y電極交替加上高壓,使在尋址期積累了壁電荷的單元放電,從而實(shí)現(xiàn)圖像的顯示。
[0004]蔭罩式等離子顯示屏SMPDP中采用的是二個(gè)電極,分別是前基板上的維持電極,即X電極,后基板上的尋址電極,即A電極的交流對(duì)向放電模式。X電極和A電極正交,在SMPDP顯示中,在維持期,只在X電極上加正負(fù)交替的高壓,使尋址期積累了壁電荷的單元放電,從而實(shí)現(xiàn)圖像顯示。
[0005]蔭罩式等離子顯示屏在生產(chǎn)過(guò)程中,綁定(Bonding)前要對(duì)邦定區(qū)域表面進(jìn)行清潔,現(xiàn)有的清潔方法為:應(yīng)用酒精簡(jiǎn)單擦拭后即投入邦定,在生產(chǎn)人員流動(dòng)、環(huán)境溫濕度以及其他不確定因素的影響下,屏邦定區(qū)域的潔凈度無(wú)法得到保證,使得水氣、雜質(zhì)、毛屑可能遺留在邦定區(qū)域或電極之間,造成壓著區(qū)域內(nèi)有氣泡、短路或短路,以致虛修補(bǔ)。而反復(fù)修補(bǔ)不僅對(duì)屏的安全存在很大威脅,又大大降低了綁定效率,也使邦定后整機(jī)的產(chǎn)品質(zhì)量無(wú)法得到保證。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0006]本發(fā)明的目的是針對(duì)當(dāng)前邦定引線區(qū)潔凈程度因基板電極與FPC電極邦定后,中間可能殘留的部分水氣、雜質(zhì)等污染物,將導(dǎo)致引線接觸不良或邦定后短路的現(xiàn)象,大大降低綁定效率和邦定成品率的問(wèn)題,發(fā)明一種提高蔭罩式等離子體顯示屏邦定區(qū)域清潔程度的方法,應(yīng)用新的儀器對(duì)邦定電極引線區(qū)進(jìn)行清潔,可有效提高引線潔凈程度,解決上述問(wèn)題,提高生產(chǎn)效率和生產(chǎn)成品率及產(chǎn)品的使用壽命。
[0007]本發(fā)明的技術(shù)方案是:
一種提高蔭罩式等離子體顯示屏邦定區(qū)域清潔程度的有效方法,其特征是:
(1).應(yīng)用三種不同的清潔手段,組合成一套清潔體系,有效去除邦定區(qū)域表面殘留的粉塵,毛屑,油污,指印等污染;
(2).所述的三種清潔手段分別為: (a).應(yīng)用工業(yè)酒精和無(wú)塵布粗洗。
[0008]作用:利用部分有機(jī)物溶于酒精的特性,初步溶解去除引線電極表面的油污,粉塵,指印等。
[0009]優(yōu)點(diǎn):
1.部分有機(jī)物容于酒精,便于清除部分有機(jī)污染物;
2.擦洗也可以使一些灰塵類污染被清洗掉;
3.酒精易揮發(fā),擦后易干,清潔所用時(shí)間較短;
4.揮發(fā)后的酒精不會(huì)對(duì)超靜環(huán)境造成污染。
[0010](b).應(yīng)用離子風(fēng)槍去除靜電,并吹去浮塵。
[0011]作用:風(fēng)槍吹出的離子風(fēng)可去除屏邦定區(qū)域所帶靜電,防止靜電吸附作用對(duì)細(xì)小灰塵的吸附所造成的二次污染,如吸附毛屑,小粉塵等;加快(a)方法中酒精揮發(fā)速度,并進(jìn)一步去除酒精揮發(fā)后可能留下的表面浮塵。
[0012]優(yōu)點(diǎn):
1.操作簡(jiǎn)單快捷;
2.毛屑、粉塵等表面浮塵的清潔效果好;
3.只需提供壓縮空氣和電等基礎(chǔ)條件,對(duì)環(huán)境條件的要求低。
[0013](c).應(yīng)用高功率紫外線光源(UV)對(duì)區(qū)域表面做清潔處理。
[0014]作用:UV照射引起氧化反應(yīng),表面污染物有機(jī)分子結(jié)合被強(qiáng)光能切斷、氧化,分解成CO2和H2O等易揮發(fā)性物質(zhì),最終揮發(fā)掉;照射后表面形成有利表面接著的如0H,C00, CO,COOH等原子團(tuán),表面接著性得到飛躍性地提高。
[0015]優(yōu)點(diǎn):
1.清洗后潔凈程度極高,接著性好(表面單分子層以下);
2.清洗時(shí)間短(秒單位照射);
3.無(wú)液體表面張力的影響,對(duì)細(xì)微部分清洗效果顯著(如引線電極邊緣和底部);
4.不會(huì)對(duì)材料的表面產(chǎn)生損傷;
5.無(wú)需加熱和藥液等處理,避免大量藥液消耗,運(yùn)行成本低;
6.有殺死細(xì)菌和微生物的功效;
7.簡(jiǎn)單、環(huán)保,無(wú)二次污染。
[0016]本發(fā)明所述的三種清潔手段之間的順序不可顛倒、調(diào)換。
[0017]本發(fā)明將三種清潔手段相組合,相互彌補(bǔ),使可被清洗污染物的范圍得以擴(kuò)大,清洗后的潔凈程度顯著提高。
[0018]本發(fā)明的有益效果是:
本發(fā)明在蔭罩式等離子顯示屏的制造過(guò)程中,提高了邦定引線區(qū)的潔凈度,使綁定工藝的穩(wěn)定性得以提升,保證了邦定質(zhì)量,提高了蔭罩式等離子顯示屏SMPDP的生產(chǎn)成品率和工作效率,使蔭罩式等離子顯示屏進(jìn)入大規(guī)模生產(chǎn)成為可能。
[0019]本發(fā)明通過(guò)將三種清潔手段相組合,相互彌補(bǔ),使可被清洗污染物的范圍得以擴(kuò)大,清洗后的潔凈程度顯著提高,實(shí)現(xiàn)邦定工藝的穩(wěn)定高質(zhì)進(jìn)行。提高了蔭罩式等離子顯示屏SMPDP的生產(chǎn)成品率和工作效率,也使產(chǎn)品生產(chǎn)后的質(zhì)量得到了保證,延長(zhǎng)機(jī)器使用壽命。使蔭罩式等離子顯示屏的邦定成品率率達(dá)到99%以上,使得蔭罩式等離子顯示屏進(jìn)入大規(guī)模生產(chǎn)成為可能。
[0020]
【專利附圖】
【附圖說(shuō)明】
[0021]圖1是應(yīng)用酒精、無(wú)塵布對(duì)邦定區(qū)域進(jìn)行清潔示意圖。
[0022]圖2是應(yīng)用離子風(fēng)槍對(duì)邦定區(qū)域進(jìn)行清潔示意圖。
[0023]圖3是應(yīng)用紫外線照射對(duì)邦定區(qū)域進(jìn)行清潔示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0024]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說(shuō)明。
[0025]如圖所示,一種提高蔭罩式等離子體顯示屏邦定區(qū)域清潔程度的有效方法,它包括以下步驟:
(I).蔭罩式等離子體顯示屏邦定時(shí),應(yīng)用無(wú)塵布蘸取工業(yè)酒精對(duì)屏引線區(qū)進(jìn)行粗洗,清除表面附著的有機(jī)污染物、灰塵等(如圖1),利用酒精易揮發(fā)、無(wú)污染的優(yōu)點(diǎn),可以提高清潔效率并保證超凈環(huán)境的污染。
[0026](2).應(yīng)用離子風(fēng)槍吹出的離子風(fēng),可以吹去附著在邦定區(qū)域表面的毛屑、灰塵,并去除屏邦定區(qū)域所帶的靜電,防止該區(qū)域所帶電荷產(chǎn)生靜電吸附,將細(xì)毛屑、灰塵再次吸附過(guò)來(lái)造成二次污染(如圖2);此步驟還可以加快(I)步驟中酒精揮發(fā)的速度,并進(jìn)一步去除酒精揮發(fā)后可能留下的表面浮塵。操作簡(jiǎn)單快捷,對(duì)環(huán)境條件要求低。
[0027](3)應(yīng)用高功率紫外線光源(UV)對(duì)邦定區(qū)域表面做清潔處理(如圖3)??梢允贡砻嫖廴疚锏姆肿咏Y(jié)合被切斷,從而分解污染物。清洗后潔凈程度極高,接著性好;不會(huì)對(duì)材料的表面產(chǎn)生損傷;清潔處理所用時(shí)間短。
[0028]本發(fā)明所述的三種清潔手段之間的順序不可顛倒、調(diào)換。
[0029]具體實(shí)施時(shí):
如圖所示,一種提高蔭罩式等離子體顯示屏邦定區(qū)域清潔程度的有效方法,它包括以下步驟:
(I).蔭罩式等離子體顯示屏邦定時(shí),應(yīng)用無(wú)塵布蘸取工業(yè)酒精對(duì)屏引線區(qū)進(jìn)行粗洗,清除表面附著的有機(jī)污染物、灰塵等(如圖1),利用酒精易揮發(fā)、無(wú)污染的優(yōu)點(diǎn),可以提高清潔效率并保證超凈環(huán)境的污染。
[0030](2).應(yīng)用離子風(fēng)槍吹出的離子風(fēng),可以吹去附著在邦定區(qū)域表面的毛屑、灰塵,并去除屏邦定區(qū)域所帶的靜電,防止該區(qū)域所帶電荷產(chǎn)生靜電吸附,將細(xì)毛屑、灰塵再次吸附過(guò)來(lái)造成二次污染(如圖2);此步驟還可以加快(I)步驟中酒精揮發(fā)的速度,并進(jìn)一步去除酒精揮發(fā)后可能留下的表面浮塵。操作簡(jiǎn)單快捷,對(duì)環(huán)境條件要求低。
[0031](3).應(yīng)用高功率紫外線光源(UV)對(duì)邦定區(qū)域表面做清潔處理(如圖3)??梢允贡砻嫖廴疚锏姆肿咏Y(jié)合被切斷,從而分解污染物。清洗后潔凈程度極高,接著性好;不會(huì)對(duì)材料的表面產(chǎn)生損傷;清潔處理所用時(shí)間短。
[0032]本發(fā)明所述的三種清潔手段之間的順序不可顛倒、調(diào)換。
[0033]本發(fā)明未涉及部分均與現(xiàn)有技術(shù)相同或可采用現(xiàn)有技術(shù)加以實(shí)現(xiàn)。
【權(quán)利要求】
1.一種提高蔭罩式等離子體顯示屏邦定區(qū)域清潔程度的方法,它包括以下步驟: (a).蔭罩式等離子體顯示屏邦定時(shí),應(yīng)用無(wú)塵布蘸取工業(yè)酒精對(duì)屏引線區(qū)進(jìn)行粗洗,清除表面附著的有機(jī)污染物、灰塵,利用酒精易揮發(fā)、無(wú)污染的優(yōu)點(diǎn),可以提高清潔效率并保證超凈環(huán)境的污染; (b).用離子風(fēng)槍吹出的離子風(fēng),吹去附著在邦定區(qū)域表面的毛屑、灰塵,并去除屏邦定區(qū)域所帶的靜電,防止該區(qū)域所帶電荷產(chǎn)生靜電吸附,將細(xì)毛屑、灰塵再次吸附過(guò)來(lái)造成二次污染; (c).應(yīng)用高功率紫外線光源(UV)對(duì)邦定區(qū)域表面做清潔處理;以使表面污染物的分子結(jié)合被切斷,從而分解污染物,清洗后潔凈程度極高,接著性好;不會(huì)對(duì)材料的表面產(chǎn)生損傷;清潔處理所用時(shí)間短。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征是所述的三種清潔手段之間的順序不可顛倒、調(diào)換。
【文檔編號(hào)】H05F3/06GK103785651SQ201210433729
【公開(kāi)日】2014年5月14日 申請(qǐng)日期:2012年11月1日 優(yōu)先權(quán)日:2012年11月1日
【發(fā)明者】劉巍 申請(qǐng)人:南京華顯高科有限公司