輻射源的制作方法
【專利摘要】一種輻射源包括：噴嘴，配置成沿著軌跡朝向等離子體形成位置引導(dǎo)燃料液滴（30）的流；激光器，配置成輸出激光輻射，所述激光輻射在等離子體形成位置處被引導(dǎo)到燃料液滴上以在使用中生成用于產(chǎn)生輻射的等離子體；和捕捉裝置，配置成捕捉穿過等離子體形成位置的燃料液滴，所述捕捉裝置包括：容器（40），被配置成容納流體（42）；驅(qū)動器（44），被配置成驅(qū)動所述流體以使得流體移動；所述捕捉裝置被配置成使得燃料液滴入射到移動的流體上。
【專利說明】輻射源
[0001]相關(guān)申請的交叉引用
[0002]本申請要求于2011年8月12日申請的美國臨時申請61/522，928的權(quán)益，并且通過引用將其全部內(nèi)容并入到本文中。
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0003]本發(fā)明涉及輻射源，該輻射源適合于與光刻設(shè)備一起使用或形成光刻設(shè)備的一部分。
【背景技術(shù)】
[0004]光刻設(shè)備是一種將所需圖案應(yīng)用到襯底上，通常是襯底的目標(biāo)部分上的機器。例如，可以將光刻設(shè)備用在集成電路(IC)的制造中。在這種情況下，可以將可選地稱為掩模或掩模版的圖案形成裝置用于生成在所述IC的單層上待形成的電路圖案。可以將該圖案轉(zhuǎn)移到襯底(例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括一部分管芯、一個或多個管芯)上。通常，圖案的轉(zhuǎn)移是通過把圖案成像到提供到襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上進行的。通常，單獨的襯底將包含被連續(xù)形成圖案的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。
[0005]已廣泛地承認(rèn)光刻術(shù)是IC和其它的器件和/或結(jié)構(gòu)制造中的關(guān)鍵步驟之一。然而，隨著使用光刻術(shù)制造的特征的尺寸不斷變小，光刻術(shù)成為了使微型的IC或其它器件和/或結(jié)構(gòu)能夠被制造的更加關(guān)鍵的因素。
[0006]通過如等式(1)中所示出的分辨率的瑞利準(zhǔn)則來給出圖案印刷的極限的理論估計:
[0007]
【權(quán)利要求】
1.一種福射源，包括: 噴嘴，配置成沿著軌跡朝向等離子體形成位置引導(dǎo)燃料液滴的流； 激光器，配置成輸出激光輻射，所述激光輻射在等離子體形成位置處被引導(dǎo)到燃料液滴上以在使用中生成用于產(chǎn)生輻射的等離子體；和 捕捉裝置，布置成捕捉穿過等離子體形成位置的燃料液滴，所述捕捉裝置包括: 容器，被構(gòu)造成容納流體； 驅(qū)動器，被構(gòu)造且布置成驅(qū)動所述流體以使得流體移動； 所述捕捉裝置被配置成使得在使用中燃料液滴入射到移動的流體上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射源，其中所述捕捉裝置還包括一表面，所述驅(qū)動器被布置成沿著所述表面、在所述表面上或經(jīng)過所述表面驅(qū)動流體，所述捕捉裝置被布置成使得在使用中燃料液滴入射到沿著所述表面、在所述表面上或經(jīng)過所述表面被驅(qū)動的流體上。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的輻射源，其中所述被沿著所述表面、在所述表面上或經(jīng)過所述表面被驅(qū)動的流體被相對于液滴的軌跡傾斜。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的輻射源，其中所述表面被相對于液滴的軌跡傾斜，所述驅(qū)動器被配置成至少幫助向下且沿著所述表面驅(qū)動流體，以在所述表面上形成流體的膜，所述捕捉裝置被布置成使得在使用中燃料液滴入射到所述流體的膜上。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的輻射源，其中所述驅(qū)動器被配置成在所述表面上驅(qū)動流體以形成流體的波，所述捕捉裝置被布置成使得在使用中所述燃料液滴入射到所述流體的波上。
6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的輻射源，其中所述驅(qū)動器包括泵。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的輻射源，其中所述容器為具有布置成容納液滴的開口的大致管狀形狀。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的輻射源，其中所述驅(qū)動器是被構(gòu)造以旋轉(zhuǎn)管狀容器的旋轉(zhuǎn)機構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的輻射源，其中所述旋轉(zhuǎn)機構(gòu)被構(gòu)造以足夠快速地旋轉(zhuǎn)所述管，以確保流體駐留在所述管狀容器的內(nèi)表面上和/或在內(nèi)表面上經(jīng)過，所述捕捉裝置被布置成使得在使用中所述燃料液滴入射到所述流體上，所述流體駐留在所述管狀容器的內(nèi)表面上和/或經(jīng)過所述內(nèi)表面。
10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的輻射源，其中所述噴嘴被配置成沿著軌跡引導(dǎo)燃料液滴的流，所述軌跡是大致水平的或大致豎直的，或所述噴嘴被配置成沿著具有水平分量的軌跡引導(dǎo)燃料液滴的流或沿著具有豎直的分量的軌跡引導(dǎo)燃料液滴的流。
11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的輻射源，其中所述流體的材料與形成燃料液滴的材料相同或包括與形成燃料液滴的材料相同的材料，或其中所述流體是燃料的載體。
12.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的輻射源，其中所述捕捉裝置包括加熱器或能夠熱連接至加熱器，所述加熱器配置成加熱所述流體和/或被捕捉的液滴以將流體和/或被捕獲的液滴保持成流體形式。
13.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的輻射系統(tǒng)，其中所述捕捉裝置與噴嘴流體連接，使得被捕捉的液滴能夠被引導(dǎo)至噴嘴和通過噴嘴被引導(dǎo)返回。
14.一種光刻設(shè)備,包括:照射系統(tǒng)，構(gòu)造成提供福射束； 圖案形成裝置，構(gòu)造成在輻射束的橫截面中將圖案賦予輻射束； 襯底保持器，構(gòu)造且布置成保持襯底； 投影系統(tǒng)，構(gòu)造且布置成將圖案化的輻射束投影到襯底的目標(biāo)部分上；和其中所述光刻設(shè)備還包括根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的輻射源或與根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項所述的輻射源相連接。
15.一種捕捉在輻射源中所使用的燃料液滴的方法，所述輻射源包括: 噴嘴，配置成沿著軌跡朝向等離子體形成位置引導(dǎo)燃料液滴的流； 激光器，配置成輸出激光輻射，所述激光輻射在等離子體形成位置處被引導(dǎo)到燃料液滴上以在使用中生成用于產(chǎn)生輻射的等離子體；以及所述方法包括: 驅(qū)動流體以導(dǎo)致在所述流體中的移動；和 朝向移動的流體引導(dǎo)所述燃`料液滴。
【文檔編號】H05G2/00GK103733735SQ201180072807
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2011年12月13日 優(yōu)先權(quán)日:2011年8月12日
【發(fā)明者】A·凱姆鵬, E·魯普斯特拉, C·瓦格納, H·泰根博世, G·斯溫克爾斯 申請人:Asml荷蘭有限公司