專利名稱：電磁波屏蔽膜、電磁波屏蔽組件及顯示器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電磁波屏蔽膜、電磁波屏蔽組件及顯示器。本發(fā)明特別涉及對(duì)有等離子顯示屏(PDP)的等離子顯示器、陰極射線管(CRT)顯示器、液晶(LC)顯示器、電致發(fā)光(EL)顯示器等顯示器前面產(chǎn)生的電磁波進(jìn)行屏蔽用的電磁屏蔽膜、帶這種電磁屏蔽膜的電磁波屏蔽組件以及裝有這種電磁波屏蔽組件的顯示器。
背景技術(shù)：
近年來，社會(huì)的高度信息化令人吃驚。要達(dá)到這一點(diǎn)不可缺少的要件之一可以舉出顯示器。不用說電視機(jī)(TV)，就連文字處理器、個(gè)人電腦、分析儀器、游戲機(jī)、汽車車載監(jiān)視器等設(shè)備也大多采用顯示器。而且，顯示器屏幕最近的大型化也確實(shí)令人吃驚。
一方面，電氣設(shè)備和電子儀器輻射出來的電磁波正在成為社會(huì)問題。據(jù)報(bào)道在儀器四周檢測出電磁波噪聲，或者電磁波招致誤動(dòng)作產(chǎn)生。由于電氣設(shè)備和電子儀器本身的增加，及這些儀器的控制大多采用電腦，因而容易引起不可預(yù)測的障礙，不能否定導(dǎo)致重大事故的可能性。此外也有人指出對(duì)人體健康損害的危險(xiǎn)性。歐美等國家已經(jīng)制定了法規(guī)，而日本國內(nèi)由制造團(tuán)體本身規(guī)定。
電磁波的一般屏蔽方法，已知有利用金屬或良導(dǎo)體制成機(jī)器殼體的方法、在電路板和電路板之間插入金屬板的方法、以及在電纜上纏繞金屬箔的方法等。
然而，對(duì)顯示器表面輻射出的電磁波，用上述任何屏蔽方法都有損于顯示器本來最重要的“可視”功能。也就是說，顯示器的電磁波屏蔽方法，必須兼?zhèn)潆姶挪ㄆ帘涡?，和獲得可視性所需的透明性這雙重性質(zhì)。
在特開平10-41682號(hào)公報(bào)中公開了一種兼具這兩種性質(zhì)的電磁波屏蔽方法。該公報(bào)公開的發(fā)明是，根據(jù)情況用粘結(jié)劑將透明塑料薄膜和銅箔等導(dǎo)體層疊后，再用化學(xué)腐蝕法在上導(dǎo)體形成幾何圖形，制成電磁波屏蔽器。這種電磁波屏蔽器，通過對(duì)顯示器本體(設(shè)備)輻射出來的電磁波被導(dǎo)體反射進(jìn)而被其吸收而具有屏蔽電磁波的能力。
顯示器輻射出的電磁波大半被導(dǎo)體反射。未反射的電磁波被電磁波屏蔽器周邊形成的接地部分(接地)以電能吸收除去。接地部分一般由四邊寬度均設(shè)定在5～15毫米范圍內(nèi)的連續(xù)帶狀材料形成。這種接地部分設(shè)置在電磁波屏蔽器的導(dǎo)體與顯示器殼體之間，用于導(dǎo)通電流。
將電磁波屏蔽器層疊在玻璃板、塑料板等上使透明基材(例如透明塑料膜)側(cè)接觸，用這種層疊的電磁波屏蔽器和玻璃板等制成前面板。前面板與容納顯示器本體的顯示器殼體制成一體。而且電磁波屏蔽器既可以直接與顯示器殼體制成一體，也可以層疊在顯示器本體上。將電磁波屏蔽器的接地部分，與顯示器殼體的接地部分或顯示器的接地部分連接。
然而，上述電磁波屏蔽器有以下問題沒有考慮。
如上所述，電磁波屏蔽器在透明基材上層疊導(dǎo)體和接地部分。透明基材是塑料、玻璃等材料，但是由于導(dǎo)體和接地部分是金屬薄膜等導(dǎo)電材料，所以二者熱變形程度或熱膨脹系數(shù)不同。因此在透明基材與導(dǎo)電材料重合面積大的接地部分，將會(huì)產(chǎn)生“(表面)波紋度”。
將導(dǎo)體和接地部分與透明基材貼合在透明基材上制成前面板的場合下，一旦產(chǎn)生這種“波紋度”，因?qū)w和接地部分不能確保均一平坦性而難于互相貼合，或者因結(jié)合界面混入氣泡而造成部分分離，因而容易產(chǎn)生接合不良問題。而且為了杜絕這種接合不良現(xiàn)象，例如必須使用強(qiáng)力粘結(jié)劑，這會(huì)使生產(chǎn)受到限制，使商業(yè)批量生產(chǎn)性能劣化。此外，即使將電磁波屏蔽器直接與顯示器殼體制成一體并將其層疊在顯示器本體上的場合下，由于導(dǎo)體和接地部分不能確保均一平坦性而難于實(shí)現(xiàn)一體化或接合，接合界面混入氣泡導(dǎo)致部分不能分離，產(chǎn)生接合不良的問題。為了杜絕這種接合不良現(xiàn)象出現(xiàn)，采用上述那些使間隙不產(chǎn)生的任何接合手段，均會(huì)產(chǎn)生商業(yè)上批量生產(chǎn)性能劣化問題。
因接地部分與顯示器殼體或顯示器本體之間接合不良而在其間產(chǎn)生電接點(diǎn)的接觸不良，這不僅會(huì)降低電磁波屏蔽特性，而且還會(huì)使顯示器本體產(chǎn)生損傷。
發(fā)明的公開本發(fā)明正是為解決上述課題而提出的。因此，本發(fā)明目的在于提供一種能防止接地部分波紋度，并能提高接地部分平坦性的電磁波屏蔽膜。
本發(fā)明的另一目的在于提供一種商業(yè)上批量生產(chǎn)性優(yōu)良、具有上述電磁波屏蔽膜的電磁波屏蔽組件。
本發(fā)明的又一目的在于提供一種商業(yè)上批量生產(chǎn)性優(yōu)良、具有上述電磁波屏蔽組件顯示器。
為了解決上述課題，本發(fā)明的第一特征是制成一種具有透明基材，在透明基材上具有網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體，以及設(shè)置在導(dǎo)體周邊區(qū)域、具有導(dǎo)體區(qū)和導(dǎo)體不存在區(qū)的接地部分的電磁波屏蔽膜。這里所說的接地部分中的“導(dǎo)體區(qū)”，是指與顯示器殼體電連接的區(qū)域，至少能以電能形式吸收電磁波并除去這種電磁波的區(qū)域。這里所說的“導(dǎo)體不存在區(qū)”是在以下意義上使用的，即將接地部分內(nèi)透明基材與導(dǎo)體區(qū)之間熱膨脹系數(shù)差別造成的導(dǎo)體區(qū)伸縮，調(diào)節(jié)到不產(chǎn)生波紋度的導(dǎo)體不存在的區(qū)域。而且導(dǎo)體不存在區(qū)，由于接地部分中部分導(dǎo)體除去的結(jié)果，所以既可以是導(dǎo)體不存在的部分，也可以表現(xiàn)為這種情況的“部分導(dǎo)體區(qū)”。
具有這種構(gòu)成的本發(fā)明第一特征涉及的電磁波屏蔽膜，由于接地部分具備導(dǎo)體不存在區(qū)，所以導(dǎo)體區(qū)能進(jìn)行自由伸縮，可以防止接地部分波紋度。
本發(fā)明的第二特征是制成的電磁波屏蔽膜中，導(dǎo)體區(qū)占有率，相對(duì)于本發(fā)明第一特征涉及的電磁波屏蔽膜接地部分的全部面積，設(shè)定在30％～99％范圍內(nèi)。換句話說，相對(duì)于接地部分全部面積而言，導(dǎo)體不存在區(qū)設(shè)定在1％～70％范圍內(nèi)。
通過將接地部分中導(dǎo)體區(qū)比例設(shè)定在30％～99％范圍內(nèi)，可以提高電磁波的屏蔽特性，并能防止波紋度。此外，為了進(jìn)一步增大與顯示器殼體或顯示器本體接地部分的接觸面積以提高電磁波屏蔽特性，優(yōu)選將接地部分中導(dǎo)體區(qū)比例設(shè)定在60％～99％范圍內(nèi)。而且為提高電磁波屏蔽特性和增強(qiáng)防止波紋度特性，最好將其設(shè)定在65％～97％范圍內(nèi)。
從能夠抑制電磁波屏蔽膜與玻璃板、塑料板等貼合時(shí)(制作電磁波屏蔽組件時(shí)，具體講在制作前面板時(shí))氣泡混入二者間界面和粘結(jié)不良的觀點(diǎn)來看，優(yōu)選將接地部分的波紋度周期抑制在70mm以上，將波紋度的最大高度抑制在10mm以下。而且從電磁波屏蔽膜或前面板與顯示器殼體或顯示器本身結(jié)合時(shí)能同樣抑制氣泡混入二者界面和粘結(jié)不良的觀點(diǎn)來看也是優(yōu)選的。結(jié)果，由于電磁波屏蔽膜接地部分，與前面板、顯示器殼體或顯示器本體的接地部分之間能夠進(jìn)行良好的接觸，所以能確保設(shè)計(jì)的那種電磁波屏蔽特性。
這樣構(gòu)成的本發(fā)明第二特征所涉及的電磁波屏蔽膜中，由于能夠適當(dāng)調(diào)整接地部分導(dǎo)體區(qū)的比例，所以能最大限度提高電磁波屏蔽特性，同時(shí)還能將接地部分的波紋度抑制到最小。
本發(fā)明的第三特征是制成這樣一種電磁波屏蔽膜，其中在本發(fā)明第一特征或第二特征涉及的電磁波屏蔽膜接地部分中的導(dǎo)體區(qū)，是由下述(1)至(10)中任何一種圖案形成或者由數(shù)種形狀組合形成的。
(1) 以預(yù)定間隔規(guī)則排列的方形幾何圖案(2) 梳形圖案(3) 曲折形圖案(4) 以預(yù)定間隔規(guī)則排列的平行四邊形圖案(5) 梯狀圖案(6) 網(wǎng)格狀幾何圖案(7) 三角形圖案(8) 五角形以上多角形圖案(9) 圓形或橢圓形圖案(10) 星形圖案其中將接地部分導(dǎo)體區(qū)制成網(wǎng)格狀幾何圖案的場合下，與導(dǎo)體的網(wǎng)格狀幾何圖案中的線寬相比，優(yōu)選增大導(dǎo)體區(qū)的線寬，確保進(jìn)一步加大導(dǎo)體區(qū)面積，以便提高電磁波屏蔽特性。也就是說，在導(dǎo)體中為了最大限度地確保本來的“可視”功能，提高電磁波屏蔽特性，必須充分保證導(dǎo)體的開口率。例如，將導(dǎo)體的開口率設(shè)定在50％～98％范圍內(nèi)是實(shí)用的。
這樣構(gòu)成的本發(fā)明的第三特征涉及的電磁波屏蔽膜中，僅僅利用改變接地部分導(dǎo)體區(qū)的平面形狀(平面圖案)、導(dǎo)體不存在區(qū)平面形狀或二者平面形狀，就能在簡單提高電磁波屏蔽特性，同時(shí)還能抑制波紋度。
本發(fā)明的第四特征是制成這樣一種電磁波屏蔽膜，其中本發(fā)明第一至第三特征中任何特征所涉及的電磁波屏蔽膜的網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體和接地部分的導(dǎo)體區(qū)，是用粘結(jié)劑被設(shè)置在透明基材上的。
這樣構(gòu)成的本發(fā)明第四特征涉及的電磁波屏蔽膜，制作時(shí)能夠采用金屬箔等金屬薄膜的粘接法，可以使制作簡單化。
本發(fā)明的第五特征是制成一種電磁波屏蔽組件，其中具有本發(fā)明第一至第四特征中任何特征涉及的電磁波屏蔽膜，和電磁波屏蔽膜的至少導(dǎo)體上的保護(hù)膜。這里所說的“電磁波屏蔽組件”是在這樣意義上使用的，即該組件至少具有本發(fā)明第一至第四特征中任何特征涉及的電磁波屏蔽膜和保護(hù)膜，能簡單安裝在顯示器殼體或顯示器本體上，構(gòu)成顯示器的一個(gè)構(gòu)成部件。
這樣構(gòu)成的本發(fā)明的第五特征涉及的電磁波屏蔽組件中，能夠獲得與本發(fā)明的第一至第四特征涉及的電磁波屏蔽膜的相同效果。
本發(fā)明的第六特征是制成一種電磁波屏蔽組件，其中具有反射防止膜、反射防止膜上的近紅外線吸收膜、近紅外線吸收膜上的第一透明基材、第一透明基材上本發(fā)明第一至第四特征涉及的電磁波屏蔽膜、以及電磁波屏蔽膜的至少導(dǎo)體上的保護(hù)膜。這里的“電磁波屏蔽組件”的定義，與本發(fā)明第五特征中涉及的“電磁波屏蔽組件”相同。
這樣構(gòu)成的本發(fā)明的第六特征涉及的電磁波屏蔽組件，能夠獲得與本發(fā)明第一至第四特征涉及的電磁波屏蔽組件相同的效果。
本發(fā)明的第七特征是制成備有顯示器模塊、及顯示器模塊上的至少有以下(1)和(2)的電磁波屏蔽組件的的顯示器。
(1)顯示器模塊上的本發(fā)明第一至第四特征涉及的電磁波屏蔽膜，(2)電磁波屏蔽膜的至少導(dǎo)體上的保護(hù)膜。這里所說的“顯示器模塊”是在顯示器殼體或顯示器本體這一意義上使用的。顯示器模塊實(shí)際上可以使用例如等離子顯示器、陰極射線管顯示器、液晶顯示器或電致發(fā)光顯示器等模塊，即顯示器殼體或顯示器本體。此外，“電磁波屏蔽組件”可以使用本發(fā)明第六特征涉及的電磁波屏蔽組件。
這樣構(gòu)成的本發(fā)明第七特征涉及的顯示器中，接地部分有導(dǎo)體不存在區(qū)，能使導(dǎo)體區(qū)進(jìn)行自由伸縮，而且具有能夠防止接地部分波紋度的電磁波屏蔽膜，所以不但能提高電磁波屏蔽特性，而且還能提高商業(yè)上批量生產(chǎn)的性能。


附圖1是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜的軸側(cè)視圖。
附圖2是附圖1所示電磁波屏蔽膜接地部分的放大平面圖。
附圖3A是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的第一種結(jié)構(gòu)電磁波屏蔽組件的斷面圖。
附圖3B是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的第二種結(jié)構(gòu)電磁波屏蔽組件的斷面圖。
附圖4是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的前面板的軸側(cè)視圖。
附圖5是表示本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜及安裝夾具的示意圖。
附圖6是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜組件前面板殼體的軸側(cè)視圖。
附圖7是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的安裝夾具的軸側(cè)視圖。
附圖8是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的顯示器的軸側(cè)視圖。
附圖9是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜的第二種結(jié)構(gòu)接地部分的放大平面圖。
附圖10是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜的第三種結(jié)構(gòu)接地部分的放大平面圖。
附圖11是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜的第四種結(jié)構(gòu)接地部分的放大平面圖。
附圖12是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜的第五種結(jié)構(gòu)接地部分的放大平面圖。
附圖13是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜的第六種結(jié)構(gòu)接地部分的放大平面圖。
附圖14是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜的第七種結(jié)構(gòu)接地部分的放大平面圖。
附圖15是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜的第八種結(jié)構(gòu)接地部分的放大平面圖。
附圖16是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜的第九種結(jié)構(gòu)接地部分的放大平面圖。
附圖17是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的第一實(shí)施例的電磁波屏蔽膜接地部分的放大平面圖。
附圖18是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的第二實(shí)施例的電磁波屏蔽膜接地部分的放大平面圖。
附圖19是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的第三實(shí)施例的電磁波屏蔽膜接地部分的放大平面圖。
附圖20是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的第一對(duì)照例的電磁波屏蔽膜接地部分的放大平面圖。
附圖21是本發(fā)明實(shí)施方式涉及的第二對(duì)照例的電磁波屏蔽膜接地部分的放大平面圖。
附圖22是記載本發(fā)明方式涉及的電磁波屏蔽膜特性測定結(jié)果的表格。
具體實(shí)施例方式
以下參照附圖，用實(shí)施方式說明本發(fā)明的電磁波屏蔽膜及其制造方法。在以下附圖記載中，相同或相似部分附以相同或相似的符號(hào)。但是附圖是示意圖，所以應(yīng)當(dāng)留意厚度與平面尺寸之間的關(guān)系、各層的厚度比等與實(shí)際物體之間的差別。因此，應(yīng)當(dāng)對(duì)于具體的厚度和尺寸應(yīng)當(dāng)參照以下說明來判斷。當(dāng)然也包括附圖間尺寸的相互關(guān)系和比例不同的部分。

如圖1所示，本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜1由透明基材膜2、透明基材膜2上具有網(wǎng)格狀幾何圖案的單體4、設(shè)置在導(dǎo)體4周邊區(qū)域并具有導(dǎo)體區(qū)501和導(dǎo)體不存在區(qū)510的接地部分5構(gòu)成。在本發(fā)明的實(shí)施方式中，透明基材2和導(dǎo)體4之間，以及透明基材2與接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501之間，用粘結(jié)劑3將粘結(jié)在一起。其中必要時(shí)可以使用粘結(jié)劑。
這里對(duì)所說的材料雖然并無特別限制，但是考慮到操作性和價(jià)格等因素，以及導(dǎo)體4化學(xué)腐蝕時(shí)的耐藥品性等，優(yōu)選使用塑料膜作為透明基材2。對(duì)于塑料膜只要透明即可沒有特別限制，例如可以實(shí)際使用聚乙烯、聚丙烯、聚酯、聚氯乙烯、聚苯乙烯等材料膜。而且可以對(duì)這些材料膜實(shí)施硅酮、聚乙烯醇、烷基氨基甲酸酯等脫模處理。
導(dǎo)體4優(yōu)選銅(Cu)、鋁(Al)、鎳(Ni)、鐵(Fe)、金(Au)、銀(Ag)、鎢(W)、鉻(Cr)、鈦(Ti)等金屬中一種金屬，或兩種以上金屬組合制成的合金。合金例如可以實(shí)際使用不銹鋼(Fe-Ni-Cr)。而且也可以使用導(dǎo)電性油墨等具有導(dǎo)電性的材料?？紤]到電導(dǎo)性、網(wǎng)格狀幾何圖案等加工的難易性和價(jià)格低廉性等，導(dǎo)體4最好使用銅、鋁或鎳或其合金。
導(dǎo)體的厚度優(yōu)選處于3～4微米范圍內(nèi)。導(dǎo)體4厚度過薄，表面電阻增大、不能充分吸收電磁波，電磁波屏蔽特性的提高效果降低。另一方面導(dǎo)體4厚度過大，難以形成細(xì)線寬度的網(wǎng)格狀幾何圖案，而且視角還有變窄的趨勢。
粘結(jié)劑3雖然同樣不限于這里說明的，但是實(shí)際使用的粘結(jié)劑應(yīng)當(dāng)能在預(yù)定溫度下流動(dòng)，而且還能在低于此流動(dòng)溫度下固化。也就是說，粘結(jié)劑3優(yōu)選將其置于透明基材2和導(dǎo)體4之間，借助于加熱和加壓使之流動(dòng)，然后使之固化時(shí)，能夠容易將透明基材2和導(dǎo)體4粘接在一起的?？紤]到操作性，這種粘結(jié)劑3的軟化溫度優(yōu)選處于150℃以下。從電磁波屏蔽器1的用途來看，由于使用環(huán)境溫度通常處于80℃以下，所以從加工性來看最好將粘結(jié)劑3的軟化溫度設(shè)定在80～120℃范圍內(nèi)。
粘結(jié)劑3可以使用含有熱塑性樹脂、活性能量射線固化性樹脂或熱固性樹脂、或其中兩種以上樹脂的粘結(jié)劑。含有活性能量射線固化性樹脂的粘結(jié)劑(活性能量射線固化性粘結(jié)劑)或含有熱固性樹脂的粘結(jié)劑(熱固性粘結(jié)劑)，優(yōu)選那些在其固化前具有與含熱塑性樹脂的粘結(jié)劑同樣特性的。
粘結(jié)劑3用代表性的熱塑性樹脂，可以使用天然橡膠、聚異戊二烯、聚-1，2-丁二烯、聚異丁烯、聚丁烯、聚-2-庚基-1，3-丁二烯、聚-2-叔丁基-1，3-丁二烯、聚-1，3-丁二烯等(二)烯類，聚氧乙烯、聚氧丙烯、聚乙烯基乙基醚、聚乙烯基己基醚、聚乙烯基丁基醚等聚醚類，聚醋酸乙烯酯、聚丙酸乙烯酯等聚酯類，聚氨酯、乙基纖維素、聚氯乙烯、聚丙烯腈、聚甲基丙烯腈、聚砜、多硫化合物、苯氧基樹脂、聚丙烯酸乙酯、聚丙烯酸丁酯、聚丙烯酸-2-乙基己酯、聚丙烯酸叔丁酯、聚丙烯酸-3-乙氧基丙酯、聚氧羰基四甲基丙烯酸酯、聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸異丙酯、聚甲基丙烯酸十二烷基酯、聚甲基丙烯酸十四烷基酯、聚甲基丙烯酸正丙酯、聚-3，3，5-三甲基環(huán)己基甲基丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸乙酯、聚-2-硝基-2-甲基丙基甲基丙烯酸酯、聚-1，1-二乙基丙基甲基丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等聚(甲基)丙烯酸酯。這些丙烯基聚合物必要時(shí)也可以使用兩種以上的共聚物，或兩種以上的混合物。
這些熱塑性樹脂的重均分子量優(yōu)選使用500以上的。分子量小于500時(shí)，因粘結(jié)劑組合物的粘結(jié)力過低而存在在被粘接物上附著性低的問題。
必要時(shí)可以在熱塑性樹脂粘結(jié)劑中混入稀釋劑、增塑劑、抗氧化劑、填充劑、著色劑、紫外線吸收劑、粘接性賦予劑等添加劑。
活性能量射線可以使用紫外線、電子射線等。而且活性能量射線固化性樹脂，可以實(shí)際使用以丙烯基樹脂、環(huán)氧樹脂、聚酯樹脂、尿烷樹脂等基體聚合物，各自賦予游離基聚合性或陽離子聚合性官能團(tuán)后制成的材料。作為游離基聚合性官能團(tuán)的代表，有丙烯酸基(丙烯酰氧基)、甲基丙烯酸基(甲基丙烯酰氧基)、乙烯基、烯丙基等具有碳-碳雙鍵的，而反應(yīng)活性好的丙烯酸基(丙烯酰氧基)是適用的。作為陽離子聚合性官能團(tuán)，以環(huán)氧基(縮水甘油醚基、縮水甘油氨基)為代表，而以具有高反應(yīng)活性的脂環(huán)族環(huán)氧基最為適用。具體適用的材料有丙烯酸尿烷、環(huán)氧(甲基)丙烯酸酯、環(huán)氧改性的聚丁二烯、環(huán)氧改性的聚酯、聚丁二烯(甲基)丙烯酸酯、丙烯酸改性的聚酯等。
活性能量射線采用紫外線的場合下，作為可以在紫外線固化時(shí)添加的光譜增感劑或光引發(fā)劑，可以使用二苯甲酮類、蒽醌類、二苯乙醇酮類、锍鹽、重氮鹽、翁鹽、鹵翁鹽等公知物質(zhì)。而且除上述物質(zhì)外還可以混合廣泛使用的熱塑性樹脂。
粘結(jié)劑可以使用上述的熱固性粘結(jié)劑。具體講可以將天然橡膠、異戊二烯橡膠、氯代異戊二烯橡膠、聚異丁二烯橡膠、丁基橡膠、鹵化丁基橡膠、丙烯腈-丁二烯橡膠、苯乙烯-丁二烯橡膠、聚異丁烯橡膠、羧基橡膠、氯丁橡膠、聚丁二烯等樹脂，與作為交聯(lián)劑用的硫磺、苯胺-甲醛樹脂、尿素-甲醛樹脂、苯酚-甲醛樹脂、木素(原文為リグリン)樹脂、二甲苯-甲醛樹脂、蜜胺甲醛樹脂、環(huán)氧樹脂、尿素樹脂、苯胺樹脂、蜜胺樹脂、酚樹脂、甲醛樹脂、金屬氧化物、金屬氯化物、肟、烷基酚樹脂組合使用。熱固性粘結(jié)劑中可以使用增加反應(yīng)速度用、廣泛采用的硫化促進(jìn)劑等添加劑。
作為熱固性粘結(jié)劑，作為利用固化反應(yīng)的，有時(shí)還將具有羧基、羥基、環(huán)氧基、氨基、不飽和烴基等官能團(tuán)的樹脂，與具有環(huán)氧基、羥基、氨基、酰胺基、羧基、巰基等官能團(tuán)的固化劑或金屬氯化物、異氰酸鹽、酸酐、金屬氧化物、過氧化物等固化劑組合使用。其中在熱固性粘結(jié)劑中，為了提高固化反應(yīng)速度也可以使用廣泛采用的觸媒等添加劑。具體講，實(shí)際上可以使用固化性丙烯酸酯樹脂組合物、不飽和聚酯樹脂組合物、鄰苯二甲酸二烯丙酯樹脂、環(huán)氧樹脂組合物、聚氨酯樹脂組合物等。
此外，丙烯酸樹脂與丙烯酸樹脂之外樹脂的共聚樹脂，實(shí)際上可以使用環(huán)氧丙烯酸酯、尿烷丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯等。從提高粘接性的角度出發(fā)，尤其優(yōu)選尿烷丙烯酸酯、環(huán)氧丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯。作為環(huán)氧丙烯酸酯，可以使用1，6-環(huán)己二醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、烯丙醇二縮水甘油醚、間苯二酚二縮水甘油醚、己二酸二縮水甘油醚、鄰苯二甲酸二縮水甘油醚、聚乙二醇二縮水甘油醚、三甲氧基丙烷三縮水甘油醚、甘油三縮水甘油醚、季戊四醇四縮水甘油醚、山梨糖醇四縮水甘油醚等的(甲基)丙烯酸加成物。環(huán)氧丙烯酸酯之類的分子中具有羥基的聚合物，在提高粘接性上是有效的。這些共聚樹脂，必要時(shí)可以兩種以上并用。
在本發(fā)明的實(shí)施方式中，接地部分5將導(dǎo)體4四周完全包圍，用同一種材料形成接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501和導(dǎo)體4，使接地部分5與導(dǎo)體4形成一體。其中，也可以用不同材料形成接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501和導(dǎo)體。如圖2(圖1中符號(hào)2所示區(qū)域內(nèi)接地部分的放大平面圖)所示，接地部分(本實(shí)施方式的第一種結(jié)構(gòu))5的導(dǎo)體區(qū)501，呈沿著導(dǎo)體4四周以預(yù)定間隔規(guī)則排列的方形幾何圖案。導(dǎo)體不存在區(qū)510，呈與此導(dǎo)體區(qū)501相反的形狀。如圖1和圖2所示，這里導(dǎo)體區(qū)501的方形幾何圖案與導(dǎo)體不存在區(qū)510的方形幾何圖案恰好呈相反形狀關(guān)系，使接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501面積，比導(dǎo)體不存在區(qū)510的面積大。
在接地部分5的面積(導(dǎo)體區(qū)501的面積與導(dǎo)體不存在區(qū)510的面積之和)中，導(dǎo)體區(qū)501所占的比例越小，導(dǎo)體不存在區(qū)510所占的比例越大，越能減小波紋度。然而導(dǎo)體區(qū)501面積小的場合下，由于接地部分5與顯示器殼體或顯示器本體(后述)接地部分之間接觸面積小，使電磁波吸收路徑(將電磁波轉(zhuǎn)換成電能的吸收路徑)的電阻增加，所以有降低作為基本性能的電磁波屏蔽特性之虞。因此接地部分5必須同時(shí)滿足兩方面的條件。
例如，將接地部分5寬度t尺寸(參照附圖1和附圖2)設(shè)定5～15毫米范圍內(nèi)的場合下，在具有5～100毫米，優(yōu)選10～50毫米長度方形幾何圖案導(dǎo)體區(qū)501之間，排列形成例如1毫米寬度溝槽狀導(dǎo)體不存在區(qū)。本實(shí)施方式涉及接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501，通過部分除去區(qū)域501而得以細(xì)化和等間隔排列。
電磁波屏蔽膜1中導(dǎo)體4的開口率，在無損本來“可視”的條件下為提高電磁波屏蔽特性而設(shè)定在50～98％范圍內(nèi)，優(yōu)選70～98％范圍內(nèi)，最好在80～98％范圍內(nèi)。例如導(dǎo)體4中若線寬和線間間距分別設(shè)定在5微米和250微米網(wǎng)格狀幾何圖案，則可以獲得96％開口率。而且在線寬和線間間距分別設(shè)定在17微米和250微米網(wǎng)格狀幾何圖案的場合下可以得到86.8％的開口率，在線寬和線間間距分別設(shè)定在5微米和300微米網(wǎng)格狀幾何圖案的場合下可以得到96.7％的開口率，在線寬和線間間距分別設(shè)定在17微米和300微米網(wǎng)格狀幾何圖案的場合下可以得到89％的開口率。
本發(fā)明實(shí)施方式所涉及的電磁波屏蔽膜1，可以制成作顯示器前面板或其部分構(gòu)成部件用的電磁波屏蔽組件6。即如圖3A所示，電磁波屏蔽組件6，具有上述的電磁波屏蔽膜1、電磁波屏蔽膜1的至少導(dǎo)體4上的保護(hù)膜61。保護(hù)膜61可以使用脫模性保護(hù)膜，這種脫模性保護(hù)膜使用時(shí)能適當(dāng)剝離。保護(hù)膜也可以是永久層疊品。
在導(dǎo)體4和保護(hù)膜61之間可以有粘結(jié)劑。粘結(jié)劑可以使用與上述的粘結(jié)劑3同樣的粘結(jié)劑。而且保護(hù)膜61不僅在一面，而且也可以在兩面(導(dǎo)體4上和透明基材2下)設(shè)置。
電磁波屏蔽組件6，如圖3B所示，可以由反射防止膜65、反射防止膜上65上的近紅外線吸收膜66、近紅外線吸收膜66上的透明基材(第一透明基材)67、透明基材67上的電磁波屏蔽膜1和電磁波屏蔽膜1至少導(dǎo)體4上的保護(hù)膜61構(gòu)成。即圖3B所示的電磁波屏蔽組件6，是附圖3A所示的電磁波屏蔽組件6另外具有反射防止膜65、近紅外線吸收膜66和透明基材67的組件。電磁波屏蔽膜1，如上所述，具有透明基材(這里是指第二透明基材)2、透明基材2上具有網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體4、以及設(shè)置在導(dǎo)體4周邊區(qū)具有導(dǎo)體區(qū)501和導(dǎo)體不存在區(qū)510的接地部分5。
圖中雖未示出，但是在放射防止反射膜65和近紅外線吸收膜66之間，以及在近紅外線吸收膜66與透明基材67之間都有與上述粘結(jié)劑3同樣的粘結(jié)劑，將其互相連接在一起。而且透明基材67實(shí)際上可以使用透明玻璃板或塑料板。
上述的電磁波屏蔽組件6，如圖4所示，構(gòu)成將電磁波屏蔽膜1安裝在顯示器上用的前面板7。前面板7至少由具有上述電磁波屏蔽膜1的電磁波屏蔽組件6、設(shè)置在電磁波屏蔽組件6周邊部分的安裝夾具71、和通過安裝夾具71將電磁波屏蔽組件6嵌入的前面板殼體(框或邊框)70組成。
安裝夾具71，如圖4、圖5和圖7所示，由沿著電磁波屏蔽組件6周邊以預(yù)定間隔排列設(shè)置的數(shù)個(gè)夾具711，和將這數(shù)個(gè)夾具711相互連接的連接體712構(gòu)成。夾具711具有依靠適當(dāng)彈力將電磁波屏蔽組件6的前面和里面夾緊，能與電磁波屏蔽膜1的接地部分實(shí)現(xiàn)電接觸的突出形狀。夾具711由于至少必須基本上具有電導(dǎo)性和彈性，所以優(yōu)選尺寸應(yīng)當(dāng)用上述的金屬材料或合金材料制成。夾具711和連接體712，既可以形成一體，也可以分別形成后再結(jié)合，兩種結(jié)構(gòu)均可。
前面板殼體70，具有與電磁波屏蔽組件6的平面形狀相似的形狀，周邊有將電磁波屏蔽組件6嵌入用的邊緣部分701，并且在與電磁波屏蔽膜1導(dǎo)體4對(duì)應(yīng)的中央部分有開口部分702。前面板殼體70可以用容易成形的樹脂、金屬或合金制成。
如圖8所示，本發(fā)明實(shí)施方式涉及的顯示器8，由顯示器模塊81，和安裝在顯示器模塊81上，具體講安裝在顯示器81畫面上的前面板7(或電磁波屏蔽膜1或電磁波屏蔽組件6)構(gòu)成。
在本發(fā)明實(shí)施方式涉及的顯示器8中，顯示器模塊81可以使用等離子顯示器模塊。其詳細(xì)構(gòu)造在這里雖然省略，但是等離子顯示器模塊，至少具有等離子顯示屏和內(nèi)藏此等離子顯示屏的顯示器殼體，在等離子顯示屏和內(nèi)藏此等離子顯示屏的顯示器殼體上，通過前面板7的安裝夾具71，使電磁波屏蔽膜1的接地部分5接地。利用顯示器模塊81背面的螺旋夾等將前面板7固定在顯示器模塊81上。
其中在本發(fā)明的實(shí)施方式中，顯示器8的顯示器模塊81不僅可以是等離子顯示器模塊，而且還可以是陰極射線管顯示器、液晶顯示器或電致發(fā)光顯示器等模塊。
如圖9所示，在電磁波屏蔽膜1中，第二種結(jié)構(gòu)的接地部分5具有以預(yù)定間隔按行列狀規(guī)則排列的矩形幾何圖案，即網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體區(qū)501，和與此導(dǎo)體區(qū)呈相反形狀的導(dǎo)體不存在區(qū)510。其中與第一種結(jié)構(gòu)同樣，接地部分5導(dǎo)體區(qū)501的面積，應(yīng)當(dāng)設(shè)定得比導(dǎo)體不存在區(qū)510面積大。
此外在接地部分5形成的導(dǎo)體區(qū)501和導(dǎo)體4的形狀，應(yīng)能使導(dǎo)體區(qū)501和導(dǎo)體4實(shí)現(xiàn)電連接。而且導(dǎo)體區(qū)501被導(dǎo)體不存在區(qū)510所細(xì)化，以等間隔排列，被細(xì)化的導(dǎo)體區(qū)501朝右方傾斜的一列(或者朝左方傾斜的一列)，由連接導(dǎo)體區(qū)502實(shí)現(xiàn)互相電連接。
例如，將接地部分5的寬度t(參照附圖1和附圖9。自后述的第三種結(jié)構(gòu)以后寬度尺寸相同)設(shè)定為5～15毫米范圍內(nèi)的場合下，可以使導(dǎo)體區(qū)501一邊形成5～100毫米，優(yōu)選10～50毫米長，導(dǎo)體區(qū)502形成2毫米寬度，導(dǎo)體不存在區(qū)510形成1毫米的寬度。
本實(shí)施方式涉及接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501，被導(dǎo)體不存在區(qū)510所細(xì)化并以等間隔排列成不連續(xù)的形狀，但是在導(dǎo)體區(qū)501相互間必須實(shí)現(xiàn)電連接的場合下，也可以同時(shí)具有沿導(dǎo)體4周邊延伸的例如2毫米寬的帶狀導(dǎo)體區(qū)(圖中未示出，但是可以參照后述第五種結(jié)構(gòu)的接地部分5)，即具有部分連續(xù)的形狀。
如圖10所示，電磁波屏蔽膜1中第三種結(jié)構(gòu)的接地部分5，由沿長度方向以預(yù)定間隔設(shè)置的狹縫狀導(dǎo)體不存在區(qū)510，和通過設(shè)置此導(dǎo)體不存在區(qū)510而形成的梳形導(dǎo)體區(qū)501所構(gòu)成。導(dǎo)體不存在區(qū)510自導(dǎo)體4朝其外側(cè)方向設(shè)置，這種導(dǎo)體不存在區(qū)510的狹縫寬度設(shè)定例如為1毫米。導(dǎo)體區(qū)501的長度(導(dǎo)體不存在區(qū)510的長度)設(shè)定為5～100毫米，優(yōu)選10～50毫米。通過將導(dǎo)體區(qū)501制成這種梳形能使其具有連續(xù)形狀。
如圖11所示，電磁波屏蔽膜1中第四種結(jié)構(gòu)的接地部分5，由沿長度方向以預(yù)定間隔設(shè)置的狹縫狀導(dǎo)體不存在區(qū)510，和通過設(shè)置此導(dǎo)體不存在區(qū)510而形成梳形的導(dǎo)體區(qū)501所構(gòu)成。附圖11所示的第四種結(jié)構(gòu)接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501，相對(duì)于附圖10所示第三種結(jié)構(gòu)接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501，以上下相反方向形成，導(dǎo)體不存在區(qū)510自外側(cè)朝導(dǎo)體4側(cè)方向設(shè)置。
如圖12所示，電磁波屏蔽膜1中第五種結(jié)構(gòu)的接地部分5，由沿長度方向以預(yù)定間隔互相相反設(shè)置的狹縫狀導(dǎo)體不存在區(qū)510，和通過設(shè)置此導(dǎo)體不存在區(qū)510而形成的曲折導(dǎo)體區(qū)501所構(gòu)成。導(dǎo)體不存在區(qū)510具有，自導(dǎo)體4朝著其外側(cè)方向設(shè)置的，以及反之從外側(cè)向?qū)w側(cè)設(shè)置的兩種區(qū)域。導(dǎo)體不存在區(qū)510的狹縫寬度和導(dǎo)體區(qū)501的長度，分別與第三種或第四種結(jié)構(gòu)的接地部分相同。通過將導(dǎo)體區(qū)501制成這種曲折形狀能使其具有連續(xù)形狀。
如圖13所示，電磁波屏蔽膜1中第六種結(jié)構(gòu)的接地部分5，由沿長度方向以預(yù)定間隔規(guī)則排列的平行四邊形圖案的導(dǎo)體區(qū)501，和設(shè)置在此導(dǎo)體區(qū)501之間呈斜線狀圖案的導(dǎo)體不存在區(qū)510所構(gòu)成。導(dǎo)體不存在區(qū)510，在圖13中具有向右上方傾斜的形狀。導(dǎo)體不存在區(qū)510的斜線寬度，與第三種或第四種結(jié)構(gòu)接地部分5的導(dǎo)體不存在區(qū)510的狹縫寬度相同。而且導(dǎo)體區(qū)501的長度，也與第三種或第四種結(jié)構(gòu)接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501長度相同。
如圖14所示，電磁波屏蔽膜1中第七種結(jié)構(gòu)的接地部分5，與附圖13所示的第六種接地部分5相似，由沿長度方向以預(yù)定間隔規(guī)則排列的平行四邊形導(dǎo)體圖案的區(qū)501，和設(shè)置在此導(dǎo)體區(qū)501之間呈斜線狀圖案的導(dǎo)體不存在區(qū)510所構(gòu)成。導(dǎo)體不存在區(qū)510，在圖14中具有向右下方傾斜的形狀，形成一種與第六種結(jié)構(gòu)接地部分5的導(dǎo)體不存在區(qū)510呈左右相反的形狀。
如圖15所示，電磁波屏蔽膜1中第八種結(jié)構(gòu)的接地部分5，由沿長度方向以預(yù)定間隔規(guī)則排列的狹縫狀圖案的導(dǎo)體不存在區(qū)510，和通過設(shè)置此導(dǎo)體不存在區(qū)510而形成的梯狀導(dǎo)體區(qū)501所構(gòu)成。導(dǎo)體不存在區(qū)510被設(shè)置在接地部分5的中央部分，以便將導(dǎo)體區(qū)501設(shè)置在導(dǎo)體4的周邊和接地部分5周邊。導(dǎo)體不存在區(qū)510的狹縫寬度，和導(dǎo)體區(qū)501的長度，分別與第三種或第四種結(jié)構(gòu)接地部分5的相同。導(dǎo)體區(qū)501通過這種制成梯狀能使其成部分連續(xù)形狀，在導(dǎo)體4周圍全部區(qū)域?qū)崿F(xiàn)相互電連接。
如圖16所示，電磁波屏蔽膜1中第九種結(jié)構(gòu)的接地部分5，由網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體區(qū)501，和與此導(dǎo)體區(qū)501成相反方形幾何圖案的導(dǎo)體不存在區(qū)510所構(gòu)成。附圖16所示的這種第九種結(jié)構(gòu)的接地部分5，與附圖9所示的第二種結(jié)構(gòu)接地部分5之間恰好形狀相反。
以下簡單說明本發(fā)明實(shí)施方式所涉及電磁波屏蔽膜1的基本制造方法。這里僅說明具有第一種結(jié)構(gòu)接地部分5的電磁波屏蔽膜1的制造方法，而具有第二至第九種結(jié)構(gòu)接地部分5的電磁波屏蔽膜的制造方法，也基本相同。
(1)首先準(zhǔn)備透明基材2，用粘結(jié)劑3將金屬層貼合在此透明基材上2。這種金屬層的層疊，可以采用通過粘結(jié)劑3將金屬箔貼合在透明基材2上的方法。粘結(jié)劑3，可以涂布在透明基材2和金屬箔的一面或兩面上，涂布后經(jīng)干燥使之粘接。涂布方法和干燥方法沒有特別限制，可以使用公知方法。粘接方法也沒有特別限制，實(shí)際上可以使用例如沖壓法、輥層疊法、壓熱器法。考慮到操作性和經(jīng)濟(jì)性，粘接方法最好采用輥壓層疊法。
而且金屬層的層疊也可以采用在粘結(jié)劑層上層疊金屬層的方法，即利用真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法、化學(xué)氣相沉積法、無電解電鍍法等成膜技術(shù)中一種或兩種以上組合的方法，在粘結(jié)劑層上層疊金屬層。這些方法能容易地使金屬層薄膜化。而且采用這些方法即使沒有粘結(jié)劑3也能在透明基材2上形成金屬層。
本實(shí)施方式中導(dǎo)體4和接地部分5用同一種金屬箔形成。
(2)接著在層疊的金屬層上形成網(wǎng)格狀幾何圖案制成導(dǎo)體4，在其周邊殘留接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501，除去與導(dǎo)體不存在區(qū)502相當(dāng)部分的金屬層。
這種網(wǎng)格狀幾何圖案，從提高加工精度和加工效率的角度來看，優(yōu)選采用顯微平板印刷法(microlithograph)制作。
這里所說的網(wǎng)格狀幾何圖案，是指以正三角形、等腰三角形、直角三角形等三角形，正方形、長方形、菱形、平行四邊形、梯形等四角形，六角形(含正六角形)、八角形(含正八角形)、十二角形(含十二角形)、二十角形(含二十角形)等n角形(含正n角形)，圓形、橢圓形、星形等單種圖案或數(shù)種組合圖案作基本單位，反復(fù)排列形成的圖案。
所說的顯微平板印刷法有光刻法、X-射線平板印刷法、陰極射線平板印刷法、離子束平板印刷法等，此外還包括絲網(wǎng)印刷法。其中光刻法最簡便而且批量生產(chǎn)性也優(yōu)良。此外采用化學(xué)腐蝕法的光刻法，因其簡便性和經(jīng)濟(jì)性優(yōu)良，而且能夠得到高加工精度而最為適用。
光刻法中除化學(xué)腐蝕法之外，還可以使用無電解電鍍法或電鍍法，或者組合使用無電解電鍍法、電鍍法和化學(xué)腐蝕法，在導(dǎo)體4上形成網(wǎng)格狀幾何圖案。
使用熱塑性樹脂作為粘結(jié)劑3的場合下，用顯微平板印刷法加工金屬箔，即使在形成網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體4和接地部分導(dǎo)體區(qū)501后也能殘留粘接性。
粘結(jié)劑3使用熱固性粘結(jié)劑的場合下，在上述(1)中貼合金屬箔后通過加熱，或者通過邊貼合邊加熱能使之固化。但是在不固化或者將固化度抑制低(優(yōu)選使固化度小于60％)的條件下，利用顯微平板印刷法加工金屬箔，在網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體4及接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501形成后，也能殘留粘接性。用DSC(差示量熱計(jì))，用部分固化后熱吸收峰高度與相同材料固化前熱吸收峰高度之比可以求出固化度。
粘結(jié)劑3使用活性能量射線固化性粘結(jié)劑的場合下，在金屬箔貼合后通過從透明基材側(cè)照射活性能量射線能使之固化。但是不固化或者將固化度抑制低的場合下，利用顯微平板印刷法加工金屬箔，形成網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體4及接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501后，也能殘留粘接性。
(3)在網(wǎng)格狀幾何圖案導(dǎo)體4形成的同時(shí)，可以在接地部分5形成導(dǎo)體區(qū)501和導(dǎo)體不存在區(qū)510。其中，網(wǎng)格狀幾何圖案導(dǎo)體4的形成工序與接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501和導(dǎo)體不存在區(qū)510的形成工序也能用另外工序進(jìn)行。而且網(wǎng)格狀幾何圖案導(dǎo)體4與接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501和導(dǎo)體不存在區(qū)510在各自基材上形成后，利用將其結(jié)合的方法也能形成本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜1。導(dǎo)體4優(yōu)選實(shí)施黑化處理。黑化處理可以在網(wǎng)格狀幾何圖案形成前后進(jìn)行，但是通常優(yōu)選在形成后進(jìn)行。
對(duì)于在透明基材2上形成導(dǎo)體4和接地部分5導(dǎo)體區(qū)501的方法而言，可以采用在透明基材2上形成與導(dǎo)體4和接地部分5導(dǎo)體區(qū)501具有相反圖案的掩膜，使用這種掩膜，采用真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法、化學(xué)沉氣相積法、無電解電鍍法等成膜技術(shù)中的一種或兩種以上組合方法，在透明基材2上形成金屬膜層。這種場合下，即使事先形成粘結(jié)劑3，也能使金屬層粘接在透明基材2上。
而且，也可以用絲網(wǎng)印刷法等其他方法，將分散有導(dǎo)電性金屬粉末、導(dǎo)電性碳粉等的樹脂、具有導(dǎo)電性的樹脂或由其組合物等組成的導(dǎo)電性油墨或?qū)щ娦杂袡C(jī)材料印刷在透明基材2上，形成網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體4和接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501。
實(shí)施例以下說明本發(fā)明的具體實(shí)施例(第一實(shí)施例至第三實(shí)施例)和對(duì)照例(第一對(duì)照例和第二對(duì)照例)，并說明二者特性的比較結(jié)果。
第一實(shí)施例室溫下，在作透明基材2用的100微米厚聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(ュニチカ株式會(huì)社制造，商品名“エンブレツトS”)上，用涂裝機(jī)涂布作粘結(jié)劑3用的商品名為“バイロンUR-1400”(東洋紡績株式會(huì)社制造，聚酯樹脂)，并將其干燥，使干燥后的涂層厚度達(dá)到30微米。在150℃和20千克力/平方厘米條件下，用這種粘結(jié)劑3使將要變成導(dǎo)體4和接地部分5導(dǎo)體區(qū)501的厚度18微米銅箔(ジヤパンエナジ-株式會(huì)社制造，商品名“BHY-22B-T”)，以其粗化面對(duì)著粘結(jié)劑3側(cè)輥壓層疊在上述透明基材2上，制成層疊有導(dǎo)體4和接地部分5的膜。
利用光刻工序使這種膜的導(dǎo)體4上形成線寬25微米、線間隔250微米的網(wǎng)格狀幾何圖案，進(jìn)而在周邊存在的接地部分5形成附圖17所示網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體區(qū)501，和與此導(dǎo)體區(qū)501成相反形狀方形幾何圖案的導(dǎo)體不存在區(qū)510。附圖17所示的接地部分5，與上面附圖16所示的第九種結(jié)構(gòu)的接地部分相同。與導(dǎo)體4線寬相當(dāng)?shù)慕拥夭糠?的導(dǎo)體區(qū)501長度L1設(shè)定為2毫米，與導(dǎo)體4線間隔相當(dāng)?shù)膶挾萕1設(shè)定為10毫米。接地部分5的寬度t設(shè)定為12毫米。光刻工序還至少包括涂光刻膠(DFR)工序、曝光工序、顯影工序、化學(xué)腐蝕工序和光刻膠剝離工序。
化學(xué)腐蝕后的粘結(jié)劑3表面，因銅箔粗化面的轉(zhuǎn)寫而變成不透明。為了賦予透明性，將接地部分5導(dǎo)體區(qū)501的銅箔表面與附有粘結(jié)劑的PET膜的粘結(jié)劑3表面合在一起，在120℃和5千克力/平方厘米條件下熱壓，制成有第一種結(jié)構(gòu)的電磁波屏蔽膜1。
第二實(shí)施例在與上述第一實(shí)施例涉及的具有第一種結(jié)構(gòu)的電磁波屏蔽膜1同樣條件下，形成了具有網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體4，以及具有附圖18所示方形幾何圖案的導(dǎo)體區(qū)501和狹縫狀圖案的導(dǎo)體不存在區(qū)510的接地部分5。附圖18所示的接地部分5與附圖2所示第一種結(jié)構(gòu)的接地部分5相同。與導(dǎo)體4線寬相當(dāng)?shù)慕拥夭糠?導(dǎo)體區(qū)501的長度L2設(shè)定為100毫米，與導(dǎo)體4線間隔相當(dāng)?shù)莫M縫寬度W2設(shè)定為5毫米。
化學(xué)腐蝕后的粘結(jié)劑3表面，同樣因銅箔粗化面的轉(zhuǎn)寫而變成不透明。為了賦予透明性，將接地部分5導(dǎo)體區(qū)501的銅箔表面與附有粘結(jié)劑的PET膜的粘結(jié)劑3表面合在一起，在120℃和5千克力/平方厘米條件下熱壓，制成有第二種結(jié)構(gòu)的電磁波屏蔽膜1。
第三實(shí)施例在與上述第一實(shí)施例涉及的有第一種結(jié)構(gòu)的電磁波屏蔽膜1同樣條件下，形成有網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體4，以及具有附圖19所示梳形圖案的導(dǎo)體區(qū)501和狹縫狀圖案的導(dǎo)體不存在區(qū)510的接地部分5。附圖19所示的接地部分5與附圖10所示第三種結(jié)構(gòu)接地部分5相同。與導(dǎo)體4線寬相當(dāng)?shù)慕拥夭糠?導(dǎo)體區(qū)501的長度L3設(shè)定為100毫米，與導(dǎo)體4線間隔相當(dāng)?shù)莫M縫寬度W3設(shè)定為5毫米，導(dǎo)體不存在區(qū)510的長度t1設(shè)定為2毫米。
化學(xué)腐蝕后的粘結(jié)劑3表面，同樣因銅箔粗化面的轉(zhuǎn)寫而變成不透明。為了賦予透明性，將接地部分5導(dǎo)體區(qū)501的銅箔表面與附有粘結(jié)劑的PET膜的粘結(jié)劑3表面合在一起，在120℃和5千克力/平方厘米條件下熱壓，制成有第三種結(jié)構(gòu)的電磁波屏蔽膜1。
第一對(duì)照例在與上述第一實(shí)施例涉及的具有第一種結(jié)構(gòu)的電磁波屏蔽膜1同樣條件下，形成了具有網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體4，以及具有附圖20所示全部區(qū)域均為導(dǎo)體區(qū)(沒有導(dǎo)體不存在區(qū))的接地部分50。接地部分50的寬度t同樣設(shè)定為12毫米。
化學(xué)腐蝕后的粘結(jié)劑3表面，同樣因銅箔粗化面的轉(zhuǎn)寫而變成不透明。為了賦予透明性，將接地部分50的銅箔表面與附有粘結(jié)劑的PET膜的粘結(jié)劑3表面合在一起，在120℃和5千克力/平方厘米條件下熱壓，制成具有第四種結(jié)構(gòu)的電磁波屏蔽膜。
第二對(duì)照例在與上述第一實(shí)施例涉及的具有第一種結(jié)構(gòu)的電磁波屏蔽膜1同樣條件下，形成了具有網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體4，以及與具有附圖21所示導(dǎo)體4相同的網(wǎng)格狀幾何圖案，即線寬25微米、線間隔250微米的網(wǎng)格狀幾何圖案的接地部分51。接地部分51的寬度t同樣設(shè)定為12毫米。
化學(xué)腐蝕后的粘結(jié)劑3表面，同樣因銅箔粗化面的轉(zhuǎn)寫而變成不透明。為了賦予透明性，將接地部分51的銅箔表面與附有粘結(jié)劑的PET膜的粘結(jié)劑3表面合在一起，在120℃和5千克力/平方厘米條件下熱壓，制成具有第五種結(jié)構(gòu)的電磁波屏蔽膜。
就上述實(shí)施例1至實(shí)施例3得到的第一種結(jié)構(gòu)至第三種結(jié)構(gòu)的電磁波屏蔽膜1，與第一對(duì)照例和第二對(duì)照例得到的第四種結(jié)構(gòu)和第五種結(jié)構(gòu)的電磁波屏蔽膜，測定了電磁波(EMI)屏蔽性、可見光透過率和波紋度特性，測定結(jié)果示于附圖22之中。附圖22同時(shí)分別表示接地部分5導(dǎo)體區(qū)501的面積比例、接地部分50的面積比例和接地部分51的面積比例。
電磁波屏蔽性的測定值，是把樣品強(qiáng)力夾持在同軸波導(dǎo)管變換器(日本高周波株式會(huì)社制造，商品名“TWC-S--24”)的凸緣之間，用光譜分析儀(YHP制造，商品名“8510Bベクトルネツトワ-クアナライザ-”)，在1GHz頻率下測定的數(shù)值。
可見光透過率的測定值，是用雙光束分光光度計(jì)(株式會(huì)社日立制作所制造，商品名“200-10型”)測定380～780nm波長光線透過率數(shù)值的平均值。
波紋度的測定值，是在波紋狀波形頂點(diǎn)之間的間隔(間距)和波形的高度中任取9點(diǎn)測定數(shù)值的平均值。
如圖22所示，第一種結(jié)構(gòu)至第三種結(jié)構(gòu)(實(shí)施例1至實(shí)施例3)的電磁波屏蔽膜1，能夠得到51～56db范圍內(nèi)較高的電磁波屏蔽特性，同時(shí)還能得到71～72％范圍內(nèi)足夠的可見光透過率。此外，這種電磁波屏蔽膜1波紋度周期達(dá)7厘米以上，而且波紋高度被抑制到10毫米以下。也就是說，接地部分5的波紋度能夠減小到實(shí)用上沒有問題的水平。
與此相比，對(duì)照例1涉及的第四種結(jié)構(gòu)的電磁波屏蔽膜，雖然能夠得到與第一種結(jié)構(gòu)至第三種結(jié)構(gòu)電磁波屏蔽膜1同樣高的電磁波屏蔽特性和可見光透過率，但是其波紋度周期卻縮短到4.7厘米，而且波紋高度達(dá)18毫米。也就是說根據(jù)測定結(jié)果可以得出，接地部分50產(chǎn)生了相當(dāng)高的波紋。
第一對(duì)照例中的電磁波屏蔽膜，按照本試驗(yàn)方法將接地部分強(qiáng)力夾持在試驗(yàn)裝置的凸緣之間也能獲得預(yù)期的電磁波屏蔽效果。然而，這種接地部分極強(qiáng)的接合，不能說是一種實(shí)用的并能在商業(yè)上批量生產(chǎn)的接合方法。具有第一對(duì)照例那種波紋度的，例如使通常用粘結(jié)劑將電磁波屏蔽膜貼合在玻璃板上得到的前面板與內(nèi)藏等離子顯示器模塊的顯示器殼體，在接地部分分別采用通常方法結(jié)合的場合下，與同樣使用沒有波紋的電磁波屏蔽膜(例如實(shí)施例1制備的)的場合相比，電磁波屏蔽特性相差10％左右。
此外，第二對(duì)照例涉及的第五種結(jié)構(gòu)的電磁波屏蔽膜，與第一種結(jié)構(gòu)至第三種結(jié)構(gòu)的電磁波屏蔽膜1同樣，雖然能夠得到高可見光透過率，且波紋周期達(dá)7厘米以上，而且能夠?qū)⒉y高度抑制在10毫米以下，但是卻不能獲得充分的電磁波屏蔽特性。
綜上所述，本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜1，由于接地部分5具有導(dǎo)體不存區(qū)510，所以能使導(dǎo)體區(qū)501自由伸縮，防止接地部分5波紋度。
此外，本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜1，通過適當(dāng)調(diào)節(jié)導(dǎo)體區(qū)501在接地部分5全部面積中所占的比例，不但能最大限度提高電磁波屏蔽特性，而且還能將接地部分5的波紋度抑制得最小。
不僅如此，本發(fā)明實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜1，僅僅利用改變接地部分5導(dǎo)體區(qū)501的平面圖案、導(dǎo)體不存在區(qū)510的平面圖案、或者二者的平面圖案，就能在簡單地使電磁波屏蔽特性提高的同時(shí)，防止波紋度。
(其他實(shí)施方式)本發(fā)明雖然是用上面幾個(gè)實(shí)施方式說明的，但是不應(yīng)當(dāng)將作為本公開一部分的論述和附圖視為對(duì)本發(fā)明的限制。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員根據(jù)這些公開可以做出各種替代實(shí)施方式、實(shí)施例和應(yīng)用技術(shù)。
例如上述實(shí)施方式涉及的電磁波屏蔽膜1，雖然是就接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501和導(dǎo)體不存區(qū)510分別以同一種排列形式交互設(shè)置的方案說明的，但是本發(fā)明并不限于此。例如，本發(fā)明可以在具有相同長度方形幾何圖案的數(shù)個(gè)導(dǎo)體區(qū)501的每個(gè)區(qū)內(nèi)，各設(shè)置長度不同的其他導(dǎo)體區(qū)。而且，本發(fā)明也可以在具有相同狹縫寬度圖案的數(shù)個(gè)導(dǎo)體不存在區(qū)510的每個(gè)區(qū)內(nèi)，各設(shè)置狹縫寬度不同的其他導(dǎo)體不存在區(qū)。
此外，本發(fā)明可以使電磁波屏蔽膜1接地部分5的導(dǎo)體區(qū)501和導(dǎo)體不存在區(qū)510，分別形成三角形、四角形以上多角形、橢圓形、圓形、星形等圖案。
總之本發(fā)明當(dāng)然包括這里所沒有記載的各種實(shí)施方式等。因此，通過上述說明，本發(fā)明的技術(shù)范圍僅由適當(dāng)?shù)臋?quán)利要求中涉及的特定事項(xiàng)所決定。
本發(fā)明可以提供一種能防止接地部分產(chǎn)生波紋，提高接地部分平坦性的電磁波屏蔽膜。
而且本發(fā)明也可以提供一種能提高電磁波屏蔽特性，同時(shí)還能防止對(duì)顯示器本體產(chǎn)生損傷的電磁波屏蔽膜。
此外本發(fā)明可以提供一種能獲得上述效果的電磁波屏蔽組件。
最后本發(fā)明可以提供一種能獲得上述效果的顯示器。
權(quán)利要求
1.一種電磁波屏蔽膜，其特征在于具有透明基材，所說的透明基材上具有網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體，以及設(shè)置在導(dǎo)體周邊區(qū)域、具有導(dǎo)體區(qū)和導(dǎo)體不存在區(qū)的接地部分。
2.按照權(quán)利要求1記載的電磁波屏蔽膜，其特征在于所說的導(dǎo)體區(qū)占有率，相對(duì)于所說的接地部分全部面積設(shè)定在30％～99％范圍內(nèi)。
3.按照權(quán)利要求1記載的電磁波屏蔽膜，其特征在于所說的導(dǎo)體區(qū)占有率，相對(duì)于所說的接地部分全部面積設(shè)定在60％～99％范圍內(nèi)。
4.按照權(quán)利要求1記載的電磁波屏蔽膜，其特征在于所說的導(dǎo)體區(qū)占有率，相對(duì)于所說的接地部分全部面積設(shè)定在65％～97％范圍內(nèi)。
5.按照權(quán)利要求1～4中任何一項(xiàng)記載的電磁波屏蔽膜，其特征在于所說的接地部分中導(dǎo)體區(qū)，由下述(1)至(10)中任何一種圖案形成，或者由其中復(fù)數(shù)圖案組合形成(1)梳形圖案(2)以預(yù)定間隔規(guī)則排列的方形幾何圖案(3)曲折形圖案(4)以預(yù)定間隔規(guī)則排列的平行四邊形圖案(5)梯狀圖案(6)網(wǎng)格狀幾何圖案(7)三角形圖案(8)五角形以上多角形圖案(9)圓形或橢圓形圖案(10)星形圖案。
6.按照權(quán)利要求1～4中任何一項(xiàng)記載的電磁波屏蔽膜，其特征在于其中所說的導(dǎo)體和所說的接地部分的導(dǎo)體區(qū)，用粘結(jié)劑設(shè)置在所說的透明基材上。
7.按照權(quán)利要求1記載的電磁波屏蔽膜，其特征在于其中所說的導(dǎo)體區(qū)的開口率設(shè)定在50％～98％范圍內(nèi)。
8.按照權(quán)利要求6記載的電磁波屏蔽膜，其特征在于其中所說的透明基材是透明塑料，所說的導(dǎo)體和所說的接地部分導(dǎo)體區(qū)是金屬或合金，所說的粘結(jié)劑是聚合物系粘結(jié)劑。
9.按照權(quán)利要求8記載的電磁波屏蔽膜，其特征在于其中所說的接地部分導(dǎo)體區(qū)的膜厚在3微米以上。
10.按照權(quán)利要求8或9記載的電磁波屏蔽膜，其特征在于其中所說的接地部分導(dǎo)體區(qū)的膜厚在40微米以上。
11.一種電磁波屏蔽組件，其特征在于其中具有透明基材，所說的透明基材上的具有網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體，設(shè)置在所說的導(dǎo)體周邊區(qū)域并具有導(dǎo)體區(qū)和導(dǎo)體不存在區(qū)的接地部分的電磁波屏蔽膜，以及所說的電磁波屏蔽膜的至少導(dǎo)體上的保護(hù)膜。
12.一種電磁波屏蔽組件，其特征在于其中具有反射防止膜，所說的反射防止膜上的近紅外線吸收膜，所說的近紅外線吸收膜上的第一透明基材，具有所說的第一透明基材上的第二透明基材，所說的第二透明基材上的具有網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體，設(shè)置在所說的導(dǎo)體周邊、具有導(dǎo)體區(qū)和導(dǎo)體不存在區(qū)的接地部分的電磁波屏蔽膜，以及所說的電磁波屏蔽膜的至少導(dǎo)體上的保護(hù)膜。
13.按照權(quán)利要求11或12記載的電磁波屏蔽組件，其特征在于其中所說的導(dǎo)體區(qū)占有率，相對(duì)于所說的電磁波屏蔽膜接地部分全部面積設(shè)定在30％～99％范圍內(nèi)。
14.按照權(quán)利要求11或12記載的電磁波屏蔽組件，其特征在于其中所說的電磁波屏蔽膜接地部分中的導(dǎo)體區(qū)，由下述(1)至(10)中任何一種圖案形成，或者由其中復(fù)數(shù)圖案組合形成(1)梳形圖案(2)以預(yù)定間隔規(guī)則排列的方形幾何圖案(3)曲折形圖案(4)以預(yù)定間隔規(guī)則排列的平行四邊形圖案(5)梯狀圖案(6)網(wǎng)格狀幾何圖案(7)三角形圖案(8)五角形以上多角形圖案(9)圓形或橢圓形圖案(10)星形圖案。
15.一種顯示器，其特征在于其中具有顯示器模塊，和所說的顯示器模塊上的至少有以下(1)和(2)的電磁波屏蔽組件(1)具有所說的顯示器模塊上的透明基材，所說的透明基材上的具有網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體，設(shè)置在所說的導(dǎo)體周邊區(qū)、具有導(dǎo)體區(qū)和導(dǎo)不存在區(qū)的接地部分的電磁波屏蔽膜，(2)所說的電磁波屏蔽膜的至少導(dǎo)體上的保護(hù)膜。
16.一種電磁波屏蔽膜，其特征在于其中具有顯示器模塊，和所說的顯示器模塊上的至少有以下(1)至(5)的電磁波屏蔽組件(1)所說的顯示器模塊上的反射防止膜，(2)所說的反射防止膜上的近紅外線吸收膜，(3)所說的近紅外線吸收膜上的第一透明基材，(4)備有所說的第一透明基材上的第二透明基材，所說的第二透明基材上的具有網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體，設(shè)置在所說的導(dǎo)體周邊區(qū)域、具有導(dǎo)體區(qū)和導(dǎo)不存在區(qū)的接地部分的電磁波屏蔽膜，(5)所說的電磁波屏蔽膜的至少導(dǎo)體上的保護(hù)膜。
17.按照權(quán)利要求16記載的顯示器，其特征在于所說的電磁波屏蔽組件通過安裝夾具安裝在顯示器模塊上。
18.按照權(quán)利要求16記載的顯示器，其特征在于其中所說的顯示器模塊，是等離子顯示器、陰極射線管顯示器、液晶顯示器或電致發(fā)光顯示器的模塊。
全文摘要
電磁波屏蔽膜(1)備有用粘結(jié)劑(3)粘接在透明基材(2)上的具有網(wǎng)格狀幾何圖案的導(dǎo)體(4)，在此導(dǎo)體(4)周圍設(shè)置接地部分(5)。這種接地部分(5)具有吸收電磁波用的導(dǎo)體區(qū)(501)和防止導(dǎo)體區(qū)(501)產(chǎn)生波紋用的導(dǎo)體不存在區(qū)(10)。
文檔編號(hào)H05K9/00GK1457630SQ02800482
公開日2003年11月19日 申請(qǐng)日期2002年2月25日 優(yōu)先權(quán)日2001年3月2日
發(fā)明者高橋宏明, 今泉純一, 中村一, 野村宏 申請(qǐng)人:日立化成工業(yè)株式會(huì)社